東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社半導体製造装置
プロセスエンジニア⑥(ALD/CVD)_山梨
- 勤務地山梨県韮崎市
- デバイス・プロセス・設計プロセスエンジニア
- 工程CVD(化学気相成長)
- 中途
- 正社員
- 年収 400万円〜1,000万円
仕事内容
具体的な業務
- 半導体製造装置のプロセス開発・性能検証業務
- 顧客への装置納入サポートと技術協議
- 差別性機能開発、及びその検証 チームの一員として開発計画通り業務遂行でき、適時軌道修正できる方、また業務を通じて装置・プロセスの問題点を抽出し、改善策を部内外に提案・実行できる方を募集します。
魅力 各種半導体工程向け装置開発を行っています。
部内にメタル膜・絶縁膜向けの多種多様な開発装置を有し、様々なモジュールのプロセスエンジニアが在籍しており、多岐にわたるスキルを身に着けることができます。希望者はWorld wideの最先端の顧客と業務をおこなうことで自身のスキルアップができます。顧客はアジア、北米、EUにあり、語学、交渉スキルも向上させることができます。シェア拡大、競争力向上に向け、部員一丸となって次世代技術開発に取り組んでおり、チャレンジングな目標を持った活発な部署です。
応募条件
必須
- 以下、いづれか1つを満たすこと
- 材料系、理工系、化学系、物理系などの企業の研究開発、量産開発経験者
- 半導体関係従事者、装置メンテナンス経験者、プロセス開発経験者が望ましいが必須ではない(他業種でも可)
- 成膜関連の研究・業務を行っている方
歓迎
- ALD・CVDプロセス開発 1年以上
- 半導体製造装置、絶縁膜プロセス開発 1年以上 ・デバイスメーカー経験、ALD/CVDを用いたデバイスおよびプロセス開発 1年以上
- 半導体向け、プラズマ・機械・材料/素材・化学の開発経験 1年以上
募集要項の原文
必須要件 以下、いづれか1つを満たすこと
- 材料系、理工系、化学系、物理系などの企業の研究開発、量産開発経験者
- 半導体関係従事者、装置メンテナンス経験者、プロセス開発経験者が望ましいが必須ではない(他業種でも可)
- 成膜関連の研究・業務を行っている方 歓迎要件
- ALD・CVDプロセス開発 1年以上
- 半導体製造装置、絶縁膜プロセス開発 1年以上
- デバイスメーカー経験、ALD/CVDを用いたデバイスおよびプロセス開発 1年以上
- 半導体向け、プラズマ・機械・材料/素材・化学の開発経験 1年以上 学歴 高校・高専・大学卒以上、実務経験がある方(理系のみ)
勤務条件
- 勤務地
- 山梨県韮崎市
- 雇用形態
- 正社員
- 給与
- 年収 400万円〜1,000万円年収 4,000,000円 〜 10,000,000円
- 勤務時間
- 8:30~17:15(休憩75分)
- リモート
- 出社勤務
- 勤務帯
- 日勤のみ
- 出張
- 出張あり
- 転勤
- 転勤の可能性あり
休日・休暇
完全週休2日制(土・日)・祝日・年末年始・年次有給休暇(初年度12日)・特別休暇(慶弔休暇/リフレッシュ休暇 他)
※勤務地により一部休日の振替変更があります
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