半導体業界研究
要点
AIが引っ張る半導体市場は、2026年に1兆5,110億ドルへ届く予測です。日本企業のシェアは2025年に5%まで下がりました。日本の強みは半導体を作る道具と材料にあり、前工程装置で23%、後工程素材で64%を握ります。ただし市場の大きい工程ほど日本は弱く、大きい7工程での日本シェアは14.8%です。営業利益率が最も高いのは検査・計測(30.9%)で、半導体メーカーの17.1%を上回ります。
- 2026年の半導体市場(予測)
- 1兆5,110億ドル
- 日本企業の半導体シェア(2025年)
- 5%
- 後工程素材の日本シェア
- 64%
- 検査・計測の営業利益率
- 30.9%
01
業界を動かす6つの法則
個社の売上を見る前に、業界を貫く力学を押さえます。数字はどれも後の章で確かめられます。
-
01
市場の重心は用途が決める
1兆5,110億ドル2026年の半導体市場(予測)
市場を引っ張る用途はPC・液晶テレビ、スマートフォン、AIと替わってきました。2025年の7,960億ドルは、2026年に1兆5,110億ドルへ膨らむ予測です。用途が替わるたびに伸びる品目が替わり、日本企業のシェアは2018年の11%から2025年の5%へ下がりました。米国は60%まで伸ばしています。
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02
独占は一つの工程に宿る
70.3%TSMCの受託製造シェア
TSMCの受託製造70.3%、ASMLの露光装置91%(2023年)、SK hynixのHBM 57.0%、ソニーのイメージセンサ51.0%。代わりの利かない工程を一つ握った会社が、価格の主導権を握ります。
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03
日本は作らせる側にいる
64%後工程素材の日本シェア
半導体そのものの日本シェアは5%です。一方で前工程装置23%、後工程装置46%、検査・自動化工程装置50%、前工程素材49%、後工程素材64%。日本の強みは、他国の工場に欠かせない道具と材料の側にあります。
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04
大きい市場ほど日本は小さい
14.8%大きい7工程での日本シェア
前工程装置を市場規模で二分すると、大きい7工程(市場の86%)の日本シェアは14.8%、小さい7工程では50.7%です。日本が首位の4工程を足しても市場の13%。経済産業省も、市場の大きい製造装置を中心に海外企業へシェアを奪われつつあると書き、「まだ日本は強い」を思い込みと呼んでいます。
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05
利益は代わりの利かなさについてくる
30.9%検査・計測の営業利益率
半導体が売上の過半を占める日本企業の営業利益率は、検査・計測30.9%、製造装置25.6%、半導体メーカー17.1%、材料9.5%、商社4.1%。道具を売る側が、半導体を作る側より稼いでいます。材料は世界シェアが高くても9.5%で、シェアと利益は別の話です。最も高いレーザーテックは48.8%です。
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06
人の需要は工場と装置に集まる
90%半導体メーカーと装置メーカーの求人の割合
求人DBに載る公開求人では、53%が半導体メーカー、37%が装置メーカーです。日本が世界シェア49〜64%を持つ材料は3%。シェアの地図と採用の地図は別物で、転職の入口は工場と装置に多くあります。
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02
最新の勢力図:市場・素子・装置と素材
経済産業省が2026年6月に示した資料から、市場、素子、装置と素材の3段で勢力を読みます。市場は2026年に1兆5,110億ドルへ届く予測で、伸びの大半はAI向けのロジックとメモリです。
世界の半導体市場と、用途の時代
| 地域 | 2018年 | 2022年 | 2025年 |
|---|---|---|---|
| 米国 | 50% | 49% | 60% |
| 日本 | 11% | 9% | 5% |
| 中国 | 2% | 6% | 8% |
| その他 | 38% | 36% | 28% |
素子の9分野:首位と日本の位置
-
ロジック・AI・データセンター・自動運転
プロセッサ
NVIDIA33.2%
2位 Intel 12.7%
日本 上位に入らず
-
受託製造・前工程の受託
ファウンドリ
TSMC70.3%
2位 Samsung 5.6%
日本 ラピダス(量産前)
-
メモリ・データセンター
HBM
SK hynix57.0%
2位 Micron 22.0%
日本 上位に入らず
-
メモリ・メインメモリ
DRAM
SK hynix35.2%
2位 Samsung 33.8%
日本 上位に入らず
-
メモリ・SSD・SDカード
NAND
Samsung30.1%
2位 SK hynix 19.8%
日本 キオクシア 13.9%(3位)
-
ロジック・自動車・家電
マイコン
Infineon22.6%
2位 NXP 18.5%
日本 ルネサス 15.2%(3位)
-
アナログ・EV・空調・充電
パワー
Infineon15.1%
2位 onsemi 8.9%
日本 デンソー4.3%(5位)など5社で計17.3%
-
アナログ・カメラ
イメージセンサ
ソニー51.0%
2位 Samsung・OMNIVISION 12.7%
日本 ソニー 51.0%(首位)
-
アナログ・イヤホン・スマホ
その他アナログIC
Texas Instruments35.6%
2位 Analog Devices 21.7%
日本 ローム 3.6%(4位)
装置と素材の国別シェア:日本が最も強い場所
- 半導体(素子)
- 前工程装置2026年
- 後工程装置2026年
- 検査・自動化工程装置2026年
- 前工程素材2025年
- 後工程素材2025年
03
利益と人材の地図:どの層が稼ぎ、どの層が採るか
企業DBの決算数値と求人DBの公開求人を、業界の層ごとに集計しました。営業利益率の幅は検査・計測の30.9%から商社の4.1%まで。求人が最も多いのは半導体メーカーで、全体の53.2%を占めます。
| 層 | 営業利益率(日本企業) | 求人の割合 | 最も多い職種 |
|---|---|---|---|
| 検査・計測 | 30.9% | 3.6% | 装置エンジニアリング |
| 製造装置 | 25.6% | 36.9% | フィールド・顧客技術支援 |
| 前工程・ウェーハ製造 | 17.1% | 53.2% | デバイス・プロセス・設計 |
| 設計・ファブレス | 11.8% | 0.0% | — |
| 後工程・パッケージ | 11.3% | 0.8% | 製造・生産・工場運営 |
| 材料 | 9.5% | 3.1% | 材料・研究開発・技術戦略 |
| 商社・代理店 | 4.1% | 0.3% | 営業・マーケティング |
| ファシリティ・インフラ | — | 2.0% | 製造・生産・工場運営 |
04
業界の構造:4つの段と5つの会社の型
半導体は設計・前工程・後工程・販売の順に進みます。どの段を自社で担うかで会社の型が決まり、帯はその型が自社で受け持つ範囲です。
- Samsung Semiconductor約14.8兆円
- SK hynix約11.1兆円
- Intel Corporation約8.4兆円
- NVIDIA Corporation約34.1兆円
- Qualcomm約6.1兆円
- Broadcom約5.8兆円
- TSMC約19.8兆円
- SMIC約1.4兆円
- Hua Hong Semiconductor約3,660億円
- JCET Group約8,670億円
- 新光電気工業2,016億円
- マクニカ8,802億円
- 東京エレクトロン デバイス1,791億円
- 協栄産業379億円
- Applied Materials約4.5兆円
- Lam Research約3.7兆円
- 東京エレクトロン2.43兆円
- アドバンテスト7,797億円
- テラダイン約5,040億円
- レーザーテック2,030億円
- 信越化学工業9,392億円
- レゾナック5,063億円
- SUMCO4,097億円
- 栗田工業1,812億円
- ジャパンマテリアル506億円
05
前工程装置の市場:14工程で12.0兆円
面積が市場規模、色が日本企業のシェアです。露光装置・エッチング・CVDの3工程で市場の66%を占め、この3工程での日本企業のシェアは4%・25%・7%です。
工程別の日本企業シェアと首位企業
| 工程 | 日本企業のシェア | 市場規模(2023年) | 首位企業 |
|---|---|---|---|
| 搬送装置 | 98% | 1,444億円 | ダイフク70% |
| 塗布現像 | 85% | 4,183億円 | 東京エレクトロン85% |
| 洗浄 | 64% | 6,794億円 | SCREEN セミコンダクターソリューションズ42% |
| 熱処理装置 | 52% | 3,407億円 | 東京エレクトロン42% |
| 描画装置 | 45% | 1,679億円 | IMS Nanofabrication49% |
| CMP | 34% | 4,242億円 | Applied Materials51% |
| エッチング | 25% | 23,383億円 | Applied Materials33% |
| イオン注入 | 22% | 2,993億円 | Axcelis Technologies51% |
| スパッタ | 10% | 5,643億円 | Applied Materials85% |
| CVD | 7% | 20,218億円 | Applied Materials47% |
| LPE | 7% | 1,891億円 | ASM International48% |
| 露光装置 | 4% | 35,561億円 | ASML91% |
| 表面検査 | 4% | 7,952億円 | KLA69% |
| 外装検査 | 0% | 742億円 | KLA36% |
06
装置メーカー24社の工程別シェア
Applied Materialsは14工程のうち9工程で上位に入り、日本企業では東京エレクトロンの6工程が最多です。24社のうち日本企業は9社です。セルの色は面積図と同じ3段階、枠線はその工程の首位です。
| 会社 | 地域 | 首位の工程 | 上位に入る工程 | 露光装置 | エッチング | CVD | 表面検査 | 洗浄 | スパッタ | CMP | 塗布現像 | 熱処理装置 | イオン注入 | LPE | 描画装置 | 搬送装置 | 外装検査 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 欧州 | 1 | 2 | 91%首位 | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 10% | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 米国 | 4 | 9 | 露光装置は掲載なし | 33%首位 | 47%首位 | 6% | 洗浄は掲載なし | 85%首位 | 51%首位 | 塗布現像は掲載なし | 28% | 28% | 17% | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 26% | |
| 日本 | 2 | 6 | 露光装置は掲載なし | 20% | 7% | 表面検査は掲載なし | 22% | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 85%首位 | 42%首位 | 22% | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 米国 | 0 | 2 | 露光装置は掲載なし | 30% | 16% | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 米国 | 2 | 2 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 69%首位 | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 36%首位 | |
| 欧州 | 1 | 2 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | 12% | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | 48%首位 | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 日本 | 1 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 42%首位 | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 中国 | 0 | 3 | 露光装置は掲載なし | 5% | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 8% | イオン注入は掲載なし | 13% | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| Axcelis Technologies | 米国 | 1 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | 51%首位 | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし |
| 日本 | 0 | 2 | 露光装置は掲載なし | 5% | CVDは掲載なし | 4% | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 日本 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | 34% | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 日本 | 0 | 1 | 4% | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 韓国 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 19% | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 日本 | 1 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 70%首位 | 外装検査は掲載なし | |
| 欧州 | 1 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 49%首位 | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 日本 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 45% | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 日本 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | 10% | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 中国 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | 11% | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 日本 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 28% | 外装検査は掲載なし | |
| 米国 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 4% | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 欧州 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 6% | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| 中国 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 5% | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし | |
| LPE(ASM International傘下) | 欧州 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | 7% | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 外装検査は掲載なし |
| 中国 | 0 | 1 | 露光装置は掲載なし | エッチングは掲載なし | CVDは掲載なし | 表面検査は掲載なし | 洗浄は掲載なし | スパッタは掲載なし | CMPは掲載なし | 塗布現像は掲載なし | 熱処理装置は掲載なし | イオン注入は掲載なし | LPEは掲載なし | 描画装置は掲載なし | 搬送装置は掲載なし | 7% |
07
世界と中国の主要企業
各社の年次資料にある売上を円に換算し、大きい順に並べました。最も大きいのは、世界の主要12社ではNVIDIA Corporation(約34.1兆円)、中国の主要14社ではSMIC(約1.4兆円)です。
円換算(概算):1ドル=158円、1ユーロ=185円、1台湾ドル=5.2円、1ウォン=0.114円、1元=22.3円(2026-08-20)
世界の主要12社
-
1
NVIDIA Corporationファブレス(設計専業)
約34.1兆円2,159.38億ドル
-
2
TSMCファウンドリ(前工程の受託)
約19.8兆円3兆8,090.54億台湾ドル
-
3
Samsung SemiconductorIDM(設計から製造まで自社)
約14.8兆円130.13兆ウォン
-
4
SK hynixIDM(設計から製造まで自社)
約11.1兆円97.15兆ウォン
-
5
Intel CorporationIDM(設計から製造まで自社)
約8.4兆円528.53億ドル
-
6
Qualcommファブレス(設計専業)
約6.1兆円383.67億ドル
-
7
Broadcomファブレス(設計専業)
約5.8兆円368.58億ドル
-
8
AMD
約5.5兆円346.39億ドル
-
9
MediaTekファブレス(設計専業)
約3.1兆円5,959.66億台湾ドル
-
10
Texas InstrumentsIDM(設計から製造まで自社)
約2.8兆円176.82億ドル
-
11
Infineon TechnologiesIDM(設計から製造まで自社)
約2.7兆円146.62億ユーロ
-
12
STMicroelectronicsIDM(設計から製造まで自社)
約1.9兆円118.00億ドル
中国の主要14社
-
1
SMICファウンドリ(前工程の受託)
約1.4兆円627.94億元
-
2
JCET GroupOSAT(後工程の受託)
約8,670億円388.71億元
-
3
NAURA Technology Group製造装置
約8,190億円367.31億元
-
4
Hua Hong Semiconductorファウンドリ(前工程の受託)
約3,660億円164.26億元
-
5
Nexchip Semiconductorファウンドリ(前工程の受託)
約2,430億円108.85億元
-
6
AMEC製造装置
約2,190億円98.32億元
-
7
Piotech製造装置
約1,150億円51.42億元
-
8
ACM Research製造装置
約1,000億円45.06億元
-
9
Hwatsing Technology製造装置
約900億円40.54億元
-
10
Kingsemi製造装置
約420億円18.79億元
-
11
Skyverse Technology製造装置
約300億円13.64億元
-
12
上海精測半導体(PMISH)検査・計測装置
約290億円13.068億元
-
—
HiSiliconファブレス(設計専業)
通信接続 / スマートメディア / 光通信 / 開発基盤
-
—
Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE)製造装置
露光 / IC工程 / FPD / 光学検査・計測
海外の製造装置・検査3社
-
1
Applied Materials製造装置
約4.5兆円283.68億ドル
-
2
Lam Research製造装置
約3.7兆円232.33億ドル
-
3
テラダイン検査・計測装置
約5,040億円31.90億ドル
08
日本企業61社の半導体売上
有価証券報告書で半導体の売上を開示する61社を、大きい順に並べました。上位は東京エレクトロン(2.43兆円)、キオクシアホールディングス(1.71兆円)、ルネサス(1.32兆円)です。
| 順位 | 会社 | 半導体の売上 | 決算期 | 売上に占める割合 | 営業利益率(全社) |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 2.43兆円 | 2025年3月期 | 100% | 28.7% | |
| 2 | 1.71兆円 | 2025年3月期 | 100% | 26.5% | |
| 3 | 1.32兆円 | 2025年12月期 | 99.8% | 15.2% | |
| 4 | 9,392億円 | 2025年3月期 | 36.7% | 29.0% | |
| 5 | 8,802億円 | 2025年3月期 | 85.1% | 3.8% | |
| 6 | 7,797億円 | 2025年3月期 | 100% | 29.3% | |
| 7 | 5,695億円 | 2025年3月期 | 91.1% | 21.7% | |
| 8 | 5,063億円 | 2025年12月期 | 37.6% | 3.5% | |
| 9 | 4,297億円 | 2025年3月期 | 95.8% | -8.9% | |
| 10 | 4,097億円 | 2025年12月期 | 100% | 0.3% | |
| 11 | 4,083億円 | 2025年3月期 | 57.1% | 15.7% | |
| 12 | 3,423億円 | 2025年12月期 | 35.7% | 11.9% | |
| 13 | 2,599億円 | 2025年3月期 | 4.7% | 7.1% | |
| 14 | 2,389億円 | 2025年3月期 | 100% | 21.5% | |
| 15 | 2,368億円 | 2025年3月期 | 21.1% | 10.5% | |
| 16 | 2,068億円 | 2025年3月期 | 100% | 9.2% | |
| 17 | 2,030億円 | 2025年6月期 | 80.7% | 48.8% | |
| 18 | 2,020億円 | 2025年3月期 | 28.2% | 0.3% | |
| 19 | 2,016億円 | 2024年3月期 | 96.0% | 11.8% | |
| 20 | 1,972億円 | 2025年3月期 | 53.4% | 12.9% |
21位以降の41社
| 順位 | 会社 | 半導体の売上 | 決算期 | 売上に占める割合 | 営業利益率(全社) |
|---|---|---|---|---|---|
| 21 | 1,885億円 | 2025年3月期 | 100% | 13.3% | |
| 22 | 1,865億円 | 2025年3月期 | 19.0% | 13.8% | |
| 23 | 1,812億円 | 2025年3月期 | 44.3% | 7.6% | |
| 24 | 1,791億円 | 2025年3月期 | 82.7% | 5.8% | |
| 25 | 1,653億円 | 2025年3月期 | 60.2% | 8.8% | |
| 26 | 1,565億円 | 2025年12月期 | 47.0% | 15.9% | |
| 27 | 1,233億円 | 2025年2月期 | 99.1% | 25.7% | |
| 28 | 1,216億円 | 2025年3月期 | 100% | -3.1% | |
| 29 | 1,135億円 | 2025年3月期 | 75.4% | 19.7% | |
| 30 | 913億円 | 2025年3月期 | 30.0% | 8.1% | |
| 31 | 871億円 | 2025年3月期 | 25.4% | 8.7% | |
| 32 | 805億円 | 2025年9月期 | 37.9% | 7.6% | |
| 33 | 803億円 | 2025年12月期 | 12.1% | 15.3% | |
| 34 | 789億円 | 2025年3月期 | 44.4% | 5.0% | |
| 35 | 740億円 | 2025年3月期 | 91.4% | 17.5% | |
| 36 | 702億円 | 2025年12月期 | 100% | 23.6% | |
| 37 | 596億円 | 2026年1月期 | 27.3% | 5.8% | |
| 38 | 561億円 | 2025年12月期 | 17.4% | 8.0% | |
| 39 | 506億円 | 2025年3月期 | 96.0% | 21.2% | |
| 40 | 490億円 | 2025年3月期 | 91.5% | 16.6% | |
| 41 | 471億円 | 2024年5月期 | 52.8% | 11.6% | |
| 42 | 446億円 | 2025年3月期 | 17.4% | 15.5% | |
| 43 | 423億円 | 2025年3月期 | 100% | 5.2% | |
| 44 | 390億円 | 2025年3月期 | 67.3% | 19.5% | |
| 45 | 379億円 | 2025年3月期 | 65.7% | 1.7% | |
| 46 | 302億円 | 2025年3月期 | 34.1% | 7.8% | |
| 47 | 278億円 | 2025年12月期 | 78.5% | 13.5% | |
| 48 | 251億円 | 2025年3月期 | 21.1% | 13.2% | |
| 49 | 251億円 | 2025年3月期 | 55.4% | 18.2% | |
| 50 | 239億円 | 2026年1月期 | 100% | 24.7% | |
| 51 | 239億円 | 2025年3月期 | 61.7% | 10.6% | |
| 52 | 236億円 | 2025年3月期 | 99.0% | 19.2% | |
| 53 | 210億円 | 2025年12月期 | 100% | 27.4% | |
| 54 | 167億円 | 2025年11月期 | 46.0% | 17.1% | |
| 55 | 156億円 | 2025年3月期 | 18.8% | 5.1% | |
| 56 | 129億円 | 2025年3月期 | 29.4% | 6.9% | |
| 57 | 126億円 | 2025年3月期 | 7.5% | 5.1% | |
| 58 | 113億円 | 2025年8月期 | 89.4% | 14.3% | |
| 59 | 104億円 | 2025年3月期 | 14.5% | 37.5% | |
| 60 | 100億円 | 2025年3月期 | 11.9% | 7.2% | |
| 61 | 69.3億円 | 2025年9月期 | 94.5% | 11.2% |
09
日本の半導体戦略:5つの柱と、いまの数字
経済産業省が2026年6月23日に示した戦略の改訂案は、先端工場への支援に加えて、需要、設計、供給網、地域と人材を政策の対象にしています。これを5つの柱に分け、それぞれに対応する企業と数字を並べました。
-
- 世界の主要12社で売上が最大NVIDIA Corporation 約34.1兆円
-
- 国内の設計専業ソシオネクスト 1,885億円、メガチップス 423億円
-
- 国内のメモリキオクシアホールディングス 1.71兆円
- 国内の先端ロジックラピダス IIM-1(千歳)
- 海外の先端製造TSMC 約19.8兆円、Samsung Semiconductor 約14.8兆円
-
- 国内のIDMルネサス 1.32兆円、ローム 4,297億円、三菱電機 2,599億円
- 前工程装置の日本企業シェア19.7%(搬送装置・塗布現像・洗浄・熱処理装置で首位)
- 材料信越化学工業 9,392億円、レゾナック 5,063億円
-
- 東京エレクトロン開発・製造拠点6か所(熊本・山梨・岩手・宮城)
- ラピダス開発・製造拠点1か所(北海道)
- キオクシア国内4拠点
東京エレクトロンとキオクシアとラピダスの国内拠点(9都道府県・18拠点)
東京都4拠点
- キオクシア本社(港区)本社キオクシア 拠点一覧
- ラピダス東京本社(千代田区)本社Rapidus 会社概要
- 東京エレクトロン府中テクノロジーセンター(府中市)事業所東京エレクトロン 会社概要
- 東京エレクトロン赤坂本社(港区)本社東京エレクトロン 会社概要
北海道3拠点
- ラピダスIIM-1(千歳)開発・製造拠点Rapidus 会社概要
- ラピダス千歳事務所(千歳市)事務所Rapidus 会社概要
- 東京エレクトロンTEL デジタル デザイン スクエア(札幌市)開発拠点東京エレクトロン 会社概要
岩手県2拠点
- キオクシア北上工場(北上市)工場キオクシア 北上工場
- 東京エレクトロン岩手 奥州拠点(奥州市)開発・製造拠点東京エレクトロン 採用サイト 拠点紹介
熊本県2拠点
- 東京エレクトロン九州 合志拠点(合志市)開発・製造拠点東京エレクトロン 採用サイト 拠点紹介
- 東京エレクトロン九州 大津拠点(菊池郡大津町)開発・製造拠点東京エレクトロン 採用サイト 拠点紹介
山梨県2拠点
- 東京エレクトロン山梨 穂坂事業所(韮崎市)開発・製造拠点東京エレクトロン 会社概要
- 東京エレクトロン山梨 藤井事業所(韮崎市)開発・製造拠点東京エレクトロン 会社概要
神奈川県2拠点
- キオクシア横浜テクノロジーキャンパス(横浜市)事業所キオクシア 拠点一覧
- 東京エレクトロンみなとみらい事業所(横浜市)事業所東京エレクトロン 会社概要
宮城県1拠点
- 東京エレクトロン宮城 大和拠点(黒川郡大和町)開発・製造拠点東京エレクトロン 採用サイト 拠点紹介
三重県1拠点
- キオクシア四日市工場(四日市市)工場キオクシア 四日市工場概要
大阪府1拠点
- 東京エレクトロン大阪支社(大阪市)支社東京エレクトロン 会社概要
10
540社の一覧
層ごとに社名順で並べました。企業研究のある会社は社名から、各社の公式サイトは右端のリンクから開けます。
設計・ファブレス32社ファブレス 22・設計・システム 5・EDA・IP 3・ほか 2
- Arm Holdingsファブレス海外 公式サイト
- Broadcomファブレス海外 公式サイト
- Cirrus Logicファブレス海外 公式サイト
- FUJIFILM Corporation設計・システム 公式サイト
- HiSiliconファブレス海外 公式サイト
- Lattice Semiconductorファブレス海外 公式サイト
- Marvell Technologyファブレス海外 公式サイト
- MediaTekファブレス海外 公式サイト
- Mobileyeファブレス海外 公式サイト
- Monolithic Power Systemsファブレス海外 公式サイト
- Novatekファブレス海外 公式サイト
- NVIDIA Corporationファブレス海外 公式サイト
- Panasonic Corporation設計・システム 公式サイト
- Phisonファブレス海外 公式サイト
- Power Integrationsファブレス海外 公式サイト
- Qorvoファブレス海外 公式サイト
- Qualcommファブレス海外 公式サイト
- Realtekファブレス海外 公式サイト
- Semtechファブレス海外 公式サイト
- Siemens設計・システム海外 公式サイト
- Siemens EDAEDA・IP海外 公式サイト
- Silicon Labsファブレス海外 公式サイト
- Silicon Motionファブレス海外 公式サイト
- Synapticsファブレス海外 公式サイト
- Synopsys JapanEDA・IP 公式サイト
- Synopsys, Inc.EDA・IP海外 公式サイト
- Toshiba Corporation設計・システム 公式サイト
- ソシオネクストファブレス 公式サイト
- メガチップスファブレス 公式サイト
- リンクプラン設計・システム 公式サイト
- 三栄ハイテックスシステム 公式サイト
- 図研システム 公式サイト
前工程・ウェーハ製造72社IDM 40・ファウンドリ 16・半導体メーカー・製造 8・ほか 8
- 5N Plus半導体メーカー・製造海外 公式サイト
- AFSWファウンドリ 公式サイト
- Allegro MicroSystemsIDM海外 公式サイト
- AMD半導体メーカー・製造 公式サイト
- ams OSRAMIDM海外 公式サイト
- DB HiTekファウンドリ海外 公式サイト
- Diodes IncorporatedIDM海外 公式サイト
- GlobalFoundriesファウンドリ海外 公式サイト
- Hua Hong Semiconductorファウンドリ海外 公式サイト
- Infineon TechnologiesIDM海外 公式サイト
- Intel CorporationIDM海外 公式サイト
- JASMファウンドリ 公式サイト
- MACOM Technology SolutionsIDM海外 公式サイト
- MacronixIDM海外 公式サイト
- Microchip TechnologyIDM海外 公式サイト
- Nanya TechnologyIDM海外 公式サイト
- Nexchip Semiconductorファウンドリ海外 公式サイト
- Nuvoton TechnologyIDM海外 公式サイト
- Nuvoton Technology Corporation JapanIDM 公式サイト
- NVIDIA Japan半導体メーカー・製造 公式サイト
- NXP Semiconductors Japan半導体メーカー・製造 公式サイト
- NXP Semiconductors N.V.IDM海外 公式サイト
- onsemiIDM海外 公式サイト
- PSMCファウンドリ海外 公式サイト
- Samsung SemiconductorIDM海外 公式サイト
- SK hynixIDM海外 公式サイト
- SkyWater Technologyファウンドリ海外 公式サイト
- SMICファウンドリ海外 公式サイト
- STMicroelectronicsIDM海外 公式サイト
- Teledyne DALSAIDM海外 公式サイト
- Texas InstrumentsIDM海外 公式サイト
- Tower Semiconductorファウンドリ海外 公式サイト
- TSMCファウンドリ海外 公式サイト
- UMC / ユナイテッド・セミコンダクター・ジャパンファウンドリ 公式サイト
- Vanguard International Semiconductorファウンドリ海外 公式サイト
- Vishay IntertechnologyIDM海外 公式サイト
- Western Digitalメモリ海外 公式サイト
- WIN Semiconductorsファウンドリ海外 公式サイト
- WinbondIDM海外 公式サイト
- WolfspeedIDM海外 公式サイト
- X-FAB Silicon Foundriesファウンドリ海外 公式サイト
- インテル半導体メーカー・製造 公式サイト
- キオクシアメモリ 公式サイト
- キオクシアホールディングスメモリ 公式サイト
- キオクシア岩手メモリ 公式サイト
- サンケン電気IDM 公式サイト
- シャープ株式会社半導体メーカー・製造 公式サイト
- セイコーエプソン半導体メーカー・製造 公式サイト
- ソニーセミコンダクタソリューションズイメージセンサIDM 公式サイト
- ソニーセミコンダクタマニュファクチャリングイメージセンサIDM 公式サイト
- デンソー岩手IDM 公式サイト
- デンソー北海道IDM 公式サイト
- マイクロン・テクノロジーメモリ 公式サイト
- ミネベアパワーデバイスIDM 公式サイト
- ラピダスファウンドリ 公式サイト
- ルネサスIDM 公式サイト
- ロームIDM 公式サイト
- 三菱電機IDM 公式サイト
- 山形サンケンIDM 公式サイト
- 秋田新電元IDM 公式サイト
- 住友電工デバイス・イノベーション株式会社半導体メーカー・製造 公式サイト
- 新潟サンケンIDM 公式サイト
- 村田製作所IDM 公式サイト
- 東根新電元IDM 公式サイト
- 東芝デバイス&ストレージIDM 公式サイト
- 東北エプソンIDM 公式サイト
- 日亜化学工業IDM 公式サイト
- 浜松ホトニクスイメージセンサIDM 公式サイト
- 富士電機IDM 公式サイト
- 富士電機津軽セミコンダクタIDM 公式サイト
- 福島サンケンIDM 公式サイト
- 北海道オリジンIDM 公式サイト
後工程・パッケージ22社OSAT 20・パッケージ基板・材料 2
- Amkor Technology Japan, Inc.OSAT 公式サイト
- ASE Technology Holding Co., Ltd.OSAT海外 公式サイト
- Carsem SemiconductorOSAT海外 公式サイト
- ChipMOS TechnologiesOSAT海外 公式サイト
- FICTOSAT 公式サイト
- HANA MicroelectronicsOSAT海外 公式サイト
- JCET GroupOSAT海外 公式サイト
- King Yuan ElectronicsOSAT海外 公式サイト
- Lingsen Precision IndustriesOSAT海外 公式サイト
- Powertech TechnologyOSAT海外 公式サイト
- Tongfu MicroelectronicsOSAT海外 公式サイト
- Unisem GroupOSAT海外 公式サイト
- UTAC GroupOSAT海外 公式サイト
- Walton Advanced EngineeringOSAT海外 公式サイト
- アムコー・テクノロジーOSAT海外 公式サイト
- イビデンパッケージ基板・材料 公式サイト
- ハイコンポーネンツ青森OSAT 公式サイト
- ミズサワセミコンダクタOSAT 公式サイト
- メイコーパッケージ基板・材料 公式サイト
- ヤマダ電子工業OSAT 公式サイト
- 新光電気工業OSAT 公式サイト
- 青梅エレクトロニクスOSAT 公式サイト
商社・代理店15社商社・代理店 14・計測機器商社 1
製造装置195社プロセス装置 131・半導体製造装置 44・中国装置ベンダー 8・ほか 12
- ACM Research中国装置ベンダー海外 公式サイト
- Advanced Dicing Technologiesプロセス装置海外 公式サイト
- Advanced Energy Industriesプロセス装置海外 公式サイト
- Aehr Test Systemsプロセス装置海外 公式サイト
- AEM Holdings半導体製造装置海外 公式サイト
- AIXTRONプロセス装置海外 公式サイト
- AMEC中国装置ベンダー海外 公式サイト
- ASM半導体製造装置 公式サイト
- ASMLジャパン露光関連装置 公式サイト
- ASMPTプロセス装置海外 公式サイト
- Axcelis Technologiesプロセス装置海外 公式サイト
- Axus Technologyプロセス装置海外 公式サイト
- Azentaプロセス装置海外 公式サイト
- Besiプロセス装置海外 公式サイト
- Brooks Automation半導体製造装置海外 公式サイト
- Brukerプロセス装置海外 公式サイト
- Camtekプロセス装置海外 公式サイト
- Carl Zeiss SMTプロセス装置海外 公式サイト
- centrotherm internationalプロセス装置海外 公式サイト
- CKDプロセス装置 公式サイト
- Cohuプロセス装置海外 公式サイト
- CVD Equipment Corporationプロセス装置海外 公式サイト
- DCA Instrumentsプロセス装置海外 公式サイト
- Edwards Vacuumプロセス装置海外 公式サイト
- EV Groupプロセス装置海外 公式サイト
- FormFactorプロセス装置海外 公式サイト
- H-Square半導体製造装置海外 公式サイト
- HANMI Semiconductorプロセス装置海外 公式サイト
- Heidelberg Instruments露光関連装置海外 公式サイト
- Hwatsing Technology中国装置ベンダー海外 公式サイト
- IMS Nanofabricationプロセス装置海外 公式サイト
- JUSUNG ENGINEERINGプロセス装置海外 公式サイト
- KCTechプロセス装置海外 公式サイト
- Kingsemi中国装置ベンダー海外 公式サイト
- KLA半導体製造装置 公式サイト
- KOKUSAI ELECTRICプロセス装置 公式サイト
- Kulicke & Soffaプロセス装置海外 公式サイト
- Kurt J. Leskerプロセス装置海外 公式サイト
- Lapmaster Woltersプロセス装置海外 公式サイト
- Leica Microsystemsプロセス装置海外 公式サイト
- Leybold半導体製造装置海外 公式サイト
- Malvern Panalyticalプロセス装置海外 公式サイト
- Mattson Technologyプロセス装置海外 公式サイト
- MKSプロセス装置 公式サイト
- NAURA Technology Group中国装置ベンダー海外 公式サイト
- Nordson K.K.プロセス装置 公式サイト
- Novaプロセス装置海外 公式サイト
- Onto Innovationプロセス装置海外 公式サイト
- Oxford Instrumentsプロセス装置海外 公式サイト
- Park Systemsプロセス装置海外 公式サイト
- PDF Solutionsプロセス装置海外 公式サイト
- Pfeiffer Vacuumプロセス装置海外 公式サイト
- Piotech中国装置ベンダー海外 公式サイト
- Plasma-Thermプロセス装置海外 公式サイト
- Plasma-Therm Japanプロセス装置 公式サイト
- PSK Holdingsプロセス装置海外 公式サイト
- Revasumプロセス装置海外 公式サイト
- Riberプロセス装置海外 公式サイト
- SCIVAX露光関連装置 公式サイト
- SCREENコア装置 公式サイト
- SCREEN SPEサービスプロセス装置 公式サイト
- SCREEN SPEテックプロセス装置 公式サイト
- SCREEN SPEワークスプロセス装置 公式サイト
- SEMESプロセス装置海外 公式サイト
- Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE)中国装置ベンダー海外 公式サイト
- Skyverse Technology中国装置ベンダー海外 公式サイト
- SPPテクノロジーズプロセス装置 公式サイト
- Sumitomo Heavy Industries Material Solutionsプロセス装置 公式サイト
- Suss MicroTecプロセス装置海外 公式サイト
- Thermo Fisher Scientificプロセス装置海外 公式サイト
- TOTO半導体製造装置 公式サイト
- TOWAプロセス装置 公式サイト
- TOWAレーザーフロントプロセス装置 公式サイト
- Trio-Tech Internationalプロセス装置海外 公式サイト
- Ultra Clean Holdingsプロセス装置海外 公式サイト
- VAT Group半導体製造装置海外 公式サイト
- Veeco Instrumentsプロセス装置海外 公式サイト
- Vistec Electron Beamプロセス装置海外 公式サイト
- Watlow半導体製造装置海外 公式サイト
- White Knight Fluid Handling半導体製造装置海外 公式サイト
- WONIK IPSプロセス装置海外 公式サイト
- Yield Engineering Systemsプロセス装置海外 公式サイト
- アールデックプロセス装置 公式サイト
- アドテックプラズマテクノロジープロセス装置 公式サイト
- アプライド マテリアルズプロセス装置海外 公式サイト
- アリオスプロセス装置 公式サイト
- アルバックプロセス装置 公式サイト
- アルバック・クライオ半導体製造装置 公式サイト
- アルバックテクノプロセス装置 公式サイト
- アルバック機工コア装置 公式サイト
- イーグル工業プロセス装置 公式サイト
- ウシオ電機露光関連装置 公式サイト
- エピクエストプロセス装置 公式サイト
- エリオニクスプロセス装置 公式サイト
- オーク製作所プロセス装置 公式サイト
- オータマ半導体製造装置 公式サイト
- カイジョープロセス装置 公式サイト
- ギガフォトン露光関連装置 公式サイト
- キッツエスシーティープロセス装置 公式サイト
- キヤノンアネルバプロセス装置 公式サイト
- キヤノン株式会社半導体製造装置 公式サイト
- クリエイティブテクノロジー半導体製造装置 公式サイト
- クリスタル光学半導体製造装置 公式サイト
- ケンブリッジフィルターコーポレーション半導体製造装置 公式サイト
- コガネイ半導体製造装置 公式サイト
- コニカミノルタ株式会社半導体製造装置 公式サイト
- コフロックプロセス装置 公式サイト
- コマツNTCプロセス装置 公式サイト
- サーパス工業半導体製造装置 公式サイト
- サムコプロセス装置 公式サイト
- ジェイテクトサーモシステムプロセス装置 公式サイト
- ジェイテクトマシンシステムプロセス装置 公式サイト
- シシド静電気半導体製造装置 公式サイト
- シンクロンプロセス装置 公式サイト
- シンフォニアテクノロジープロセス装置 公式サイト
- スギノマシンプロセス装置 公式サイト
- スピードファムプロセス装置 公式サイト
- ダイフクプロセス装置 公式サイト
- ダイヘンプロセス装置 公式サイト
- タカトリプロセス装置 公式サイト
- タツモプロセス装置 公式サイト
- ダルトンプロセス装置 公式サイト
- ディスコプロセス装置 公式サイト
- テクノフレックス半導体製造装置 公式サイト
- トーヨーエイテックプロセス装置 公式サイト
- ナガセテクノエンジニアリングプロセス装置 公式サイト
- ニコン露光関連装置 公式サイト
- ニデックアドバンステクノロジー半導体製造装置 公式サイト
- ニデックインスツルメンツプロセス装置 公式サイト
- ニデックコンポーネンツ半導体製造装置 公式サイト
- ニューフレアテクノロジープロセス装置 公式サイト
- ハーモテック半導体製造装置 公式サイト
- ハーモニック・ドライブ・システムズ半導体製造装置 公式サイト
- パナソニックグループ半導体製造装置 公式サイト
- ヒューグルエレクトロニクスプロセス装置 公式サイト
- ファスフォードテクノロジプロセス装置 公式サイト
- フェローテックプロセス装置 公式サイト
- フェローテックホールディングスプロセス装置 公式サイト
- フジキンプロセス装置 公式サイト
- フジデノロ株式会社半導体製造装置 公式サイト
- ミラプロプロセス装置 公式サイト
- メトロール半導体製造装置 公式サイト
- ヤマハロボティクスプロセス装置 公式サイト
- ラムリサーチプロセス装置海外 公式サイト
- リガクプロセス装置 公式サイト
- リソテックジャパンプロセス装置 公式サイト
- レクザムプロセス装置 公式サイト
- ローツェプロセス装置 公式サイト
- ワイエイシイプロセス装置 公式サイト
- 安川電機プロセス装置 公式サイト
- 荏原製作所プロセス装置 公式サイト
- 岡本工作機械製作所プロセス装置 公式サイト
- 樫山工業プロセス装置 公式サイト
- 岩下エンジニアリングプロセス装置 公式サイト
- 岩崎電気半導体製造装置 公式サイト
- 狭山金型製作所半導体製造装置 公式サイト
- 幸和電熱計器半導体製造装置 公式サイト
- 黒田精工プロセス装置 公式サイト
- 坂口電熱半導体製造装置 公式サイト
- 三菱HCキャピタル株式会社半導体製造装置 公式サイト
- 三菱電線工業半導体製造装置 公式サイト
- 芝浦メカトロニクスプロセス装置 公式サイト
- 住友重機械工業プロセス装置 公式サイト
- 住友精密工業プロセス装置 公式サイト
- 駿河生産プラットフォームプロセス装置 公式サイト
- 昭和サイエンス半導体製造装置 公式サイト
- 昭和真空プロセス装置 公式サイト
- 新熱工業半導体製造装置 公式サイト
- 神港精機プロセス装置 公式サイト
- 石井表記プロセス装置 公式サイト
- 倉敷化工半導体製造装置 公式サイト
- 村田機械プロセス装置 公式サイト
- 大亜真空半導体製造装置 公式サイト
- 大日本科研露光関連装置 公式サイト
- 第一機電プロセス装置 公式サイト
- 島津製作所プロセス装置 公式サイト
- 東レエンジニアリングプロセス装置 公式サイト
- 東京エレクトロンコア装置 公式サイト
- 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社半導体製造装置 公式サイト
- 東京エレクトロン宮城プロセス装置 公式サイト
- 東京エレクトロン九州株式会社半導体製造装置 公式サイト
- 日機装プロセス装置 公式サイト
- 日章アステック半導体製造装置 公式サイト
- 日新イオン機器プロセス装置 公式サイト
- 日本トムソン半導体製造装置 公式サイト
- 日本フェンオール半導体製造装置 公式サイト
- 日本電子株式会社半導体製造装置 公式サイト
- 日立ハイテク 那珂地区テスト・計測 公式サイト
- 入江工研プロセス装置 公式サイト
- 浜井産業プロセス装置 公式サイト
- 不二越機械工業プロセス装置 公式サイト
- 武蔵エンジニアリングプロセス装置 公式サイト
- 平田機工プロセス装置 公式サイト
- 堀場製作所テスト・計測 公式サイト
- 本多電子プロセス装置 公式サイト
検査・計測42社テスト・計測 27・検査装置 14・検査・計測 1
- Chroma ATEテスト・計測海外 公式サイト
- Corning Tropel検査装置海外 公式サイト
- H・Iシステックテスト・計測 公式サイト
- Hermes Microvision (HMI)検査装置海外 公式サイト
- ISCテスト・計測海外 公式サイト
- LEENOテスト・計測海外 公式サイト
- NTKセラテックテスト・計測 公式サイト
- OKIエンジニアリングテスト・計測 公式サイト
- PVA TePla検査装置海外 公式サイト
- Technoprobeテスト・計測海外 公式サイト
- アドバンテストテスト・計測 公式サイト
- アドバンテスト コンポーネントテスト・計測 公式サイト
- アルバック・ファイテスト・計測 公式サイト
- インターアクション検査装置 公式サイト
- ウインテストテスト・計測 公式サイト
- エスペックテスト・計測 公式サイト
- キーサイト・テクノロジー検査・計測 公式サイト
- シキノハイテック検査装置 公式サイト
- シバソクテスト・計測 公式サイト
- タカノ検査装置 公式サイト
- チノーテスト・計測 公式サイト
- テセックテスト・計測 公式サイト
- テラダインテスト・計測海外 公式サイト
- ナプソンテスト・計測 公式サイト
- ホロン検査装置 公式サイト
- ヨコオテスト・計測 公式サイト
- レーザーテック検査装置 公式サイト
- 安立計器テスト・計測 公式サイト
- 横河電機テスト・計測 公式サイト
- 山一電機テスト・計測 公式サイト
- 上野精機検査装置 公式サイト
- 大西熱学テスト・計測 公式サイト
- 大塚電子テスト・計測 公式サイト
- 東京精密 / ACCRETECHテスト・計測 公式サイト
- 東光高岳検査装置 公式サイト
- 日本カノマックス検査装置 公式サイト
- 日本マイクロニクス検査装置 公式サイト
- 日本電子材料検査装置 公式サイト
- 日本分光テスト・計測 公式サイト
- 日立ハイテク検査装置 公式サイト
- 理化工業テスト・計測 公式サイト
- 理研計器テスト・計測 公式サイト
材料132社プロセス材料 117・ウェーハ材料 10・半導体材料 4・ほか 1
- 3Mプロセス材料海外 公式サイト
- ADEKAプロセス材料 公式サイト
- AGC Inc.プロセス材料海外 公式サイト
- AGCエレクトロニクスプロセス材料 公式サイト
- Air Liquideプロセス材料海外 公式サイト
- Air Productsプロセス材料海外 公式サイト
- Avantorプロセス材料海外 公式サイト
- Brewer Scienceプロセス材料海外 公式サイト
- Corningプロセス材料海外 公式サイト
- DICプロセス材料 公式サイト
- DOWAプロセス材料 公式サイト
- Element Solutionsプロセス材料海外 公式サイト
- HD MicroSystemsプロセス材料海外 公式サイト
- HOYAプロセス材料 公式サイト
- JCUプロセス材料 公式サイト
- JSRプロセス材料 公式サイト
- JX金属プロセス材料 公式サイト
- Lindeプロセス材料海外 公式サイト
- MARUWAプロセス材料 公式サイト
- Merckプロセス材料海外 公式サイト
- Mipox株式会社プロセス材料 公式サイト
- Nippon Sanso Mathesonプロセス材料海外 公式サイト
- Niterraマテリアルプロセス材料 公式サイト
- NOKプロセス材料 公式サイト
- OCI Companyプロセス材料海外 公式サイト
- Phoenix Silicon Internationalウェーハ材料海外 公式サイト
- Photronicsプロセス材料海外 公式サイト
- PILLARプロセス材料 公式サイト
- Qnity Electronicsプロセス材料海外 公式サイト
- RSテクノロジーズウェーハ材料 公式サイト
- SECカーボンプロセス材料 公式サイト
- Siltronicプロセス材料海外 公式サイト
- SK Siltronウェーハ材料海外 公式サイト
- SK Specialtyプロセス材料海外 公式サイト
- Soitecプロセス材料海外 公式サイト
- Solstice Advanced Materialsプロセス材料海外 公式サイト
- SUMCOウェーハ材料 公式サイト
- TOPPANプロセス材料 公式サイト
- UBEプロセス材料 公式サイト
- アキレスプロセス材料 公式サイト
- アソープロセス材料 公式サイト
- アドマテックスプロセス材料 公式サイト
- インテグリスプロセス材料海外 公式サイト
- エア・ウォータープロセス材料 公式サイト
- エヌジーケイ・セラミックデバイス株式会社半導体材料 公式サイト
- グローバルウェーハズ・ジャパンウェーハ材料 公式サイト
- コヒレントウェーハ材料海外 公式サイト
- コベルコ科研プロセス材料 公式サイト
- シノン電気産業プロセス材料 公式サイト
- ステラケミファプロセス材料 公式サイト
- セントラル硝子プロセス材料 公式サイト
- ダイキン工業プロセス材料 公式サイト
- タツタ電線プロセス材料 公式サイト
- タムラ製作所プロセス材料 公式サイト
- デクセリアルズプロセス材料 公式サイト
- テクノクオーツプロセス材料 公式サイト
- トーカロプロセス材料 公式サイト
- トクヤマプロセス材料 公式サイト
- トリケミカル研究所プロセス材料 公式サイト
- ナミックスプロセス材料 公式サイト
- ニチアスプロセス材料 公式サイト
- ニッタ・デュポンプロセス材料 公式サイト
- ノリタケプロセス材料 公式サイト
- パウデック化合物デバイス 公式サイト
- バルカープロセス材料 公式サイト
- フジクラプロセス材料 公式サイト
- フジミインコーポレーテッドプロセス材料 公式サイト
- フルヤ金属プロセス材料 公式サイト
- ミライアルプロセス材料 公式サイト
- メックプロセス材料 公式サイト
- メルセンプロセス材料海外 公式サイト
- ラサ工業プロセス材料 公式サイト
- リンテックプロセス材料 公式サイト
- レゾナックプロセス材料 公式サイト
- レゾナック・ホールディングスプロセス材料 公式サイト
- 旭ダイヤモンド工業プロセス材料 公式サイト
- 旭化成プロセス材料 公式サイト
- 関東化学プロセス材料 公式サイト
- 関東電化工業プロセス材料 公式サイト
- 岩谷産業プロセス材料 公式サイト
- 京セラプロセス材料 公式サイト
- 共立合金製作所プロセス材料 公式サイト
- 戸田工業プロセス材料 公式サイト
- 高純度化学研究所プロセス材料 公式サイト
- 堺化学工業プロセス材料 公式サイト
- 三井ハイテックプロセス材料 公式サイト
- 三井化学プロセス材料 公式サイト
- 三井金属プロセス材料 公式サイト
- 三益半導体工業ウェーハ材料 公式サイト
- 三菱ガス化学プロセス材料 公式サイト
- 三菱マテリアル半導体材料 公式サイト
- 山本特殊鋼プロセス材料 公式サイト
- 住友ベークライトプロセス材料 公式サイト
- 住友化学プロセス材料 公式サイト
- 住友精化プロセス材料 公式サイト
- 住友電気工業半導体材料 公式サイト
- 上村工業プロセス材料 公式サイト
- 信越ポリマープロセス材料 公式サイト
- 信越化学工業プロセス材料 公式サイト
- 信越石英ウェーハ材料 公式サイト
- 新菱ウェーハ材料 公式サイト
- 森田化学工業プロセス材料 公式サイト
- 千住金属工業プロセス材料 公式サイト
- 川口液化ケミカルプロセス材料 公式サイト
- 太陽ホールディングスプロセス材料 公式サイト
- 台和プロセス材料 公式サイト
- 大阪有機化学工業プロセス材料 公式サイト
- 大日本印刷プロセス材料 公式サイト
- 大陽日酸JFPプロセス材料 公式サイト
- 直江津電子工業ウェーハ材料 公式サイト
- 田中貴金属プロセス材料 公式サイト
- 東ソープロセス材料 公式サイト
- 東レプロセス材料 公式サイト
- 東横化学プロセス材料 公式サイト
- 東海カーボンプロセス材料 公式サイト
- 東京応化工業プロセス材料 公式サイト
- 東邦チタニウムプロセス材料 公式サイト
- 東洋合成工業プロセス材料 公式サイト
- 東洋精密工業プロセス材料 公式サイト
- 東洋炭素プロセス材料 公式サイト
- 日鉄ケミカル&マテリアルプロセス材料 公式サイト
- 日鉄マイクロメタルプロセス材料 公式サイト
- 日東電工半導体材料 公式サイト
- 日本ガイシプロセス材料 公式サイト
- 日本スペリア社プロセス材料 公式サイト
- 日本ゼオンプロセス材料 公式サイト
- 日本ピュアケミカルプロセス材料 公式サイト
- 日本フイルコンプロセス材料 公式サイト
- 日本化薬プロセス材料 公式サイト
- 日本酸素ホールディングスプロセス材料 公式サイト
- 富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズプロセス材料 公式サイト
- 富士紡ホールディングスプロセス材料 公式サイト
ファシリティ・インフラ30社ファシリティ 30
- SMCファシリティ 公式サイト
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- オリオン機械ファシリティ 公式サイト
- オルガノファシリティ 公式サイト
- カンケンテクノファシリティ 公式サイト
- キッツマイクロフィルターファシリティ 公式サイト
- シーズシーファシリティ 公式サイト
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出典
工程別シェアは2023年、装置と素材の国別シェアは2026年と2025年の値です。世界と中国の主要企業は各行の出典、日本企業は有価証券報告書に基づきます。
- 半導体・デジタル産業戦略の現状と今後経済産業省・確認日 2026-06-10
- Global Semiconductor Equipment Billings Reached $135 Billion in 2025, Up 15% Year-on-YearSEMI・確認日 2026-05-11
- Global Semiconductor Equipment Sales Projected to Reach a Record of $156 Billion in 2027SEMI・確認日 2026-05-11
- 半導体・デジタル産業戦略の現状と今後(第16回 半導体・デジタル産業戦略検討会議 資料5)経済産業省・2026-06-23・市場、素子、装置と素材の国別シェア
- 半導体・デジタル産業戦略 改訂案(第16回 半導体・デジタル産業戦略検討会議 資料4)経済産業省・2026-06-23
- EDINET 有価証券報告書金融庁・日本企業の半導体売上と営業利益率
- 半導体企業DB540社・2026-10-15時点
- 半導体エンジニアの求人DB公開求人・2026-10-06時点