半導体製造装置部品 ウェーハ加熱ホットプレート・X線膜厚測定装置
幸和電熱計器
発熱体から作るウェーハ用ホットプレートと、X線の測定装置
大阪のヒーターメーカーが、半導体製造装置の中で
ウェーハを均一に温めるホットプレートを、発熱体のヒーターから自社でつくっています。
幸和電熱計器は 半導体製造装置用のホットプレートとベーキング装置 と 膜厚や金属汚染を測るX線測定装置 を設計・製作する、従業員約40名の会社です。
- 12インチ用 面内温度レンジ R<0.2°C 60 ~ 90°Cの処理。 300.1~350°CではR<1.5°C
- 昇降温型の温度切り替え 180秒 50°Cの設定変更から±0.3°C内で安定し始めるまで
- 液晶用ベーキング装置 2500 x 2200mm 第8世代の大型液晶ガラス基板に対応
この会社の要点
01立ち位置
何の会社として比べるか
半導体での幸和電熱計器の持ち場は、装置の中でウェーハを温めるホットプレートです。 12インチ用では処理温度ごとの面内温度レンジを示しています。
12インチ用ホットプレートの面内温度レンジ
処理温度ごとの温度レンジ（小さいほど均一）
温度が上がるほどレンジは広がりますが、高温域でもR<1.5°Cに収まります。
半導体ウェーハ用ホットプレート
ウェーハを載せて決まった温度まで均一に温める加熱板と、それを使うベーキング装置です。 12インチ用は1・3・7ゾーン制御があります。 温度を上げ下げする昇降温型は、特別な付帯設備なしで使える半導体製造装置用として開発されました。
- 高温ホットプレート
- 昇降温型ホットプレート
- クールプレート
- ベーキング装置
X線測定装置
K-TRXはウェーハにX線をすれすれに当てて全反射させ、出てくる蛍光X線から金属汚染を測ります。 プロセス前後のウェーハの汚染確認に使います。 K-PVXは工場内の通信を使うインライン装置で、蛍光X線とシート抵抗を同時に測れます。
- 金属汚染測定装置 K-TRX
- 大型基板測定装置 K-PVX
薄膜膜厚・組成測定装置
膜の厚さ・密度・組成比をX線で測る装置で、300mmまでのウェーハを載せられます。 XRR・XRF・GIXRFのユニットから最大3つを選べ、納入後の増設もできます。 装置サイズは1.1m²です。
- K-MSX
ホットプレート（汎用・大型）
300 x 300mmから2570 x 2270mmまでの熱板をつくります。 標準品の納期は1ヶ月以内で、カスタム品は1台から製作します。 大型品は多分割ゾーン制御で温度をそろえます。
- KWL131（G8.5）
- KWL117（G7.5）
- KWL090（G6）
工業用ヒーター
セラミック、シース、鋳込み、マイカなどのヒーターを目的に合わせて製作します。 マイカヒーターは薄く、均一な温度分布が得られるのが特長です。
- マイカ（エッチング）ヒーター
- セラミックヒーター
- シースヒーター
- 鋳込みヒーター
02収益
どこで、どれくらい儲けているか
規模は従業員約40名、資本金0.1億円です。 工業用電熱器と計測器のメーカーとして生まれ、1991年1月に半導体部品の設計・製造を、1998年1月に半導体装置の製造を始めました。
03強みとリスク
強みと、リスク・検討点
強みは、発熱体のヒーターから熱板、ベーキング装置までを自社でつくれることです。 そのうえで、ウェーハの膜や汚染を測るX線装置も持ち、2013年1月には応力測定装置を新しく開発しました。
強み
- 温度の均一さを数字で示す
12インチ用ホットプレートの面内温度レンジは、60 ~ 90°CでR<0.2°Cです。 300.1~350°Cの高温域でもR<1.5°Cに収まります。
半導体関連機器 - 発熱体から自社でつくる
熱源になるマイカヒーターを自社で製作します。 半導体製造装置のホットプレートで表面が110°Cのとき、直径12インチ内の温度差を0.2°C以内に制御できます。
各種ヒーター - 温めた後のウェーハも測れる
K-TRXはプロセス前後の半導体ウェーハの金属汚染を確認する装置です。
X線測定装置 - カスタム品は1台から
標準品と受注生産品のほか、カスタム品を1台から製作します。 プレートの材質や表面処理、吸着穴やリフトピン穴の加工も選べます。
ホットプレート
リスク・検討点
- 小さな会社で品目が広い
主要製品には、ヒーターや半導体製造装置のほか、ロボット制御盤、精密樹脂製品、各種輸入商品まで並びます。 従業員約40名の会社で、入社後に受け持つ製品の幅は広くなりえます。
会社案内・沿革・主要製品 - 大型熱板は液晶寸法が前提
受注生産品の大型品KWL090・KWL117・KWL131は、G6・G7.5・G8.5のガラス寸法に合わせた品番です。 用途には液晶用ガラスベーキングのほか、電子部品検査や樹脂成形時の金型加熱も並びます。
ホットプレート - 半導体では装置の加熱部が持ち場
昇降温型ホットプレートは半導体製造装置用として開発されました。 会社が設計・製作するのは、ホットプレートと、その性能を引き出すベーキング装置です。
半導体関連機器
04待遇
採用窓口
採用ページは「いくつかの職種を募集」とし、条件の詳細は求人サイトと本社総務課へ案内しています。
05会社拠点と採用窓口
会社拠点と公式の募集状況
仕事の場は大阪本社、京都工場、中部営業所です。 京都工場はクリーンルームを備え、半導体製造装置や液晶製造装置の設計から組立てまで対応します。
会社拠点
- 大阪本社
- 大阪市東成区深江北にあり、採用の窓口である総務課もここにあります。
- 京都工場
- 京都府久世郡久御山町にあります。 2005年5月に稼働しました。
- 中部営業所
- 愛知県安城市にある営業拠点です。
現場で使う技術語
- ウェーハベーク
- ゾーン温度制御
- 昇降温制御
- マイカヒーター
- X線反射率（XRR）
- 蛍光X線（XRF）
- 斜入射蛍光X線（GIXRF）
- シート抵抗測定
- 大気圧プラズマ処理
ホットプレートとX線測定装置の製品ページに出てくる工程名・測定法です。
06これから
会社が次に取りにいくもの
先に見る製品は、温度を素早く切り替える昇降温型ホットプレートと、工場の通信に対応するインライン測定装置K-PVXです。
これからの材料
温度を素早く切り替える昇降温型
昇降温型ホットプレートは、50°Cの設定変更から±0.3°C内で安定し始めるまでを180秒で済ませます。 特別な付帯設備は要りません。 会社は昇降温型を、温度設定変更時の面内均一性に優れた半導体製造装置用として開発しました。
研究開発用とインライン用のX線装置
K-MSXは製品前の条件出しなど研究開発向けで、K-PVXは製造工場内で通信を使うインライン装置です。 K-PVXはコンピュータ統合生産（CIM）に対応できます。 K-PVXはサンプルサイズの要望に合わせて装置を提供できます。
加熱とプラズマの組み合わせ
大気圧プラズマ処理装置は、自社のベークユニットと組み合わせて処理能力を引き上げられます。 数mmのスポットからG10の3m幅サイズまでそろえます。 会社は熱・電気的ダメージなしの処理と、1年間メンテフリーをうたっています。
07問い合わせ前の準備
公式採用情報で募集条件を確認する
入口は、熱をつくる側（ヒーター・熱板）と、測る側（X線装置）の2つです。 どちらを志望するかで、準備する知識が変わります。
応募前の3手
- 熱を志望するなら、マイカヒーターと多分割ゾーン制御の仕組みを製品ページで押さえる
- 計測を志望するなら、K-TRXの全反射蛍光X線と、K-MSXのXRR・XRF・GIXRFを説明できるようにする
- 本社総務課へ連絡し、求人サイトに載る職種と勤務地を確かめてから応募する
他社との違いを一言で
- 工業用電気ヒーター
日本ヒーター
日本ヒーターは東京都大田区の工業用電気ヒーターメーカーで、液体・気体・金属加熱用ヒーターと温調機器を並べます。幸和電熱計器はヒーターに加えて、半導体製造装置用のホットプレートとX線測定装置まで自社で製作します。
- 半導体プロセス向けヒーター
Watlow
Watlowはヒーター製品を幅広く並べ、対象業界の1つに半導体プロセスを挙げます。幸和電熱計器の半導体向け製品は、ウェーハを載せて温めるホットプレートとベーキング装置です。
- 鋳込みヒーター
Tempco
Tempcoの鋳込み熱部品はアルミと青銅の合金で、半導体製造などに使われます。幸和電熱計器は真鍮・鉄・アルミにシーズヒーターを鋳込み、必要な形に機械加工します。
出典15件
- 公式 企業サイト（お知らせ）
- 公式 会社案内・沿革・主要製品
- 公式 半導体関連機器
- 公式 X線測定装置
- 公式 薄膜膜厚・組成測定装置 K-MSX
- 公式 応力測定装置 K-OMX
- 公式 ホットプレート
- 公式 液晶関連機器
ほか7件
- 公式 各種ヒーター
- 公式 大気圧プラズマ処理装置
- 公式 京都工場紹介
- 採用 採用情報
- 公式 日本ヒーター 製品情報
- 公式 Watlow ヒーター製品一覧
- 公式 Tempco 電気ヒーター製品一覧