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半導体製造装置 真空蒸着・スパッタリング装置

昭和真空

水晶デバイス・光学部品・電子部品の薄膜をつくる真空装置メーカー

水晶振動子、光学フィルタ、電子部品をつくる真空装置のメーカー。
業績は装置を納める時期で大きく動きます。 2027年3月期第1四半期の受注は30億円に増えた一方、売上は7.8億円でした。

昭和真空は 水晶デバイスの周波数調整装置 や 光学多層膜の真空蒸着装置 を作る装置メーカーです。 アルバックが自己株式を除く発行済株式の21.3%を持ち、アルバックグループに属します。

  • 2027年3月期1Q 受注高 30億円 前年同期比62.6%増。 うち水晶デバイス装置が12億円
  • 2027年3月期1Q 売上高 7.8億円 前年同期比41.0%減。 営業損失2.1億円
  • 2027年3月期 会社予想 売上高 88億円 中間期予想は23億円。 下期に64億円が要る計算

2026年3月期 事業別の外部顧客向け売上高連結・報告セグメント別 · 有価証券報告書

  • 真空技術応用装置事業70億円
  • サービス事業22億円

この会社の要点

向いている入口 機械・電気設計

真空、機構、配線、制御を一台の産業装置としてまとめたい人。

入口を選ぶ
主なリスク 受注の波が売上を左右する

2026年3月期の受注高は60億円で前期比41.0%減、期末の受注残高は前期末比49.3%減でした。 光学装置の受注は2.6億円で、前期比90.3%減です。 会社は、光学では前期にあった大口案件の受注が今期は途切れたとしています。

強みとリスク
出典 出典一覧(19件)

公式 11件 / IR 5件 / 採用 3件

01立ち位置

何の会社として比べるか

昭和真空の装置事業は、水晶デバイス、光学、電子部品の用途に分かれます。 2026年3月期は水晶デバイス装置の売上が前期比113.4%増え、装置売上で最大の用途でした。

連結・実績と会社予想

通期売上高

2026年3月期決算短信

連結売上高の推移

億円 · 2027年3月期は会社予想
  • 2025年3月期 実績 84億円
  • 2026年3月期 実績 93億円
  • 2027年3月期 会社予想 88億円
2026年3月期・連結

装置売上の用途別内訳

有価証券報告書 販売実績

真空技術応用装置事業の業界別売上高

億円 · 有価証券報告書
  • 水晶デバイス装置 31億円
  • 光学装置 23億円
  • 電子部品装置 15億円

2027年3月期1Q 受注高の内訳

億円 · 第1四半期決算補足説明資料
  • 水晶デバイス装置 12億円
  • サービス 6.8億円
  • 電子部品・その他装置 6.5億円
  • 光学装置 4.2億円

合計の受注高は30億円で、前年同期比62.6%増です。

インライン式周波数調整装置

SFE-X2012

水晶振動子・水晶発振器・音叉振動子の周波数を調整する装置です。 処理室と取出室を分けた3室インライン式で、1.2×1.0以下の微小ワークに対応します。

  • SFE-X2012
光学薄膜用真空蒸着装置

Sapio Series

IRカットフィルターやバンドパスフィルターなどの光学多層膜、反射防止膜、増反射ミラー、LEDのDBR膜をつくる蒸着装置です。 バッチ間の成膜再現性と低パーティクルを狙った設計です。

  • SGC-S900
  • SGC-S1300
  • SGC-S1550
  • SGC-S1700
枚葉式スパッタリング装置

SPM Series

ウエハ電子部品にメタル膜をつける量産装置です。 φ8インチウエハに対応し、スパッタUP方式で基板へのコンタミネーションを抑え、カセットtoカセットで連続運転できます。

  • SPM Series
原子層堆積装置

ALD Series

複雑な形状の基板に、SiO2、TiO2、Al2O3を一層ずつ成膜する装置です。 用途は高曲率レンズの光学コーティング、絶縁用の誘電体コーティング、ガス透過バリアです。

  • ALD Series

02収益

どこで、どれくらい儲けているか

2026年3月期の連結営業利益は11億円、営業利益率は11.9%でした。 真空技術応用装置事業のセグメント利益は前期比66.9%増えました。

2026年3月期 連結実績

93億円

売上高は前期比10.0%増でした。 営業利益は11億円で、前期の7.9億円から増え、営業利益率は11.9%です。

2026年3月期 受注高

60億円

前期比41.0%減です。 期末の受注残高は33億円で、前期末比49.3%減でした。 研究開発費は4.3億円です。

2027年3月期1Q 連結実績

7.8億円

前年同期比41.0%減で、営業損失は2.1億円でした。 受注高は30億円(前年同期比62.6%増)、四半期末の受注残は56億円です。

2027年3月期 会社予想

88億円

営業利益は8.0億円の予想です。 2026年10月16日に中間期の売上高予想を35億円から23億円へ下げ、通期予想は前回公表と同じ値としました。

2026年3月期 セグメント利益

億円 · 有価証券報告書
  • 真空技術応用装置事業 16億円 外部顧客向け売上高70億円
  • サービス事業 5.2億円 外部顧客向け売上高22億円

03強みとリスク

強みと、リスク・検討点

昭和真空の強みは、水晶デバイスの周波数調整装置と、自社開発のイオンソースを使った光学薄膜の蒸着装置です。 2027年3月期第1四半期は水晶デバイス装置の受注が12億円に増えました。

強み

  • 水晶デバイスの周波数調整

    SFE-X2012は処理室と取出室を分けた3室インライン式で、会社は世界最高レベルのタクトタイムをうたっています。 1.2×1.0以下の微小ワークも安定して生産できる搬送機構を持ちます。

    SFE-X2012
  • 水晶デバイス装置の受注回復

    2027年3月期第1四半期の受注高30億円のうち、水晶デバイス装置が12億円を占めました。 会社は水晶デバイス業界の生産能力増強と既存設備更新の需要を取り込んだとしています。

    2027年3月期 第1四半期決算補足説明資料
  • イオンソースを自社で持つ

    グリッド型とグリッドレス型のイオンソースを自社で開発しています。 グリッド型は水晶振動子やSAWフィルタの周波数調整とイオンアシスト蒸着に、グリッドレス型は大型のイオンアシスト蒸着装置に使います。

    研究・開発
  • 納めた装置の保守・部品

    2027年3月期第1四半期の売上高7.8億円のうち、サービスが5.0億円でした。 会社は水晶デバイス装置とサービス事業を中心に売上高を確保したとしています。

    2027年3月期 第1四半期決算補足説明資料

リスク・検討点

  • 受注の波が売上を左右する

    2026年3月期の受注高は60億円で前期比41.0%減、期末の受注残高は前期末比49.3%減でした。 光学装置の受注は2.6億円で、前期比90.3%減です。 会社は、光学では前期にあった大口案件の受注が今期は途切れたとしています。

    2026年3月期 有価証券報告書
  • 納品の延期で中間期予想を下げた

    会社は2026年10月16日、下期以降に延期となった案件が複数出たため、中間期の売上高予想を35億円から23億円へ下げました。 利益も前回予想を下回る見込みです。

    2027年3月期第2四半期(中間期)連結業績予想の修正
  • スマートフォン向け光学投資

    2027年3月期第1四半期も、スマートフォン向け光学部品の増産設備投資には慎重な姿勢が続きました。 電子部品装置・その他装置は、顧客都合で一部案件の納品が第2四半期以降に延び、この四半期の売上はゼロでした。

    2027年3月期 第1四半期決算短信
  • 中国・アジアの事業環境

    上海の子会社を通じて、主に中国・台湾を中心としたアジアのデバイスメーカーへ装置とアフターサービスを提供しています。 会社は新興国の政治・経済・紛争などの急変を業績のリスクに挙げています。

    2026年3月期 有価証券報告書

04待遇

給与、初任給、休日、手当

新卒総合職の基本給は、修士261,000円、大卒246,000円、高専223,000円です。 これとは別に住宅手当や家族手当などの諸手当があります。

新卒総合職 基本給

月額 · 新卒採用 募集要項
  • 修士 261,000円
  • 大卒 246,000円
  • 高専 223,000円
勤務地
本社・相模原工場(神奈川県相模原市)です。 配属先での経験やスキルに応じて 上海と狭山の子会社 へ転勤する場合もあります。
勤務時間
8時30分~17時20分、実働7時間45分です。
休日
年間休日120日(閏年は121日)で、土曜・日曜が休みです。
募集人数
5~10名程度です。

05勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

新卒総合職の勤務地は本社・相模原工場で、設計、開発、組立・検査・資材調達、法人営業、管理本部を募集しています。 配属先は本人の希望を考慮して決まります。

主な勤務地・拠点

本社・相模原工場
神奈川県相模原市。 新卒総合職とキャリア採用の勤務先で、単体の従業員は175名です。
上海の連結子会社
昭和真空機械(上海)有限公司が装置を製造・販売し、昭和真空機械貿易(上海)有限公司が販売します。
エフ・イー・シー
埼玉県狭山市の子会社で、サービス事業の販売を担います。
公式採用の勤務地欄

公式掲載職種

  • 機械・電気設計
  • 成膜プロセス開発
  • 組立・検査
  • 資材調達
  • 法人営業
  • セールスエンジニア

新卒は総合職として採用されます。

応募前の確認

  1. 新卒かキャリアかを選ぶ
  2. 設計・開発・生産・営業から希望する工程を決める
  3. 水晶・光学・電子部品のどの装置に関わりたいかを決める
公式採用へ

06これから

会社が次に取りにいくもの

会社は2027年3月期の売上高を88億円と見込み、中間期予想を下げた後も通期予想を保っています。

これからの材料

通期予想
会社は 中間期予想の修正 で、通期の売上高88億円、営業利益8.0億円を前回公表と同じ値としました。
研究開発
開発テーマにはSAWフィルタの櫛型電極膜形成用の蒸着装置やSiO2成膜用スパッタ装置があります。

下期に売上が集中する計画

会社は2027年3月期の売上高を88億円、営業利益を8.0億円と見込んでいます。 中間期予想を23億円に下げた後も通期予想は同じ値で、下期に64億円の売上を見込む計算です。 会社は延期した案件を下期中に売上計上すると見込んでいます。

受注高の計画

会社は第1四半期決算の時点で、2027年3月期の受注高を110億円と見込んでいます。 第1四半期の実績は30億円です。 重点実行項目として、成長が見込めるニッチ市場への経営資源の配分と次期戦略装置の開発を計画しています。

SAWフィルタと水晶振動子の小型化

SAWフィルタの生産性向上に向けたSiO2成膜用スパッタ装置や、水晶振動子の極小化に対応した周波数調整技術と真空移載・加熱封止装置を開発テーマにしてきました。 いずれも経済産業省の戦略的基盤技術高度化支援事業に採択された研究開発テーマです。

ALDの適用先

ALD Seriesは高曲率レンズの光学コーティング、誘電体コーティング、ガス透過バリア、複雑な形状の基板を用途に挙げています。 対応膜種はSiO2、TiO2、Al2O3です。

07入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

新卒は総合職採用で、配属先は本人の希望を考慮して決まります。 水晶・光学・電子部品のどの装置に関わりたいかを先に決めると、志望職種を説明しやすくなります。

公式新卒募集要項・総合職

機械・電気設計

真空装置の機械設計と電気設計を担当します。 キャリア採用では3D/2D図面、配線図、装置制御のプログラムとタッチパネル作成までを含みます。

公式採用情報
公式新卒募集要項・総合職

装置・成膜プロセス開発

装置・ユニット開発と成膜プロセス開発を担当します。 顧客との共同開発や顧客からの依頼実験、新規装置の生産立上支援も仕事に入ります。

公式採用情報
公式新卒募集要項・総合職

組立・検査・資材調達

装置の組立、検査、配線、試運転と、部品・加工品の調達を担当します。 生産部は顧客工場での据付・立ち上げも行います。

公式採用情報

応募前の3手

  1. 水晶デバイス、光学、電子部品から関わりたい装置の用途を一つ選ぶ
  2. 設計・開発・生産・営業から希望工程を選ぶ
  3. 勤務地は本社・相模原工場で、上海と狭山の子会社へ転勤する場合もあると確認する
公式採用へ

面接で使う技術語

  • Mechanical Design
  • Electrical Design
  • Vacuum Equipment
  • Process Development
  • Thin Film
  • ALD
  • PVD
  • Assembly
  • Inspection
  • Procurement

キャリア採用は機械・電気設計、開発、セールスエンジニア、生産、資材などの職種で募集しています。

他社との違いを一言で

  • 電子部品向けの薄膜形成装置

    アルバック

    アルバックは昭和真空の株式の21.3%を持つ関係会社です。昭和真空はSAWフィルタ、抵抗器、サーマルヘッドなど電子部品向けのエッチング装置やスパッタリング装置が中心で、アルバックはFPD・半導体向けのスパッタリング装置や有機EL製造装置が中心です。

  • 光学薄膜の蒸着装置

    オプトラン

    オプトランのOTFCはエッジフィルタ、帯域フィルタ、ARコーティングをつくるイオンアシスト蒸着装置です。昭和真空のSapio Seriesも光学多層膜フィルターや反射防止膜が対象で、用途が重なります。

  • RFフィルタ向けスパッタリング

    キヤノンアネルバ

    キヤノンアネルバのEC7400はRFフィルタと圧電デバイスを用途に掲げるスパッタリング装置です。昭和真空はSAWフィルタ向けにSiO2成膜用スパッタ装置や櫛型電極膜の蒸着装置を開発してきました。

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出典19件

ほか11件

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