- 資本金 0.4億円 1993年10月7日設立
- 親会社 半導体・フォトマスク 売上高（2027年3月期第1四半期） 45億円 前年同期は43億円。 受注高、売上高とも第1四半期として過去最高
- 親会社 連結売上高 会社予想（2027年3月期） 600億円 営業利益は55億円の見込み
親会社の2027年3月期第1四半期 売上高の構成ブイ・テクノロジー連結 · セグメント別 · 決算説明資料
- FPD装置57億円
- 半導体・フォトマスク45億円
- その他3.9億円
この会社の要点
01立ち位置
何の会社として比べるか
リソテックジャパンは1993年10月7日設立、資本金0.4億円の会社です。 2021年1月にブイ・テクノロジーの子会社になりました。 業績の数字は親会社のものを見ます。
グループの中で半導体・フォトマスクがどれくらいか
2027年3月期第1四半期 セグメント別売上高
半導体・フォトマスクの受注と売上
半導体・フォトマスクの第1四半期
LITHOTRACシリーズ
研究開発から生産までを対象にした塗布・現像・ベーク装置です。 Dual-1000は塗布と現像のユニットを混載し、2インチ以下の小片基板から300mmウェーハまでの基板に合わせて仕様を組みます。 CB-50は塗布、DB-50は露光後のPEBから現像、リンス、ハードベークまでを受け持ちます。
- LITHOTRAC Dual-1000
- LITHOTRAC CB-50
- LITHOTRAC DB-50
RDAシリーズ
現像速度、コントラストカーブ、感度を測り、シミュレータ用のレジスト・モデリング・パラメータを決めます。 RDA-790は18チャンネルで同時に測ります。 RDA-800は膜厚80 nm ～ 10 μm、QCM法のRDA-Qz3は10 nm ～ 3 μmが対象です。
- RDA-760
- RDA-760Spin
- RDA-790
- RDA-800
フォトプロセス解析露光装置
フォトレジストの研究開発用の露光装置です。 最大25箇所で露光条件を変えて露光し、現像アナライザで解析します。 ArFES-3000は193nm、EUVES-9000は13.5 nmで露光し、電子線露光やアウトガス評価の機種もあります。
- VUVES-4700i
- UVES-2000
- UVES-2500
- ArFES-3000
PROLITH／ProDATA
PROLITHは露光光学系の結像とレジストの感光・現像を計算し、現像後のレジスト形状を求めます。 ProDATAは実測とシミュレーションのデータからコントラスト曲線、スイングカーブ、FEMを解析します。
- PROLITH 2024a
- ProDATA
Foothill膜厚測定装置
KV-300は3インチ ～ 300mmのウェーハで40nm ～ 500μmの膜厚を測ります。 KF-10は最大φ200mmの基板に対応し、自動ステージとマッピングソフトを備えます。
- KV-300
- KF-10
- L-2
02収益
どこで、どれくらい儲けているか
親会社の2027年3月期第1四半期の連結売上高は106億円でした。 会社は通期で売上高600億円、営業利益55億円を見込みます。
45億円
受注高は59億円で、前年同期の35億円を上回りました。 受注高、売上高とも第1四半期として過去最高です。
600億円
2026年3月期の実績は529億円です。 会社は営業利益55億円（前期37億円）を見込みます。
親会社の連結売上高
03強みとリスク
強みと、リスク・検討点
塗布・現像、現像速度の測定、試験露光、シミュレーション、膜厚測定、受託評価を、レジスト開発という一つの流れでそろえます。
強み
- 露光から現像解析までを一続きにできる
試験用の露光装置で条件を変えて露光したサンプルを、現像アナライザで解析します。 会社はこの組み合わせでレジストの材料開発とプロセス開発を速めるとしています。
フォトプロセス解析露光装置 - 測定値をシミュレーションの入力に変える
RDAは現像速度、コントラストカーブ、感度を測り、リソグラフィ・シミュレータに必要なレジスト・モデリング・パラメータを決めます。
RDAシリーズ - 材料・装置メーカーの開発部門が顧客層
会社は、LITHOTRAC CB-50が半導体デバイスメーカーに加え、半導体製造装置、材料、基板、マスクのメーカーの研究開発部門から生産用途まで採用されていると説明しています。
LITHOTRACシリーズ - 装置を使った受託測定・受託研究
自社のデモ機で、シミュレーション用のレジスト・パラメータ測定や、感光性材料の性能評価、材料の最適化検討を受託します。
受託測定・受託研究
リスク・検討点
- 採用の募集は止まっている
公式採用ページには、現在は募集を行っていないとあります。 募集を行う際はホームページで案内するとしています。
採用情報 - グループの成長の柱は別の分野
親会社は、半導体・フォトマスク分野の伸びの中心をアドバンストパッケージ向けのDI露光機としています。 同じ資料で、リソテックジャパンの担当はレジスト材料分野の研究室用レジスト評価装置です。
親会社 2027年3月期第1四半期決算説明資料 - 装置は顧客の要求ごとに設計する
LITHOTRACは顧客の要求に沿った仕様で提供する装置です。 DB-50も現像方式や基板形状に合わせて装置を設計します。
LITHOTRACシリーズ
04待遇
採用窓口
リソテックジャパンは現在、採用の募集を行っていません。
05拠点と募集状況
会社拠点と、現在の募集状況
本社は埼玉県川口市にあります。
会社概要にある事業
- 微細加工プロセス評価
- 装置開発
- 製造
- 販売
- 輸出入
- 保守サービス
会社概要の事業内容です。
06これから
会社が次に取りにいくもの
リソテックジャパンは、EUVレジストの評価装置と、ミニマルファブ向けの小型コータ・デベロッパを手がけています。
これからの材料
- EUV評価
- EUVES-9000は露光、自動搬送、PEB、残留ガス分析を組み合わせた装置です。 フォトプロセス解析露光装置
- 材料・現像方式
- LITHOTRACはEB・EUV・ArF・KrFレジストと、アルカリ・有機現像を対象に挙げています。 LITHOTRAC
- ミニマルファブ
- 0.5インチウェーハ向けのコータ・デベロッパを開発しています。 ミニマル
EUVレジストの露光とアウトガス評価
EUVES-9000は13.5 nmの露光に自動搬送、露光後すぐのPEB、残留ガス分析を組み合わせます。 EUVOM-9000はEUVレジストからのアウトガスを定量的に評価します。 EUVOM-9000はEUV光源の代わりに電子ビームを使います。
ミニマルファブ向けの小型塗布・現像装置
会社はミニマルファブ技術研究組合に参加し、0.5インチウェーハ用のコータとデベロッパを開発しています。 装置の大きさは294mm(W) × 450mm(D) × 1,440mm(H)です。 研究開発、試作、少量多品種の生産向けの仕組みです。
親会社は半導体分野の大幅な伸びを見込む
親会社は2027年3月期に、半導体・フォトマスク分野の売上高が前年から60.0%増えると予想しています。 成長の軸をFPDから半導体へ移すとしています。 セグメントの数字はグループ各社の合計です。
07応募の準備
募集再開に備えて、入口を調べる
いまは募集がありません。 募集の再開に備え、関心のある製品について、材料、処理条件、測定値、解析結果を一つの流れで話せるようにしておきます。
応募前の3手
- LITHOTRAC、RDA、露光装置、シミュレータから一つ選ぶ
- 材料・基板・測定条件と、得られるデータを製品ページで整理する
- 募集が始まったら募集要項の職種、勤務地、応募条件と照らす
他社との違いを一言で
- 量産ライン向けコータ・デベロッパ
SCREEN Semiconductor Solutions
RF-200EX／RF-300EXは高い生産性と小さな設置面積、レジストと電力の使用量削減を訴求する量産装置です。リソテックジャパンは塗布・現像に加え、現像速度の測定や試験露光の装置をそろえます。
- 先端EUV工程の量産トラック
Tokyo Electron
CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICEは、High NA EUVの微細パターニングに向けた欠陥制御技術を掲げ、ロジック、DRAM、NANDの大量生産に向けた装置です。
- 研究開発から量産までの塗布・現像装置
SUSS
研究室向けの手動機LabSpinから量産機までをそろえ、先端の後工程向けを訴求します。
出典18件
- 公式 公式サイト
- 公式 会社概要
- 公式 製品情報
- 採用 採用情報
- 公式 LITHOTRACシリーズ
- 公式 RDAシリーズ
- 公式 フォトプロセス解析露光装置
- 公式 Virtual Lithography Simulator