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装置 / リソグラフィ リソグラフィ装置、計測・検査、ソフトウェア、サービス

ASML

光でパターンを写す会社

オランダの露光装置メーカー。
EUV露光装置を作れるのは世界でこの1社だけです。

ASMLは、回路パターンをウェーハへ写す露光装置の会社です。 2025年の売上は5兆7,876億円、売上総利益率52.8%、純利益1兆6,991億円。 露光装置市場3兆5,561億円のうち91%を取り、EUV露光装置では代替の供給元が無い状態です。 2026年第3四半期 の売上は過去最高の2兆637億円でした。 会社は2026年通期の売上を7兆7,876億円〜7兆9,646億円と見込んでいます。

  • 2025年 売上 5兆7,876億円 売上総利益率 52.8% / 純利益 1兆6,991億円
  • 2026年Q3 売上 2兆637億円 売上総利益率 57.5% / 純利益 8,778億円
  • 2026年 通期の会社見通し 7兆7,876億円〜7兆9,646億円 売上総利益率 約56% / 2026-10-14 公表

2026年Q3の売上2兆637億円の内訳

  • 装置販売1兆4,814億円 / 72%
  • 設置ベース管理(保守・改造)5,823億円 / 28%

この会社の要点

向いている入口 Module assembly / adjustment / testing (J-00341765)

精密機器の組立、測定、試験、品質記録、標準作業の経験を持つ人。

入口を選ぶ
主なリスク 輸出規制の直撃

装置の輸出は各国の規制対象です。 地域別の販売可否が政策で変わります。

強みとリスク
出典 出典一覧(21件)

公式 6件 / IR 8件 / 採用 6件 / 第三者 1件

01立ち位置

何の会社として比べるか

経済産業省資料でASML名が載るのは露光とウェハ表面検査の2工程です。

首位を取っている工程の市場規模

億円 · 2023年

3兆5,561億円 露光装置市場。 前工程では最大

  • Applied Materials 5兆3,486億円
  • ASML 3兆5,561億円
  • TEL 7,590億円
  • SCREEN 6,794億円

ASMLは1工程だけでこの規模を取っています。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験/検査装置市場年鑑2024」を基に経済産業省が作成。

工程別の市場規模

億円 · 2023年
  • 露光 3兆5,561億円
  • エッチング 2兆3,383億円
  • 成膜(CVD) 2兆218億円
  • ウエハ表面検査 7,952億円
  • 枚葉式洗浄 6,794億円
  • 成膜(スパッタ) 5,643億円
  • CMP 4,242億円
  • 塗布・現像 4,183億円
  • 熱処理 3,407億円
  • 首位を取っている工程
  • 経済産業省図で首位以外として掲載
  • 経済産業省図で社名掲載なし

表面検査のASMLシェアは10%です。 元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験/検査装置市場年鑑2024」を基に経済産業省が作成。

14工程ぶんの企業シェアを比べる
代わりが無い領域

EUV露光装置。 公式製品ページ のNXE(0.33 NA)とEXE(0.55 NA、High NA)が、先端ロジックと先端DRAMの量産に使われます。 装置1台は建屋規模で、据付と立ち上げに顧客ファブでの長期作業が伴います。

露光以外の製品

DUV(ArF液浸・ArF・KrF・i線)、計測・検査、そして 計算リソグラフィ のソフトウェア。 装置単体に加えて、パターンを写す条件までまとめて提供します。 表面検査工程では10%で、首位はKLAの69%です。

同じ工程の相手

露光ではキヤノン4%、その他5%。 EUVでは代替の供給元が無い状態が続き、ニコンとキヤノンはArF以前の世代とナノインプリントで別の道を選んでいます。

装置を売り切らず、設置ベースから継続的に稼ぐ

2026年Q3の設置ベース管理売上は5,823億円で、四半期売上の28%。 保守と性能改造からなる売上で、生産性を上げるアップグレードの需要が強く、会社見通しを上回りました。 約10,000人が顧客支援に携わります。

生産能力の増設ペースが、業界の投資計画を映す

2027年に向けて低NA EUVの生産能力を約65台から30%増、DUV液浸を約130台から30%増やす計画です。 2028年にはさらに30%の上積みを検討しています。 装置を作る現場と、据付・立ち上げの現場が同時に増えます。

02収益

どこで、どれくらい儲けているか

2025年は売上5兆7,876億円、純利益1兆6,991億円でした。 2026年Q3の売上は2兆637億円で、うち設置ベース管理が5,823億円です。 売上総利益率は57.5%まで上がりました。

四半期売上の推移

億円 · 2026年Q1 → Q3
  • 26Q1 1兆5,522億円
  • 26Q2 1兆6,513億円
  • 26Q3 2兆637億円

会社は26Q4の売上を2兆5,132億円〜2兆6,902億円と見込んでいます。 2025年通期は5兆7,876億円でした。

装置の販売台数

新品 · 中古
  • 2025年 通期 300台 中古27台。 設置ベース管理売上は1兆4,495億円
  • 2026年Q2 86台 中古5台
  • 2026年Q3 113台 中古8台。 四半期の設置ベース管理売上は5,823億円
受注と受注残

2025年の受注は4兆9,628億円、年末の受注残は6兆8,672億円。 2026年上期も強い受注が続いています。

見通しの引き上げ

会社の2026年通期の売上見通しは、1月時点で6兆176億円〜6兆9,026億円でした。 7月に7兆6,106億円〜7兆9,646億円へ上げ、10月に7兆7,876億円〜7兆9,646億円としました。 AI向けの先端ロジックとメモリ投資が理由として挙げられています。

株主還元

2026年Q3に約7,256億円を自社株買い、2026年の中間配当は1株332.74円。 2026-2028年の自社株買いプログラムの一部です。

03強みとリスク

強みと、リスク・検討点

1工程に集中して代替不能な位置を取る形と、その裏返しの偏りは、同じ決算のなかに一緒に出ています。

強み

  • EUVの独占

    ASML公式製品ページは、同社をEUV露光装置の唯一のメーカーと記載。 先端ノードの微細化で代替しにくい位置です。

    ASML EUV lithography systems
  • 設置ベースからの継続収益

    2026年Q3の設置ベース管理売上は5,823億円で四半期売上の28%。 生産性を上げるアップグレードの需要が強く、会社見通しを上回りました。

    ASML Q3 2026 financial results
  • 装置とソフトの一体提供

    計算リソグラフィでマスク・スキャナ・プロセスを同時に最適化します。 装置性能と量産条件の両方から歩留まりへ踏み込めます。

    ASML Computational lithography

弱み

  • 経済産業省資料では2工程に掲載

    経済産業省資料の掲載は露光とウェハ表面検査の2工程。 成膜・エッチングに投資が偏る局面では、同図の範囲で取り分が増えにくくなります。

    経済産業省 p.5(2023年値)
  • 輸出規制の直撃

    装置の輸出は各国の規制対象です。 地域別の販売可否が政策で変わります。

    ASML 2025 Annual Report
  • 装置単価と据付負荷

    装置は顧客fabで据付・検収され、売上認識の時期が出荷と現地での受入状況に左右されます。 受注・据付・顧客受入の進捗が収益化時期を左右します。

    ASML 2025 Annual Report

04日本での待遇

日本での仕事と規模

全社の従業員数
2025年末で44,000人超。 うち約10,000人が顧客支援に携わります。
日本での仕事
装置の納入、据付、保守を日本の顧客ファブで担います。 日本での働き方 に職種と拠点の考え方が載っています。
選考と応募
応募は 公式採用ページ から。 募集ごとに勤務地、必要な経験、language requirementが異なります。

05勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

ASMLは欧州・米国・アジアの7つのクリーンルーム工場を持ち、7,000人超が組立、試験、出荷に携わります。 日本では顧客ファブの近くで据付、保守、アプリケーション支援を担います。 拠点は世界60か所以上です。

拠点

オランダ
Veldhoven: EUV/DUV装置のcleanroom assembly・testing。 EindhovenとOirschotにも製造拠点があります。
Wilton / 米国
reticle handler・reticle-stageの組立と試験、光学部品の社内加工。
San Diego / 米国
EUV光源のdroplet generatorと、Cymer製のDUV光源。
Berlin / ドイツ
光学部品と精密加工。
Linkou / 台湾
reticle handlers、YieldStar計測、既存装置の整備・改造。
Tainan / 台湾
HMI e-beam・multibeam検査システムのR&Dと生産。
Pyeongtaek / 韓国
韓国の製造拠点。
日本
東京ほか顧客ファブ近接拠点。 主に据付、保守、アプリケーション支援。
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製品カテゴリ(公式製品一覧)

  • EUV露光装置
  • DUV露光装置
  • 計測・検査装置
  • 計算リソグラフィ
  • カスタマーサポート

日本の募集はサポートとアプリケーション側が中心です。 開発職はオランダ拠点が主になります。

仕事の区分

据付・立ち上げ
顧客ファブで装置を組み上げ、規格どおりの性能が出るまで調整します。
保守・改造
稼働中の装置の性能維持と、設置ベース管理として売られる性能改造を担当します。
アプリケーション
顧客の露光条件を計測データとシミュレーションから詰めます。 計算リソグラフィとつながる領域です。
公式の製造求人(2026-10-04に確認)
VeldhovenのAssembler Module Production EX Subs(J-00341765)は組立・調整・試験、WiltonのSenior Process Engineer – Optical Fabrication(J-00341819)は研削・研磨工程と歩留まり・品質改善、San DiegoのManufacturing Engineer(J-00354026)はEUV製造工程、拠点移管と生産立上げを扱います。 各職種の詳細: Veldhoven / J-00341765 Wilton / J-00341819 San Diego / J-00354026
San Diegoの雇用主体
San DiegoのManufacturing Engineerの雇用主体はASML US、LPです。

求人DBの公開求人 21件

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  • イオンビーム光学部品製造オペレーター
  • 物流・倉庫
  • リソグラフィ光学部品組立グループリーダー
  • 電子ビーム装置診断ソフトウェアエンジニア
  • HMIプログラム・オペレーション支援マネージャー
  • ノードソリューション統合フィールドアプリケーションエンジニア
  • 先端ノード製品フィールドアプリケーションエンジニア
  • リソグラフィ工程アプリケーションエンジニア
  • 計算リソグラフィ・ソフトウェアアプリケーションエンジニア
  • 装置導入資材・SAPコーディネーター
  • HMI MBI・SBIフィールドサービスエンジニア
  • Cymerレーザー・フィールドサービスエンジニア
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06これから

会社が次に取りにいくもの

ASMLは2027年へ向けて低NA EUVとDUV液浸の生産能力を30%増やす計画です。 2028年はさらなる増強の方法を検討しています。 次の長期見通しは2027年6月10日のCapital Markets Dayで示す予定です。

2027年へ向けた生産能力の増設

2026年時点の能力を100とした計画
  • 低NA EUV 約65台 → +30% 2026年の能力約65台(縦線)から2027年に30%増。 2028年はさらに30%を検討
  • DUV液浸 約130台 → +30% 2026年の能力約130台(縦線)から2027年に30%増。 2028年はさらに30%を検討
  • 2026年通期見通し 7兆7,876億円〜7兆9,646億円
  • 売上総利益率見通し 約56%
  • Capital Markets Day 2027-06-10
High NA EUV
EXE系(0.55 NA)が2 nm世代以降の量産を支えます。 低NAとの使い分けは顧客のプロセス設計で決まります。
アップグレード
既設装置の性能を上げる改造の品揃えを拡大しています。 設置ベース管理売上の伸びに直結する領域です。
需要の前提
AI向けの先端ロジックとメモリの投資が続き、顧客が能力増強計画を前倒ししていることを理由に挙げています。
製品群DBで対応工程を調べる

07入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

光学、精密機械、真空、熱、制御、計測、ソフトウェア。 露光装置は物理と制御の集合体です。 どの要素に自分の専攻が重なるかを先に選定します。

クリーンルーム製造

Module assembly / adjustment / testing (J-00341765)

モジュールのクリーンルーム組立、調整・試験、システム引渡し、工程改善を担う製造職。

  • J-00341765
  • Veldhoven
  • cleanroom assembly
  • testing
公式採用情報
工程技術・歩留まり

Optical fabrication process engineering (J-00341819)

研削・研磨工程の開発と安定化、工程性能、歩留まり・品質改善を担う。

  • J-00341819
  • Wilton
  • optical fabrication
  • yield
公式採用情報
製造工程・立上げ

EUV manufacturing engineering (J-00354026)

EUV製造プロセスの設計・トラブル対応、他拠点移管、workcenter qualification、build validationと量産立上げを担う。 求人上の雇用者表示はASML US、LP。

  • J-00354026
  • San Diego
  • EUV manufacturing
  • production ramp
公式採用情報

他社との違いを一言で

  • 露光装置

    ニコン / キヤノン

    経済産業省2023年値ではキヤノン4%、その他5%。ASMLは91%で、EUVでは代替の供給元が無い状態が続く。

  • 前工程装置

    Applied Materials

    9工程に製品を持ち4工程で首位。ASMLは2工程だが、露光1工程の市場規模が3兆5,561億円と大きい。

  • 塗布現像 / エッチング

    東京エレクトロン

    露光の前後にあたる塗布現像で85%。ASMLの装置とTELの装置は同じラインで隣り合う。

  • 検査・計測

    KLA

    ウエハ表面検査で69%の首位。ASMLは同じ工程で10%の3番手。

比較の出典:経済産業省 半導体・デジタル産業戦略の現状と今後 このページの出典一覧へ

出典21件

元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験/検査装置市場年鑑2024」を基に経済産業省が作成。

ほか13件

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