半導体製造装置 LED・化合物半導体向け露光装置
大日本科研
LED素子の露光装置を京都で設計から組み立てる専業メーカー
LED素子をつくる化合物半導体用の露光装置を主力にする、社員128名の京都の装置メーカーです。
2025年4月期の売上高27億円の規模で、300mm対応機とマスクレス露光機まで自社で設計・組立します。
大日本科研は LED素子製造用露光機 を300台以上納入してきた京都の露光装置メーカーです。 社員は128名 で、2025年4月期の売上高は27億円です。
- 2025年4月期 売上高 27億円 露光装置を中心とする精密機器の専業。 資本金は0.5億円
- 社員数 128名 2026年9月。 男性112名、女性16名で女性比率12.5%
- 平均勤続年数 19.6年 2024年度。 月平均の所定外労働は4.4時間
主要納入先に載る会社・機関の数国内98 · 海外88、合計186の掲載先を分母
- 国内の納入先98社・機関
- 海外の納入先88社・機関
この会社の要点
01立ち位置
何の会社として比べるか
大日本科研は、半導体・LED・ディスプレイの製造で回路パターンを焼き付ける露光装置の専業メーカーです。 社員128名、2025年4月期の売上高27億円の規模で、国内外186の納入先に装置を出しています。
社員128名・売上高27億円
主要納入先の掲載数
社員の構成
韓国・台湾・中国・インドに販売とサービスの窓口
海外事業所の数
化合物半導体用露光装置（マスクアライナ）
レジストを塗ったウェハをフォトマスクに重ね、パターンを焼き付ける装置です。 供給・位置合わせ・露光・排出を自動で行います。 独自の平行出し機構でマスクとウェハの隙間（プロキシミティギャップ）を高精度に設定します。 画像処理によるプリアライメント（オプション）で、薄い基板や反った基板、水晶など割れやすいウェハも扱えます。
- MA-4000（Ø2〜4″・Ø4〜6″）
Ø200mm・Ø300mm対応露光装置
8インチと12インチのウェハを扱う自動露光装置です。 200mm機は1枚19秒（プロキシミティ方式）、アライメント精度は±1μmです。 300mm機は1枚32秒で、裏面アライメント精度は±1.5μmです。 露光方式はプロキシミティ、ソフト・ハード・バキュームコンタクトから選べます。
- MA-4301M
マスクレス露光装置
フォトマスクを作らずに、設計データから直接パターンを描く装置です。 テキサス・インスツルメンツ製のマイクロミラー素子（DMD）で光を作り、約70万本の光ビームを1秒間に3万回オン・オフします。 最小線幅は機種により1μmまでで、半導体、高密度パッケージング、MEMS、FPDの試作に向きます。
- MX-1201
- MX-1201E
- MX-1205
MEMS用露光装置
露光中にマスクをピエゾステージで細かく動かし、レジストに当たる光の量の分布を変える装置です。 これで曲面や傾斜を持つ立体的な微細構造をつくります。 厚膜レジストの側壁の傾斜角度を制御でき、基板は最大8インチです。 2008年にMUM露光装置で経済産業省の関西フロントランナー大賞を受けました。
- MUMシリーズ
フィルム用・FPD用露光装置
ロール状のフィルムを巻き取りながら連続で露光する装置と、ディスプレイ用ガラス基板の露光装置です。 用途はタッチパネル、有機EL、プリント配線板、カラーフィルタなどです。 2025年に第8.6H世代用のRoll to Roll両面露光装置の出荷を始めました。
- フィルム用露光装置
- G1〜G4.5基板用プロキシミティ露光装置
- G3〜G5基板用縦型プロキシミティ露光装置
02収益
どこで、どれくらい儲けているか
主力製品はLED素子をつくる化合物半導体用の露光装置で、300台以上の納入実績があります。 装置は基板サイズや光源の出力、特殊仕様の相談を受けて顧客ごとに仕上げ、売上高は2025年4月期で27億円です。
03強みとリスク
強みと、リスク・検討点
強みは光源・機構・制御を自社で設計し、組立と調整まで社内で仕上げる一貫体制です。 弱点は規模で、売上27億円・新卒採用年0〜2名の体制でLED、半導体、ディスプレイの3市場を相手にしています。
強み
- LED素子用露光機で300台以上の納入実績
LED素子製造用露光機は300台以上を納入し、会社は世界シェアトップクラスとうたいます。 2003年にLED・LD用露光機を出荷し、2011年にはLED・LD用ステッパも開発しました。 海外の主要納入先にはEPISTARやSANAN OPTOELECTRONICSが載ります。
新卒採用 会社概要（マイナビ2027） - 光源から制御まで自社で設計する
設計部門は光学・精密機械・電気の3分野です。 光学部門は超高圧水銀灯やUV-LEDを光源にしたランプハウスと画像処理を開発します。 ランプハウスに使うフライアイレンズは、独自の設計・製造方法で特許を取りました。
生産体制 設計部門 - 製品の幅が広い
会社は、LED素子用、Roll to Rollのフィルム用、マスクレス露光機の3種類を全部開発しているのは自社だけとうたいます。 研究用の手動機から300mmウェハ用、超大型ガラス基板用まで同じ会社が手がけます。
新卒採用 会社概要（マイナビ2027） - 組立・調整・据付を社内の技術者が担う
装置の組立から最終調整まで社内で行い、クリーンルームで調整作業をします。 納品時も調整担当技術者が搬入・据付をして、現場で再び機能テストを行います。 納入後はサービスエンジニアが保守と点検を担います。
生産体制 メンテナンス部門
リスク・検討点
- 売上27億円で大手と同じ市場に立つ
露光装置メーカーは、キヤノンやニコンから従業員50名以下の会社まで約50社あると会社は数えます。 その中で大日本科研は2025年4月期の売上高27億円、社員128名の会社です。 大手と同じ露光の市場で、用途ごとの専用機をそろえて戦っています。
新卒採用 会社概要（マイナビ2027） - 主力がLED用途に寄っている
採用ページで会社が前面に出す製品はLED素子用の化合物半導体用露光装置です。 会社は、LEDが広まるにつれて大日本科研への引き合いも多くなっていると述べます。
新卒採用 会社概要（マイナビ2027） - ディスプレイ向けの比重
トップメッセージは、液晶パネル製造装置を中心に展開してきたと述べます。 FPD用とフィルム用の露光装置の用途もタッチパネルや有機ELで、ディスプレイ関連の製造が事業の一角を占めます。
トップメッセージ - 新卒採用が年0〜2名と細い
新卒採用は2021年から2025年の5年間で計7名です。 2024年は2名を採用して1名が離職し、定着率は50.0%でした。 1人の退職の重みが大きい人数です。
新卒採用 会社概要（マイナビ2027）
04待遇
給与、初任給、休日、手当
新卒の初任給は設計開発職の大学院了で23.8万円、学部卒で22万円です。 年間休日は120日、月平均の所定外労働は4.4時間、平均勤続年数は19.6年と長く勤める人が多い会社です。
新卒初任給（月給）
- 初任給と昇給・賞与
- 設計開発職の大学院了は23.8万円、大学卒と営業職の大学卒は22万円です。 固定残業制度はなく、昇給は年1回（5月）、賞与は年2回（12月、4月）です。 条件は 新卒採用 募集要項（マイナビ2027） に載ります。
- 勤務時間と休日
- 勤務時間は8:15〜17:00で実働8時間です。 土日の完全週休2日制で、GW・夏季・年末年始の休暇があり、年間休日は120日です。
- 手当と福利厚生
- 交通費全額支給、住宅手当、家族手当、皆勤手当、年金財形補助手当があります。 退職金制度、中退共、財形貯蓄制度、社内融資も使えます。
- 働き方の実績
- 2024年度は平均勤続年数19.6年、月平均の所定外労働4.4時間、有給休暇の平均取得12.5日でした。 20代から60代までの社員が各職場にいます。
- 勤務地と転勤
- 新卒の勤務地は京都で、転居を伴う転勤はありません。 本社はJR向日町駅の東隣にあります。
05勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
本社は京都府向日市にあり、京都市内に4つの工場を持ちます。 東工場には大型機用のクリーンルームがあり、2023年に南棟を増やしました。 営業の拠点は東京にも置いています。
主な勤務地・拠点
- 本社
- 京都府向日市寺戸町久々相1番地JR向日町駅の東隣
- 東工場・東第二工場
- 京都市南区久世殿城町190番地1東第二工場は大型装置対応（2004年増設）、東工場は2023年に南棟を増設
- 大原野工場
- 京都市西京区大原野石見町28番地1
- 横大路工場
- 京都市伏見区横大路天王後11番
- 東京営業所
- 東京都千代田区神田紺屋町46番地 双川ビル4階
- 海外の窓口
- 韓国2社、台湾2社、中国3社、インド1社2000年に韓国・台湾へサービス拠点を開設
面接で使う技術語
- 露光
- マスクアライナ
- プロキシミティギャップ
- オートアライメント
- ランプハウス
- フライアイレンズ
- マスクレス露光
- Moving UV mask法
- Roll to Roll
プロキシミティギャップはマスクとウェハの間の隙間で、平行出し機構で高精度に設定します。
06これから
会社が次に取りにいくもの
新しい製品には、2025年に出荷を始めた第8.6H世代のRoll to Roll両面露光装置、300mmウェハ用マスクアライナ、マスクレス露光機があります。
これからの材料
- 大型フィルム
- 第8.6H世代用のRoll to Roll両面露光装置の開発・出荷を2025年に始めたと 会社沿革 に載ります。
- 300mmウェハ
- MA-4301Mは200mmと300mmのウェハに対応し、300mm機は1枚32秒で露光します。 2019年にはSCREENのBest Supplier Awardを受けています。
- マスクレス露光
- 約70万本の光ビームで、データ分解能1μmなら600mm長の基板を7秒でスキャンでき、フォトマスクを作る費用と時間を省けます。
大型フィルムのRoll to Roll両面露光
2025年に第8.6H世代用のRoll to Roll両面露光装置の開発・出荷を始めました。 2014年にはフィルム用Roll to Roll両面露光装置を開発しています。 第8.6H世代機は2025年に出荷を始めた新しい装置です。
マスクレス露光の試作需要
2017年にマスクレス露光機の合弁会社INDEXテクノロジーズを吸収合併しました。 マスクを作らない分だけコストと時間を減らせるとし、少量多品種と研究開発に売り込みます。 MXシリーズの最小線幅は機種により1μmまでで、最大基板は200×200mmです。
300mmウェハ用マスクアライナ
2020年に8インチウェハ用の新型マスクアライナーを発売し、現在は300mmウェハ用のMA-4301Mも製品に載せています。 200mm機は1枚19秒、300mm機は1枚32秒で露光します。 主要納入先には、ソニーセミコンダクタやロームなどの半導体メーカーが載ります。
部品の受託検査サービス
装置部品の検査で培ったノウハウで受託検査を始め、2025年9月までに40件・162個を検査しました。 ミツトヨ製の三次元測定機などで寸法や真円度を測ります。 検査の窓口は品質管理課で、寸法検査と平面度・真円度などの精度測定を受けます。
07入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
応募前に、主力のLED素子用マスクアライナと、300mm機・マスクレス機のどれに関わりたいかを決めます。 そのうえで設計開発職なら光学・機械・電気のどの課を志望するかを固めます。
設計開発職
自社開発の露光装置や周辺機器を設計します。 光学設計、機械設計、電気設計、制御プログラム開発のいずれかを担当します。 技術部の3課は同じフロアにあり、課をまたいだやり取りが多い職場です。
新卒採用 募集要項（マイナビ2027）営業職
国内と海外の顧客へ露光装置を売り込み、事務作業も担います。 お客様や代理店とのやり取りが多く、電話やオンライン会議で海外の取引先とも話します。
新卒採用 募集要項（マイナビ2027）開発・設計技術者
開発・設計技術者を随時受け付けています。 設計部門は光学、精密機械、電気の3分野で、ランプハウス、パーティクルを抑える機構、シーケンス制御とタッチパネル操作画面を設計します。
- 光学設計
- 精密機械設計
- 電気設計
応募前の2手
- MA-4000、MA-4301M、MXシリーズの製品ページから1機種を選び、どの工程で何を焼き付ける装置かを1行で書く
- 主要納入先の国内98・海外88の一覧から、知っている半導体・ディスプレイ企業を3社選んで志望動機に使う
面接で使う技術語
- 露光
- マスクアライナ
- ランプハウス
- 画像処理
- シーケンス制御
- 海外営業
- 代理店
- LED
- タッチパネル
- FPD
設計開発職は理工系、営業職は文理不問です。 経験者は開発・設計技術者を随時受け付けています。
他社との違いを一言で
- ウェハ用マスクアライナ
SUSS
SUSSのマスクアライナは最大300mmの基板に対応し、研究開発から量産までを用途に掲げます。大日本科研も300mmウェハ用のMA-4301Mを持ち、主力はLED素子用の化合物半導体用マスクアライナです。
- マスクアライナとマスクレス露光
EV Group
EV Groupのマスクアライナは最大200mmの基板に対応し、先端パッケージング、MEMS、化合物半導体を重点市場に挙げます。量産向けのマスクレス露光システムも持ちます。大日本科研はDMDを使うMXシリーズで、研究開発と小ロット向けのマスクレス露光機を出しています。
- 半導体露光装置
キヤノン
キヤノンはKrFスキャナーや前工程向けのi線ステッパーをそろえ、マスクの回路パターンをウェハへ転写します。大日本科研の主力はウェハをマスクに重ねて焼き付けるマスクアライナで、LED・MEMS・フィルムなどの用途に製品をそろえます。
- FPD用露光装置
ニコン
ニコンは第10.5世代のFPD露光装置を持ち、FPD露光装置で高いシェアを得たと述べます。大日本科研のFPD用はG1〜G5基板向けのプロキシミティ露光機で、タッチパネル、有機EL、カラーフィルタ用途です。
出典28件
- 公式 会社概要 2026年9月 · 株式会社大日本科研 · 会社概要
- 公式 会社沿革 株式会社大日本科研 · 会社沿革
- 公式 トップメッセージ 株式会社大日本科研 · トップメッセージ
- 公式 主要納入先 株式会社大日本科研 · 国内・海外の納入先一覧
- 公式 事業所マップ 株式会社大日本科研 · 国内事業所・海外事業所
- 公式 生産体制 設計部門 株式会社大日本科研 · 光学部門・精密機械技術・電気技術
- 公式 生産体制 製造部門 株式会社大日本科研 · 製作手配・加工・組立・調整
- 公式 生産体制 メンテナンス部門 株式会社大日本科研 · 納品・メンテナンス・顧客管理
ほか20件
- 公式 受託検査サービス 2025年9月 · 株式会社大日本科研 · 受託検査サービス実績
- 公式 化合物半導体用露光装置（マスクアライナ） 大日本科研 製品 · 主な特長・主な仕様
- 公式 Ø200mm対応露光装置 大日本科研 製品 · MA-4301M 主な仕様
- 公式 Ø300mm対応露光装置 大日本科研 製品 · MA-4301M 主な仕様
- 公式 MEMS用露光装置 大日本科研 製品 · MUMシリーズ
- 公式 マスクレス露光装置 大日本科研 製品 · MXシリーズ 主な仕様
- 公式 技術情報 マスクレス露光技術 大日本科研 技術 · ポイントアレイ方式
- 公式 技術情報 理想的な平行光 大日本科研 技術 · 光学技術の特徴
- 公式 フィルム用露光装置 大日本科研 製品 · 主な用途
- 公式 FPD用露光装置 大日本科研 製品 · G1〜G4.5・G3〜G5・超大型基板用
- 公式 実験・研究用露光装置 大日本科研 製品 · MA-1200・MA-1300・MA-1400
- 採用 職場環境 大日本科研 採用 · 社内風景・従業員像
- 採用 新卒採用 2027年卒 · 大日本科研 新卒採用 · 新卒採用情報
- 採用 経験者採用 大日本科研 経験者採用 · 経験者採用情報
- 採用 新卒採用 会社概要（マイナビ2027） 2025年4月期 · 大日本科研 新卒採用 · 会社データ・働き方データ・採用実績
- 採用 新卒採用 募集要項（マイナビ2027） 2027年卒 · 大日本科研 新卒採用 · 募集コース・採用後の待遇
- 公式 SUSS マスクアライナ製品ページ SUSS 製品 · Mask Alignment
- 公式 EV Group リソグラフィ製品ページ EV Group 製品 · Lithography
- 公式 キヤノン 半導体露光装置 キヤノン 製品 · Semiconductor Lithography Equipment Lineup
- 公式 ニコン 精機事業 ニコン 精機事業 · FPD・半導体露光装置