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半導体製造装置 電子ビームマスク描画装置

ニューフレア テクノロジー

半導体の回路原版を電子ビームで描く東芝の装置メーカー

フォトマスクを描く電子ビーム描画装置が主力のメーカーで、2026年3月期の単体売上高は1,380億円です。
営業利益率25.7%を残し、上場時代の2019年3月期から売上を2.4倍に伸ばしました。

ニューフレアテクノロジーは マスク描画装置 とSiC向けの エピタキシャル成長装置 を作る東芝の100%子会社です。 2026年3月期の単体売上高は1,380億円、営業利益率は25.7%でした。

  • 2026年3月期 単体売上高 1,380億円 2019年3月期の573億円から2.4倍
  • 2026年3月期 営業利益 354億円 営業利益率25.7%。 経常利益は374億円
  • 従業員数 1,144名 2019年3月期の543名から2.1倍

2026年3月期の単体売上高1,380億円の内訳

  • 売上原価720億円
  • 営業利益354億円
  • 販売費及び一般管理費304億円

この会社の要点

向いている入口 技術・開発(機械設計分野)

機械設計分野の募集です。 応募資格は理工系全学部全学科です。

入口を選ぶ
主なリスク 先端の描画はマルチビーム型で更新

シングルビーム型は1本のビームで描き、マルチビーム型は何十万本ものビームを同時に使います。 会社自身も、マルチビーム型のほうが高速かつ高精度に描けると書いています。 最新機のMBM-4000も、2nm対応のMBM-3000に続くマルチビーム型です。

強みとリスク
出典 出典一覧(25件)

公式 13件 / 採用 10件 / ニュース 1件 / 第三者 1件

01立ち位置

何の会社として比べるか

ニューフレアテクノロジーは、半導体の回路原版を描く電子ビーム描画装置のメーカーです。 2026年3月期の単体売上高は1,380億円で、上場していた2019年3月期の2.4倍になりました。

単体の実績

2015年3月期から2026年3月期までの売上高

官報 第31期 決算公告

売上高

億円 · 有価証券報告書の経営指標と官報の決算公告
  • 2015年3月期 424億円
  • 2016年3月期 438億円
  • 2017年3月期 472億円
  • 2018年3月期 411億円
  • 2019年3月期 573億円
  • 2026年3月期 1,380億円

経常利益

億円 · 有価証券報告書の経営指標と官報の決算公告
  • 2015年3月期 121億円
  • 2016年3月期 128億円
  • 2017年3月期 133億円
  • 2018年3月期 92億円
  • 2019年3月期 119億円
  • 2026年3月期 374億円
人員

従業員数は7年で2倍を超えた

会社概要

従業員数

名 · 有価証券報告書の経営指標と会社概要
  • 2015年3月期 510名
  • 2016年3月期 507名
  • 2017年3月期 536名
  • 2018年3月期 525名
  • 2019年3月期 543名
  • 2026年3月末 1,144名
マスク描画装置

電子ビームマスク描画装置

半導体の回路パターンを、電子ビームでフォトマスク上に描く装置です。 マルチビーム機は26万本以上の電子ビームを同時に制御し、MBM-2000は3nmノード、MBM-2000PLUSは3nm+ノードのマスク量産に対応します。 1本のビームで描くEBMシリーズは、EBM-9500PLUSが7+/5nmノード向けです。 テラバイト級の描画データを誤りなく偏向器へ渡す処理を、数時間で終えます。

  • マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-2000PLUS
  • マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-2000
  • 可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS
  • 可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-8000P/H・EBM-8000P/M
欠陥検査装置

マスク検査装置

描画を終えたフォトマスクの欠陥を高速に探し、半導体の歩留まりを支える装置です。 NPI-8000は波長199nmのレーザーを光源に使い、6インチのマスクを60分以内で検査します。 会社はEUV露光やナノインプリントへの対応を見据え、5nm世代以降に向けた検査装置も開発しています。

  • マスク検査装置 NPI-8000
  • マスク検査装置 NPI-8000V
成膜装置

エピタキシャル成長装置

ウェーハの上に結晶の向きがそろった薄膜を育てる装置で、SiC・GaNのパワー半導体づくりに使われます。 1枚ずつ処理する枚葉式で、ウェーハを高速回転させてガスを効率よく取り込みます。 EPIREVO S8は200mmのSiCウェーハに対応し、50µm/h以上で成膜します。 Si用のHT2000FDは製造販売を終え、保守だけを続けています。

  • SiCエピタキシャル成長装置 EPIREVO S8
  • SiCエピタキシャル成長装置 EPIREVO S6
  • GaN-on-Si MOCVD装置 EPIREVO G8

02収益

どこで、どれくらい儲けているか

2026年3月期は、売上高1,380億円のうち354億円が営業利益として残りました。 売上原価率は52.2%、販管費率は22.1%です。

2026年3月期 売上高・営業利益(単体)

売上高1,380億円 / 営業利益354億円

売上総利益は659億円で売上総利益率47.8%、営業利益率は25.7%です。 経常利益は374億円、当期純利益は268億円でした。

2026年3月末 総資産・純資産(単体)

総資産1,597億円 / 純資産790億円

純資産比率は49.5%です。 製品保証引当金を20億円積んでいます。

2019年3月期 売上高・経常利益(単体)

売上高573億円 / 経常利益119億円

有価証券報告書 第24期の数値です。 経常利益率は20.9%で、2026年3月期の27.2%より低い水準でした。

2018年3月期 売上高(単体)

売上高411億円

前期の472億円から13.0%減り、経常利益も133億円から92億円へ落ちました。

2026年3月期の売上高の使われ方

億円 · 単体の損益計算書
  • 売上原価 720億円 売上高の52.2%
  • 営業利益 354億円 営業利益率25.7%
  • 販売費及び一般管理費 304億円 売上高の22.1%

売上高の推移

単体 · 3月決算
  • 2015年3月期 424億円
  • 2017年3月期 472億円
  • 2018年3月期 411億円
  • 2019年3月期 573億円
  • 2026年3月期 1,380億円

03強みとリスク

強みと、リスク・検討点

強みは、会社の説明で最先端のシングルビーム描画装置のシェアがほぼ100%に達し、売上の25.7%を営業利益にする収益力です。 危うさは、先端の描画がマルチビームへ移ることと、顧客のほとんどが海外にあることです。

強み

  • 最先端のシングルビーム描画でシェアほぼ100%(会社の説明)

    会社の説明では、ニューフレアは世界の最先端シングルビームマスク描画装置市場でほぼ100%のシェアを獲得しています。 会社は、この市場を開発難易度が高く他社の参入が非常に困難な領域とみています。

    採用サイト 会社概要
  • 売上の4分の1が営業利益になる収益力

    2026年3月期の単体売上高1,380億円に対し、営業利益は354億円でした。 営業利益率25.7%、経常利益率27.2%です。 経常利益は2019年3月期の119億円から3.1倍に増えました。

    官報 第31期 決算公告
  • 世代を切らさない描画装置の更新

    1998年に180nm-150nm対応の商用初号機EBM-3000を出し、2015年には7nm対応のEBM-9500を製品化しました。 2022年にMBM-2000、2023年に2nm対応のMBM-3000、2025年にA14対応のMBM-4000を製品化しています。

    歴史・沿革
  • 描画と検査を同じデータでつなぐ

    マスク検査装置は、描画装置と同一のデータを使って検査できるように作られています。 2006年に検査装置事業を始め、検査光源には199nmのレーザーを積み、マスクの上下から透過光と反射光を同時に当てて検査時間を縮めています。

    採用サイト 主力製品紹介

リスク・検討点

  • 先端の描画はマルチビーム型で更新

    シングルビーム型は1本のビームで描き、マルチビーム型は何十万本ものビームを同時に使います。 会社自身も、マルチビーム型のほうが高速かつ高精度に描けると書いています。 最新機のMBM-4000も、2nm対応のMBM-3000に続くマルチビーム型です。

    ニュースリリース MBM-4000の上市
  • 顧客のほとんどが海外

    採用サイトによれば、顧客のほとんどが海外です。 仕事では英語を使い、60名を超える従業員が米国、ドイツ、台湾などで働いています。

    採用サイト データから価値を知る
  • 年度ごとの売上の振れ

    2018年3月期の単体売上高は411億円で、前期の472億円から13.0%減りました。 経常利益も133億円から92億円へ落ちました。 翌2019年3月期の売上高は573億円まで戻りました。 2015〜2019年3月期の5期で前期を下回ったのは、この1期だけです。

    gBizINFO 有価証券報告書 第24期 経営指標の推移
  • 枚葉式エピ装置のコスト

    エピ装置は1回に1枚を処理する枚葉式です。 社員インタビューは、複数枚を同時に処理するバッチ装置より成膜コストが高くなることが課題だったと語っています。 200mm基板なら150mmとほとんど変わらないコストで成膜できるとし、強みは基板の大口径化が進むことを前提にしています。

    世界が求めるパワー半導体

04待遇

給与、初任給、休日、手当

2026年4月の初任給は修士修了31.2万円、学部卒28.7万円で、年間休日は126日です。 コアタイムのないフレックスタイム制で働きます。

新卒初任給(月給)

円 · 2026年4月実績
  • 博士修了 36万1,500円
  • 修士修了 31.2万円
  • 学部卒 28.7万円
  • 高専卒 24万4,500円
新卒の初任給
2026年4月の実績で、博士修了36万1,500円、修士修了31.2万円、学部卒28.7万円、高専卒24万4,500円です。 昇給は年1回、賞与は年2回です。
勤務時間と休日
勤務時間は8:45〜17:30で、所定労働時間は7時間45分です。 コアタイムのないフレックスタイム制をとり、年間休日は126日です。
平均年間給与
採用サイトは、平均年間給与を全製造業平均比で約1.5倍以上と紹介しています。 データから価値を知る に載ります。
奨学金の返済支援
新卒入社者の貸与型奨学金の返済を、学部卒100万円、修士卒150万円、博士卒200万円を上限に、入社月から48か月間支援します。 福利厚生 のページで制度を読めます。
福利厚生
健康づくりや自己啓発に年間最大30万円を補助するNFT-HEC制度と、年間5万円分のカフェポイントがあります。 借上げ社宅、住宅費補助、確定拠出年金も用意されています。

05勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

国内の拠点は横浜市の新杉田(本社・工場)とみなとみらいの2か所で、国内の転勤はありません。 海外は米国、韓国、台湾、ドイツに拠点を置きます。

主な勤務地・拠点

本社
横浜市磯子区新杉田町8番1本社・工場
みなとみらい
横浜市西区みなとみらい4丁目6番2 みなとみらいグランドセントラルタワー
米国
NuFlare Technology America、Inc.(本社カリフォルニア州サニーベール)開発拠点はニューヨーク、サービス拠点はアイダホ、オレゴン、アリゾナ
アジア・欧州
NFT Korea、Inc.(華城)、NuFlare Technology Taiwan、Inc.(新竹)、ドイツ支店(ドレスデン)
会社概要

仕事の領域

  • システム技術
  • データ制御技術
  • メカトロニクス
  • 電気・電子技術
  • ビーム制御(電子光学)
  • プロセス開発
  • システムインテグレーション
  • 海外営業

プロセス開発は装置の性能評価を担い、納入先工場での立ち上げに加わることもあります。

新卒の選考の流れ

  1. エントリーし、エントリーシート・成績証明書・推薦状を出す
  2. 書類選考と適性検査を受ける
  3. 面接を複数回受ける
公式採用へ

06これから

会社が次に取りにいくもの

最新の製品は、A14ノード対応のマルチビーム描画装置MBM-4000と、200mmのSiCウェーハに対応するエピタキシャル成長装置です。

これからの材料

MBM-4000
50万本以上の電子ビームを制御し、位置精度1.1nm、寸法精度0.5nmを仕様に掲げます。 上市の発表は ニュースリリース で読めます。
SiCパワー半導体
EPIREVO S8は200mmウェハに対応し、50µm/h以上の成膜とロボットによる高温搬送で生産性を高めます。
次世代リソグラフィー
EUV露光やナノインプリントへの対応を見据え、2nm世代以降の描画装置と5nm世代以降の検査装置を開発しています。

A14ノード向けMBM-4000

2025年9月に上市したMBM-4000は、50万本以上の電子ビームを制御します。 2nm対応のMBM-3000よりビームを細くし、位置精度1.1nm、寸法精度0.5nmを仕様に掲げます。 MBM-4000は2025年に上市された新しい装置です。

200mmのSiCエピ装置

社員インタビューでは、エピタキシャル成長装置事業が大きく伸びていると語られています。 装置は当初から200mm基板に対応する設計で、150mmとほとんど変わらないコストで成膜できる点を強みに挙げます。 会社は、SiC基板の200mm化への流れを確実とみています。

2nm世代以降の描画装置

EUV露光やナノインプリントへの対応など、リソグラフィー技術の動きを見ながら、2nm世代以降のデバイス向け描画装置を開発しています。 MBM-2000は3nm、MBM-2000PLUSは3nm+ノード向けです。

07入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

描画装置、検査装置、エピ装置のどれに関わりたいかを決め、募集要項の5分野とサービス技術から応募区分を選びます。

技術・開発

技術・開発(機械設計分野)

半導体製造装置の研究開発、機械設計、製造技術を担う区分です。

新卒採用 募集要項
技術・開発

技術・開発(電気・電子分野)

装置の制御ハードウェアと制御ソフトウェアの開発設計、アナログ回路設計、電装技術を担う区分です。

新卒採用 募集要項
技術・開発

技術・開発(情報通信分野)

描画データ処理技術の研究開発と、高速データ伝送技術の開発を担う区分です。

  • 並列処理
  • 描画データ変換
  • 高速データ伝送
  • エラー検出
新卒採用 募集要項

応募前の3手

  1. MBM-4000、NPI-8000、EPIREVO S8から1機種を選び、半導体の工程のどこで何をする装置かをノートに書く
  2. 自分の研究を、電子光学・精密ステージ・データ処理・成膜プロセスのどれに結びつけるかを1つに絞る
  3. 顧客のほとんどが海外なので、研究内容を英語で2分説明できるように準備する
公式採用へ

面接で使う技術語

  • 精密ステージ
  • 振動抑制
  • レーザー干渉計
  • 真空
  • 機械設計
  • アナログ回路
  • 偏向制御
  • 制御ソフトウェア
  • 電装
  • 高速回路

新卒採用は理工系全学部全学科が対象で、技術・開発は機械設計、電気・電子、情報通信、物理、化学の5分野です。

他社との違いを一言で

  • マルチビームマスク描画装置

    IMS Nanofabrication

    IMSは公式サイトで、マルチビームマスク描画装置の世界市場リーダーだと名乗り、世界の主要な半導体メーカーへ納めています。ニューフレアはMBM-2000、MBM-2000PLUS、A14対応のMBM-4000をマルチビーム機として製品化しています。

  • 電子ビーム描画装置

    日本電子

    日本電子は半導体関連製品に、可変・スポットの電子ビーム描画装置を並べています。ニューフレアは可変成型ビームのEBMシリーズに加え、マルチビームのMBMシリーズを持ちます。

  • フォトマスク検査装置

    レーザーテック

    レーザーテックはアクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置や、マスクブランクスの欠陥検査装置を製品に並べています。ニューフレアのNPI-8000は波長199nmのレーザーで、描画装置と同一のデータを使って検査します。

  • SiC・GaNのエピタキシャル成長装置

    AIXTRON

    AIXTRONはG10-SiCを150/200mmのSiCパワー半導体向け高スループット成膜装置として示し、GaN向けのG10-GaNも持ちます。ニューフレアは枚葉式高速回転のEPIREVO S8で200mmのSiCに対応します。

比較の出典:経済産業省「半導体・デジタル産業戦略の現状と今後」 p.5(2023年値) このページの出典一覧へ

出典25件

元データ: グローバルネット(株)「世界半導体製造装置・試験/検査装置市場年鑑2024」を基に経済産業省が作成。

ほか17件

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