半導体製造装置 露光装置（リソグラフィ）
Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE)
中国で露光装置を自社開発する上海の装置メーカー
半導体の回路パターンをウエハに焼き付ける露光装置を、中国で自社開発するメーカーです。
最小90nmの前工程向けSSX600を頂点に、KrFとi線の3系列で成熟プロセスの量産ラインを狙います。
SMEEは 2009年の先進パッケージ露光装置 から始め、2016年に前工程の走査型へ進みました。 主力の SSX600 は90nmまでの前工程の層を露光します。
- SSX600の対応線幅 90nm 90nm・110nm・280nmの層に対応。 8インチと12インチのラインで使えます
- 2018年5月の出荷 100台目 初の先進パッケージ機の納入から約8年半で、長電先進向けに到達
- 特許・特許出願 3200件超 2020年3月までの累計。 露光、レーザー・検査、特殊用途にわたります
社会招聘の掲載職種（区分別）職種数 · 合計23職種
- 専門技術類18職種
- 業務管理類3職種
- システム設計類2職種
この会社の要点
01立ち位置
何の会社として比べるか
SMEEは中国で露光装置を自社開発するメーカーです。 現行の3系列は90nmから280nm以上の成熟プロセスを受け持ち、パワー半導体、メモリー、先進パッケージの量産ラインを狙います。
3系列の露光装置が受け持つ線幅
各系列が対応する最小の線幅
ニコンの露光装置と解像度を並べる
光源別の最小線幅
KrFとi線では同じ値を境にし、ArF液浸の38nm以下に当たるSMEEの製品は並んでいません。
前工程向け露光装置
ICの前工程で、回路パターンをウエハに焼き付ける走査型の露光装置です。 4倍縮小の投影レンズで、90nm・110nm・280nmの重要層と非重要層に対応します。 焦点と傾きを工程に合わせて調整する技術と、振動を自ら抑える6自由度のステージを持ち、8インチと12インチのラインで使えます。
- SSX600系列
KrF露光装置
波長248nmのKrFエキシマレーザーを光源にした走査型で、110nm以上の微細な工程向けです。 露光精度、ひずみ制御、重ね合わせ性能を引き上げた系列で、AI高性能計算、DRAM・NAND、マイクロプロセッサ、Micro LEDの製造を主な用途に掲げています。
- SSC800系列
i線露光装置
i線（水銀ランプの365nmの光）を使う走査型で、280nm以上の一般的な露光工程を受け持ちます。 高い生産性と工程への適応力を売りにし、パワー半導体、アナログIC、MEMSなど成熟プロセスの量産ラインを用途にしています。
- SSB800系列
検査・レーザー・搬送装置
顧客研修の対象には、露光装置のほか検査装置、レーザー装置、搬送装置、温調製品が並びます。 SLD500系列のレーザーアニール装置はIGBTの裏面アニール量産向けで、イオン注入で壊れた結晶を回復させます。 ウエハ欠陥自動検査装置は、表面のパターンを走査して欠陥を見つけ、種類ごとに分類します。
- SLD500系列 レーザーアニール装置
- ウエハ欠陥自動検査装置
02収益
どこで、どれくらい儲けているか
主力製品は露光装置です。 先進パッケージ機SSB500から始め、LED向けSSB300、前工程向けの走査型へと製品の幅を広げてきました。
2018年5月に100台目
100台目は先進パッケージの長電先進へ出荷しました。 初の先進パッケージ機SSB500/10Aの納入は2009年12月です。
ISO9001・ISO14001・ISO27001 / SEMI・CMMI 3級・CE
品質、環境、情報セキュリティの管理体系に加え、SEMI製品認証、CMMI 3級、CE製品認証を取得しています。
製品と出荷の歩み
03強みとリスク
強みと、リスク・検討点
強みは、後工程とLEDで量産実績を積み、前工程の走査型まで自社で到達した開発の積み上げです。 弱みは解像度が90nmまでで、KrFとi線でもニコンの機種がより細かい線幅を受け持つ点です。
強み
- 2018年に100台目の国産露光装置を出荷
2018年5月11日、100台目の露光装置を長電先進へ出荷しました。 初の先進パッケージ機SSB500/10Aの納入は2009年12月で、約8年半で100台に届きました。 前工程の走査型を初めて納めた2016年の2年後です。
お知らせ 第100台の露光装置出荷 - 先進パッケージ露光で先に量産へ
SSB500系列は2009年に初号機を納め、2012年に初めて海外へ売れました。 2013年にはAM-OLED向けの国産初号機SSB225/10も納めました。 2019年12月にはSSB300系列が製造業単項チャンピオン製品に選ばれています。
会社沿革 - 前工程の走査型まで自社で到達
2016年6月、自社初で中国初の前工程向け走査型露光装置を納めました。 90nm露光装置の開発課題は2018年3月に正式検収を通過しています。 現行のSSX600は90nm・110nm・280nmの層に対応します。
会社沿革 - 特許3200件超と安全・品質の認証
2020年3月までに保有する特許と出願は3200件を超えます。 SEMI製品認証やCMMI 3級も取得し、2018年にウエハ欠陥自動検査装置、2019年にレーザーアニール装置がSEMI S2の安全認証を得ています。
知的財産
リスク・検討点
- 最先端との解像度の差は大きい
SMEEの最小はSSX600の90nmです。 ニコンのArF液浸機NSR-S636Eは38nm以下の解像度をうたい、ASMLもArF液浸機を量産向けに展開しています。 38nm以下の解像度をうたう機種は、現行の3系列に並びません。
ニコン 半導体露光装置 製品ラインアップ - KrFとi線でもニコンの機種が細かい側を受け持つ
SSC800は110nm以上、ニコンのKrF機NSR-S220Dは110nm以下が対象です。 SSB800は280nm以上、ニコンのi線機NSR-SF155は280nm以下です。 ASMLのKrF機は300mmウエハを毎時400枚露光します。
ASML DUV露光装置 製品ページ - 国家プロジェクトに沿った開発
90nm露光装置の試作と、液浸露光の重要技術の予研は、どちらも国家の02重大科技専項の課題でした。
会社沿革
04待遇
採用窓口
光学設計や機械設計など主な募集要項は給与が面議です。 研修は新人の1週間集合研修から、高度技術人材の海外交流まで段階ごとに用意されています。
- 給与の提示
- 光学設計、機械設計、制御ソフトウェア、システム統合の募集要項は、給与がいずれも面議です。 条件は 社会招聘 の各職種ページで職種ごとに示されます。
- 報酬と福利厚生
- 会社は競争力のある報酬体系と福利厚生を掲げ、とくに優秀な社員には柔軟なインセンティブを設けます。 社内の文化活動も盛んです。 報酬の方針は SMEEを知る のページにあります。
- 研修
- 新入社員は毎年1週間の集合研修を受けます。 職種ごとの社内・社外研修と資格取得の研修があり、中堅以上の管理職研修、高度技術人材の海外交流訪問も用意されています。 人材育成 に一覧があります。
- キャリアの通り道
- 専門技術、システム工程、業務管理の3系列から、自分の計画に合う道を選べます。
05勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
本社は上海市浦東新区の張江にあり、掲載の募集の多くは勤務地が上海です。 据付と保守の仕事は顧客の生産現場で行い、24時間の遠隔サポートも受け持ちます。
社会招聘に並ぶ専門技術類の職種
- 光学設計
- 光学テスト
- 光電システム設計
- 機械設計
- 電気設計
- 制御ソフトウェア
- 制御ファームウェア
- 流体・伝熱
- 技術サポート
専門技術類18職種のうち、露光装置の主要モジュールに関わる職種です。
応募前の準備
- SSX600、SSC800、SSB800のうち志望する系列を選び、対応する線幅と用途を1行で書く
- 社会招聘の23職種から、自分の専攻に合う職種の募集要項を開き、経験年数と専攻条件を照らす
- 投影光学、ステージ、制御、統合テストのどこで自分の経験が効くかを、数値を入れて説明できるようにする
06これから
会社が次に取りにいくもの
SMEEは2021年9月に異種集積向けの大視野パッケージ露光装置を発表しました。 KrF機SSC800は、AI高性能計算やDRAM・NANDを用途に掲げます。 2026年8月には、核心部品を掲げてCSEAC 2026に出展すると告知しました。
これからの材料
- 先進パッケージ
- 2021年9月発表の新一代機は、高解像、高い重ね合わせ精度、超大露光視野を特長とし、異種集積の大型チップに対応します。 新一代パッケージ機 は複数の顧客と販売契約を結んでいます。
- KrF機の用途
- SSC800はAI高性能計算、DRAM・NAND、マイクロプロセッサ、Micro LEDを用途に掲げ、露光精度、ひずみ制御、重ね合わせ性能を引き上げた系列です。
- 核心部品
- 2026年8月の告知で、無錫のCSEAC 2026に自社開発の装置と技術方案で出展すると案内しました。
高密度な異種集積向けの露光
2021年9月に、大視野で高解像の新一代先進パッケージ露光装置を発表しました。 複数のチップを高密度につなぐ異種集積向けで、複数の顧客と販売契約を結び、初号機は同年内に納める計画でした。 キヤノンも、先端パッケージング向けのi線ステッパーを作っています。
KrF機SSC800でメモリーとAI向けへ
SSC800はAI高性能計算、DRAM・NAND、マイクロプロセッサ、Micro LEDを用途に掲げます。 i線のSSB800より細かい110nm以上の工程を受け持つ系列です。
核心部品を掲げた展示
2026年8月31日〜9月2日の無錫の設備展CSEAC 2026に、自社開発の装置と技術方案で出展すると告知しました。 告知の見出しは「核心部品を磨き、高端装置を造る」です。
07入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
露光装置は光学、ステージ、制御、統合テストの組み合わせです。 自分の専攻がどのモジュールに効くかを先に決め、職種を選びます。
光学設計エンジニア（光学设计工程师）
光学の観点から技術方案の実現性を検証し、光学部品の選定、加工要求、出図、装調までを担います。 募集は2名で、給与は面議です。
募集要項 光学設計エンジニア結像系モデリングエンジニア（成像系统建模工程师）
装置全体の性能要求と仕様を定め、そこからテストの要求とアルゴリズムを組み立てます。 シミュレーションで手順の妥当性を裏づけ、結果を分析して改善します。
募集要項 結像系モデリングエンジニアシステム統合開発エンジニア（系统集成开发工程师）
測定・校正の方案を作り、テスト用ウエハとマスクを設計し、統合テストの報告をまとめます。 募集は3名で、1年以上の経験が条件です。
- 測定校正
- 重ね合わせ精度
- 座標系変換
- 誤差源
応募前の3手
- SSX600の4倍縮小投影レンズ、6自由度ステージ、焦点・レベリング制御のうち、自分の専攻に近い技術を1つ選ぶ
- 光学設計、機械設計、制御ソフトウェア、システム統合の募集要項で、経験年数と使うソフトウェアを書き出す
- 分解能、重ね合わせ精度、位置決め誤差のどれかで、自分が扱った数値を1つ用意する
面接で使う技術語
- 幾何光学
- 公差解析
- 装調
- CODEV
- ZEMAX
- 結像光学
- システム工学
- 誤差解析
- MATLAB
- 確率過程
露光装置の性能を決める技術と、募集要項に出てくる語です。
他社との違いを一言で
- KrF・ArF露光装置の生産性と解像度
ASML
ASMLは300mmウエハを毎時400枚露光するKrFドライ機や、中程度の重要層を受け持つArF液浸機NXT:1980Fiを展開しています。SMEEの現行製品はKrFのSSC800とi線のSSB800、90nmまでのSSX600の3系列です。
- KrF・i線の解像度
ニコン
ニコンはKrF機NSR-S220Dで110nm以下、i線機NSR-SF155で280nm以下、ArF液浸機NSR-S636Eで38nm以下の解像度を掲げます。SMEEはSSC800が110nm以上、SSB800が280nm以上で、KrFとi線では同じ値を境にします。
- 先端パッケージ向けi線ステッパー
キヤノン
キヤノンは先端パッケージング向けのi線ステッパーと、大型の四角基板に対応し解像力1.0マイクロメートルのi線ステッパーをそろえます。SMEEは2009年に先進パッケージ機SSB500を納め、2021年に大視野の新一代機を発表しました。
出典34件
- 公式 SMEE 公式サイト 上海微电子装备（集团）股份有限公司 公式サイト · 2026年10月15日の公式サイト · SMEE公式サイトの製品一覧 · 産品与応用 > 光刻設備 · 中国語
- 公式 会社概要
- 公式 会社沿革
- 公式 品質体制
- 公式 知的財産
- 公式 連絡先
- 公式 SSX600系列 露光装置
- 公式 SSC800系列 露光装置
ほか26件
- 公式 SSB800系列 露光装置
- 公式 サービス体制
- 公式 顧客研修
- ニュース お知らせ 2026年 無錫設備年会への出展
- ニュース お知らせ 新一代 先進パッケージ露光装置の発表
- ニュース お知らせ SSB300系列の製造業単項チャンピオン選定
- ニュース お知らせ SSB300系列の量産化
- ニュース お知らせ 第100台の露光装置出荷
- ニュース お知らせ レーザーアニール装置のSEMI S2認証
- ニュース お知らせ ウエハ欠陥自動検査装置のSEMI S2認証
- 採用 社会招聘
- 採用 社会招聘 システム設計類
- 採用 社会招聘 専門技術類
- 採用 社会招聘 業務管理類
- 採用 SMEEを知る（採用）
- 採用 人材育成（採用）
- 採用 募集要項 光学設計エンジニア
- 採用 募集要項 結像系モデリングエンジニア
- 採用 募集要項 システム統合開発エンジニア
- 採用 募集要項 機械設計エンジニア
- 採用 募集要項 制御ソフトウェア設計エンジニア
- 採用 募集要項 技術サポートエンジニア
- 採用 募集要項 製品導入エンジニア
- 公式 ASML DUV露光装置 製品ページ
- 公式 キヤノン 半導体露光装置 製品ページ
- 公式 ニコン 半導体露光装置 製品ラインアップ