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半導体製造装置 電子ビーム描画装置・ナノ計測装置

エリオニクス

電子ビームでナノの線を描く八王子の装置メーカー

線幅3nmのパターンを描ける電子ビーム描画装置が主力で
民間約240事業所と国内外の大学・研究機関に装置を納めてきました。

エリオニクスは 電子ビーム描画装置 を研究開発用から生産向けの高速機までそろえています。 納め先は 民間約240事業所 と国内外の大学・研究機関です。

  • 社員数(2025年4月) 108人 本社とナノテクシステムセンターはともに八王子市
  • 民間企業への納入実績 約240事業所 大学・公的機関とは別に数えた民間の実績
  • 賞与(昨年支給実績) 5.2ヶ月 6月と12月の年2回、昇給は年1回1月

納入実績に載る海外の大学・研究機関地域別の掲載機関数(合計46機関)

  • アジア24機関
  • アメリカ14機関
  • ヨーロッパ6機関
  • オセアニア2機関

この会社の要点

向いている入口 電気・電子回路設計

電気・電子工学系の高専卒以上で、FPGAの実務経験がある人。 真空装置や半導体装置の設計経験は歓迎要件です。

入口を選ぶ
主なリスク ERAシリーズの受付を停止中

ERA-9200を含むERAシリーズは、予想を上回る注文に生産が追いつかず、注文とデモ評価の受付を一時停止しています。 注文が生産能力を上回ったと、会社自身が告知しています。

強みとリスク
出典 出典一覧(26件)

公式 19件 / 採用 7件

01立ち位置

何の会社として比べるか

エリオニクスは、電子ビームでナノの線を描く描画装置を中心に、削る・測る装置までそろえた会社です。 納入先は民間約240事業所のほか、国内の大学・公的機関と海外の大学・研究機関に広がります。

ELS-BODEN

加速電圧ごとの最小ビーム径

製品仕様

加速電圧を上げるほどビームは細くなる

ELS-BODENの仕様表・最小ビーム径(nm)
  • 50kV 2.8nm
  • 100kV 1.8nm
  • 125kV 1.7nm
  • 150kV 1.5nm
納入実績

海外の納入先46機関

納入実績

地域別の掲載機関数

納入実績ページの海外欄
  • アジア 24機関
  • アメリカ 14機関
  • ヨーロッパ 6機関
  • オセアニア 2機関
電子ビーム描画装置

電子ビーム描画装置 ELS-BODENシリーズ

ウェハーに電子ビームを当て、微細なパターンを直接描く(露光する)装置です。 ELS-BODENは小片から12インチまでのウェハーと、6025・9025サイズのマスクブランクスに対応します。 加速電圧は50、100、125、150kVから選べ、150kVでは最小ビーム径1.5nmです。

  • ELS-BODEN
  • ELS-BODEN Σ
電子ビーム描画装置

高スループット描画機 ELS-HAYATE

一度に描ける範囲(フィールド)を5mmまで広げた描画装置で、会社はこの5mmを業界最大とうたいます。 最大800nAの大電流と400MHzの高速スキャンを持ちます。 レーザーや光で露光していたµm~mm単位のパターンも描画の対象です。

  • ELS-HAYATE
電子ビーム描画装置

研究開発向け描画機 ELS-ORCA

研究開発向けの最新エントリーモデルです。 加速電圧30kVを標準とし、50kVもオプションで選べます。 低加速でSEM観察ができるリターディングオプションを持ち、最大8インチのウェハーに対応します。

  • ELS-ORCA
イオンビームエッチング・成膜装置

ECRイオンビーム装置 EISシリーズ

ECR方式のイオンビームで、マスクへのダメージを抑えたエッチングをする装置です。 EIS-1500はΦ108mmの大口径ビームを持ち、小型機はスパッタ成膜にも使えます。

  • EIS-1500
  • EIS-220P
  • EIS-200ERP
走査電子顕微鏡(三次元形状測定)

電子線三次元粗さ解析装置 ERA-9200

試料の表面の凹凸を、電子線で立体的に測る装置です。 照射電圧1kVで高さ方向1nmの分解能を保証し、1kV時の横方向分解能は0.7nmです。 描画したラインやドットの寸法を解析するソフトをオプションで持ちます。

  • ERA-9200
ナノインデンター

超微小押し込み硬さ試験機 ENT-5

圧子を押し込み、薄膜や微小な領域の硬さと弾性率を測る試験機です。 試験荷重は0.5μNから2,000mNまで対応します。 低荷重ユニットはLow-k膜などの機能性樹脂やDLC膜の力学特性の評価に使えます。

  • ENT-5

02収益

どこで、どれくらい儲けているか

2025年4月の社員数は108人、資本金は2.7億円です。 資本金は設立時の500万円から、5回の増資で今の額になりました。

社員数(2025年4月)

108人

1975年に7人の体制で始まった会社で、2025年4月の社員数は108人です。

資本金

2.7億円

1975年に500万円で設立し、2008年10月の増資で今の額になりました。 決算は年1回、9月30日です。

NEDO委託事業(2017年6月受注)

0.6億円

ウェハーサイズ3次元ナノインプリントモールド用の超高速電子ビーム加工装置の研究開発です。

NEDO委託事業(2018年5月受注)

0.5億円

前年と同じ名称の研究開発を、翌年度も受託しています。

資本金の推移

沿革に載る増資の記録
  • 1975年 設立 500万円
  • 1977年 0.3億円
  • 1979年 0.4億円
  • 1985年 0.8億円
  • 2003年 1.7億円
  • 2008年 2.7億円

03強みとリスク

強みと、リスク・検討点

強みは、線幅3nmまで描ける精度と、12インチ・400MHz・800nAで生産にも対応する描画速度の両方を持つことです。

強み

  • 150kVで線幅3nmの描画例

    加速電圧150kVの描画例として、ピッチ50nm・線幅3nmのラインと、ギャップ2.5nmのパターンを公開しています。 50kVでは4インチ全面にピッチ400nmのパターンを18時間で描いた例も載せています。

    アプリケーション
  • 12インチ全面と生産向けの高速化

    ELS-BODENは12インチの全面描画に対応します。 会社はこれを業界初のフル12インチ描画エリアとうたいます。 マルチオートローダーやロボットローダーで、少量から中量の生産にも対応します。

    電子ビーム描画装置 ELS-BODEN
  • 400MHzで描画時間を縮める

    ELS-BODEN Σは最大400MHzのスキャンクロックを持ちます。 会社はこれを業界最速とうたいます。 最小ドーズタイムが従来の1/4になり、ステージの駆動も速めました。

    電子ビーム描画装置 ELS-BODEN Σ
  • 国の評価を受けたニッチ技術

    2014年に経済産業省の「グローバルニッチトップ企業100選」に選ばれました。 2000年には高加速電界放射型電子線描画装置の開発で中堅・中小企業新機械開発賞を受けています。

    受賞歴・社会貢献
  • 1997年に線幅10nmを達成

    エリオニクスは1997年に、線幅10nmを描ける電子線描画装置を開発しました。 会社はこれを当時の最高スペックの1/5と位置づけます。 研究開発用装置は国内外の大学・公的機関に導入されています。

    ご挨拶・経営理念

リスク・検討点

  • ERAシリーズの受付を停止中

    ERA-9200を含むERAシリーズは、予想を上回る注文に生産が追いつかず、注文とデモ評価の受付を一時停止しています。 注文が生産能力を上回ったと、会社自身が告知しています。

    電子線三次元粗さ解析装置 ERA-9200
  • 1台の組立に数ヶ月~1年強

    フィールドエンジニアは、100点以上の部品やユニットをクリーンルームで組み立てます。 組立期間は装置の種類や習熟度により、数ヶ月から1年強かかります。

    キャリア採用 組立・製造部門
  • 生産用装置は今後の注力分野

    研究開発用装置は国内外の大学・公的機関などに導入されています。 生産用装置の開発・販売に力を入れるのは、会社が掲げる今後の方針です。

    ご挨拶・経営理念
  • 海外サービスは国内で1~2年学ぶ

    海外の顧客は米国・欧州・アジアの大学等が中心で、近年は北米・北欧が増えています。 海外サービスエンジニアは入社後、国内のサービス課で1~2年かけて業務を学びます。

    キャリア採用 営業部門

04待遇

給与、初任給、休日、手当

総合職の初任給は修士了28万9,480円、学士卒27万120円です。 賞与は昨年5.2ヶ月分、年間休日は129日です。

新卒総合職の初任給

学歴別・月額
  • 博士了 30万円程度
  • 修士了 28万9,480円
  • 学士卒 27万120円
  • 高専卒・短大卒 25万3,400円
  • 専門卒 21.7万円
総合職と一般職
修士了の初任給は総合職が一般職より2万円高く、修士了と学士卒の差は1万9,360円です。 新卒採用 募集要項
手当と昇給
エンジニア手当、職責手当、資格手当、家族手当があります。 昇給は年1回、1月です。
勤務時間
実働7時間50分、休憩70分です。 始業は7時30分から9時30分まで5つの時間帯から選べます。 キャリア採用 募集要項
休日と福利厚生
完全週休二日制で年間休日129日です。 社会人博士の取得支援、持株制度、確定拠出年金があります。

05勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

勤務地は八王子市の本社とナノテクシステムセンター、大阪の西日本営業所です。 設計と海外サービスは本社、組立と国内保守はナノテクシステムセンターが拠点です。

主な勤務地・拠点

本社
東京都八王子市元横山町。 1983年に本社工場を建てました。 総務部、営業本部、開発技術部があります。
ナノテクシステムセンター
東京都八王子市左入町。 2003年に完成し、顧客サポート課と資材課があります。
西日本営業所
大阪市淀川区西中島。 2024年に今の場所へ移りました。
中国法人
中国深圳市のELIONIX (CHINA)INC.。 2018年に100%出資子会社として設立しました。
会社概要・沿革

面接で使う技術語

  • 電子ビーム描画
  • 加速電圧
  • ビーム径
  • スキャンクロック
  • フィールドつなぎ
  • ECRイオンビーム
  • 三次元粗さ解析
  • ナノインデンテーション

描画・加工・計測の装置の性能を語るときの基本用語です。

応募前の2手

  1. ELS-BODENとΣの仕様表で12インチと400MHzの違いを押さえる
  2. 設計・組立・保守のどこで装置に関わりたいかを決める
公式採用へ

06これから

会社が次に取りにいくもの

エリオニクスは今後、研究開発用で磨いた技術を生産用装置の開発・販売へ広げる方針です。 製品には高速描画機があり、ナノインプリント用の研究開発もNEDOから受託しました。

これからの材料

生産用装置
研究開発から事業化に向けた生産用装置の開発・販売に注力します。 ご挨拶・経営理念
高速描画
ELS-HAYATEは最大800nA・5mmフィールドで、光やレーザーで作っていたパターンも描きます。 ELS-HAYATE
ナノインプリント
ウェハーサイズの3次元ナノインプリントモールド用超高速電子ビーム加工装置をNEDOの委託で研究しました。 gBizINFO 調達情報

研究用から生産用装置へ

会社は今後、研究開発から事業化に向けた生産用装置の開発・販売に注力する方針です。

大電流・大フィールドの高速描画

ELS-HAYATEは最大800nAの大電流と5mmのフィールドで、ステージの移動回数を減らします。 光やレーザーで作っていたµm~mm単位のパターンも描画の対象にしています。 光露光と比べた1枚あたりの描画時間を、面接で具体的な数字として聞く価値があります。

ナノインプリント用モールドの加工

NEDOの委託事業として、ウェハーサイズの3次元ナノインプリントモールド用超高速電子ビーム加工装置の研究開発を2017年と2018年に受注しました。 この研究開発が製品のどの機種につながったかを聞くと、技術の行き先がわかります。

07入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

理系の新卒は研究開発・設計か組立・製造、経験者は回路設計や保守から入れます。 新卒は総合職と一般職、経験者は設計・保守・購買など職種別の募集です。

キャリア採用・装置開発部門

電気・電子回路設計

自社装置のFPGAと電気・電子回路を、仕様決定から設計、調整、デバッグ、評価、修理まで担当します。 特注品では顧客の要望から仕様を検討します。

キャリア採用 装置開発部門
キャリア採用・装置開発部門

機械設計

新規開発やベースモデルへの機能追加で、仕様決定、詳細設計・製図、試作機の組立・評価、不具合対応を担います。 営業に同行して顧客と打ち合わせることもあります。

キャリア採用 装置開発部門
キャリア採用・組立製造部門

フィールドエンジニア(組立製造職)

電子ビーム描画装置や電子線三次元粗さ解析装置など全装置の製造を担います。 組立、調整、検査から出荷、客先での立ち上げ、取扱講習まで受け持ちます。

  • 調整
  • 製品検査
  • 立ち上げ
キャリア採用 組立・製造部門

応募前の3手

  1. ELS-BODENの加速電圧とビーム径の関係を説明できるようにする
  2. ERAシリーズの受付停止を例に、生産体制について質問を用意する
  3. 勤務地は八王子市の本社・ナノテクシステムセンター(左入町)と、大阪市淀川区の西日本営業所
公式採用へ

面接で使う技術語

  • FPGA
  • Verilog
  • 回路設計
  • 微小信号制御
  • ノイズ対策
  • 機械設計
  • SolidWorks
  • 試作評価
  • 製図
  • 装置組立

本社とナノテクシステムセンターは同じ八王子市ですが、入る部門が異なります。

他社との違いを一言で

  • 電子ビーム描画装置のラインアップ

    日本電子

    日本電子の描画装置はJBX-A9、JBX-8100FS、JBX-3200MVS、JBX-3050MV/Sです。エリオニクスはELS-BODEN、Σ、HAYATE、ORCAの4機種をそろえます。

  • 生産も狙う高分解能描画

    RAITH

    RAITHのEBPGは100kVのカラムで5nm未満の描画、最大350nAのビーム電流を掲げます。エリオニクスのELS-BODENは最大150kV、大電流モデルは800nAです。

  • ナノスケールの観察・試料作製

    Thermo Fisher Scientific

    Helios 5 DualBeamはサブナノメートルのSEM・STEM観察とTEM試料作製に使われます。エリオニクスのERA-9200は、SEMの視野で三次元形状と表面粗さを測ります。

参照資料一覧へ

出典26件

ほか18件

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