化合物半導体ウエハプロセスのエピタキシャル成長技術開発【高周波光デバイス製作所】

職務内容

光通信用途を始めとしたデバイス開発を支える化合物半導体エピタキシャル成長技術開発を担当していただきます。

結晶品質および量産安定性の最適化を目指し、設計・実験・解析・量産導入までを一貫して行います。

変更の範囲 会社の定める業務(

※) (

※)業務の都合によっては会社外の職務に従事するため出向又は転属を命じることがあります ≪具体的には≫

業務内容

例

• InP/GaAs/GaN 系のIII-V 族化合物半導体のエピタキシャル成長
• MOCVD装置を用いたInP/GaAs/GaN 系のエピタキシャル成長
• エピ成長条件(温度、圧力、V/III 比、キャリアガス流量)の設定・調整
• デバイス仕様に応じたエピ構造の実現(量子井戸層、ヘテロ障壁層、ドーピング制御 など)
• 薄膜の評価および解析
• エピ成長後の膜厚・組成の評価(XRD、SIMS、PL、TEM、SEM など)
• 欠陥密度、表面粗さ、歪み量など、品質に直結するパラメータの定量化
• 光学特性(PLピーク、吸収端)、電気特性(キャリア濃度、移動度)の解析
• エピ成長条件の最適化と再現性向上
• 結晶品質のばらつき要因の特定(ガス分布、ヒータプロファイル、基板回転、温度均一性など)
• エピ成長装置の経時変化を考慮した安定化手法の検討
• 量産ラインでの再現性確保に向けた条件最適化
• エピ成長装置のメンテナンス・安定動作管理
• 新規材料/構造のプロセス開発
• 高速・低消費電力デバイス向けの多重量子井戸(MQW)構造の開発
• 新デバイス用途への新規材料展開 将来的には、エピタキシャル成長技術のリーダー/マネージャーとしてグループの牽引。
• 組織のミッション
• 本部・事業部(高周波光デバイス製作所) 国内・海外顧客並びに社内部門に対する高周波デバイス製品・光デバイス製品の販売・開発
• ウエハ製造部 高周波デバイス・光デバイスの半導体ウエハ製造、エピ/プロセスの生産技術、要素技術開発
• エピ技術課 高周波デバイス・光デバイスのエピ構造開発、エピ量産技術
• 業務の魅力 原子オーダーで薄膜を制御するエピタキシャル成長技術は世界トップクラスのシェアを持つ光通信デバイスの性能を支える中核技術であり、「光」を生み出す最上流工程を担う事ができます。

成長条件の最適化から量産化まで、自ら設計したプロセスが製品性能に直結し、理論(量子力学・固体物理)を実装に落とし込む高度なエンジニアリングを実践することができます。

• 事業/製品の強み 当所の製品デバイスは、データセンター向け光デバイスで世界トップシェアを誇る実績を持つほか、5G/6G・衛星通信などにも製品を展開しています。
• 職場環境 残業時間 :月平均20時間/繁忙期35時間 出張:有 (年数回) 転勤可能性:有(所内移動メイン、所外は稀。) リモートワーク:有(週3日程度利用可能) 中途社員の割合:約10%
• 想定されるキャリアパス エピ成長の技術開発と量産管理のとりまとめ業務を経て、成果と能力次第で管理職に登用。

エピ成長技術をベースに、プロセス要素技術や製品設計に携わるキャリアプランも可能。

製品情報(高周波デバイス、光デバイス)

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