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マイクロン・テクノロジーメモリ

Photolithography 設備エンジニア (DUV Scanner)

  • 勤務地広島県広島市
  • 製造・生産・工場運営装置エンジニア（量産設備技術）
  • 工程露光
  • 中途
  • 正社員
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公式ページ 2026/09/11 時点当サイト掲載 2026/04/27

仕事内容

職務内容

サマリ Micron Technology, Inc. 広島Fabにおいて、Photo（DUV Scanner）エリアの装置エンジニアとして、量産ラインにおける露光装置の安定稼働、性能向上、歩留まり改善をリードしていただきます。

本ポジションでは、露光装置の構造・動作原理を深く理解した上で、装置起因の異常解析、再発防止、プロセス安定化を主体的に推進します。プロセスエンジニア、FAC、品質、ベンダー（装置メーカー）と密に連携し、量産環境における品質・生産性・コスト・リスクの最適化を担います。

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職務内容

### 装置・量産安定化 * DUV Scanner装置の構造・制御・光学系を理解した上での量産装置管理 * 装置稼働率（Availability / Productivity）向上に向けた改善活動の立案・実行 * ベースライン維持、ドリフト管理、再現性確保に関する技術的リード ### トラブルシューティング・異常解析 * 装置起因の異常に対する迅速な切り分け・原因特定・恒久対策 * 故障解析、FMEA、8D 等の手法を用いた再発防止活動 * 複合要因（装置・プロセス・材料・運用）を考慮した問題解決 ### 装置・プロセス改善 * アライメント、フォーカス、露光量、オーバーレイ等の露光関連パラメータ最適化 * プロセス能力（Cp/Cpk）向上および製造コスト削減に向けた改善推進 * 装置・ソフトウェアアップグレードの計画、導入、量産リリース対応 ### 立ち上げ・評価 * 新規装置・改造装置の立ち上げ、量産認定（Baseline / Release）対応 * 新材料・新プロセス導入時の装置観点での評価・リスク整理 * ベンダーとの技術ディスカッション、仕様レビュー、課題解決推進 ### クロスファンクショナル連携 * プロセス、品質、FAC、EHS、サプライヤーと連携した改善活動 * 品質・コスト・リスク管理目標達成に向けた監査・是正対応 ##

応募条件

応募資格 * 理工系学士号、または同等の実務経験 * 装置トラブルに対し、構造・原理に基づいて原因を考え抜ける問題解決力 * 日本語での業務コミュニケーション能力（読み書き・会話） ## 歓迎要件 * Lithography / Photo / DUV Scanner 装置の実務経験 * 半導体製造装置エンジニアとしての実務経験 * 量産Fabにおける装置立ち上げ、安定化、異常解析の経験 * 装置メーカー（例：ASML 等）との技術折衝・共同トラブル対応経験 * FMEA、SPC、8D 等を用いた体系的な改善活動の実践経験 * 英語での業務コミュニケーション能力（読み書き・会話） Job Profile(s): FAB Engineer 2 - FAB Engineer 4 Relocation level: (TBD) Before Getting Started Please review Micron’s Internal Job Application Policy on your regional PeopleNow Career Opportunities page before searching and applying for jobs. Note in particular that: * Hiring managers may view your performance appraisals, original resume, transcripts or other performance-related documentation in your personal file. This information will be held in confidence. * If you are selected to interview for a position, you MUST notify your direct supervisor before participating in the interview process. ​​​​

勤務条件

勤務地
広島県広島市
雇用形態
正社員
リモート
出社勤務
日本語
必須

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