産業ガス 電子材料ガス・半導体工場向けガス供給
日本酸素ホールディングス
半導体工場へガスと供給設備を納める世界の産業ガス会社
日米欧とアジアで産業ガスを売る持株会社で、2026年3月期の産業別売上の18%がエレクトロニクス向けです。
2027年3月期第1四半期の日本の産業別売上の33%を半導体などのエレクトロニクスが占め、電子材料ガスの出荷増と機器・工事の減収で日本の利益が動きます。
日本酸素ホールディングスは国内で 電子材料ガスや電子関連機器・工事 を手がけています。 2027年3月期第1四半期の日本セグメント は、エレクトロニクス関連の機器・工事の減収でセグメント利益が9.7%減りました。
- 2026年3月期 売上収益 1兆3,596億円 前期比3.9%増。 為替で約229億円多く表示
- 2026年3月期 コア営業利益 2,030億円 前期比7.4%増、コア営業利益率14.9%
- 2027年3月期第1四半期 コア営業利益 546億円 前年同期比19.9%増。 売上収益は3,617億円
2026年3月期のセグメント別売上収益
- 日本4,062億円
- 米国3,605億円
- 欧州3,509億円
- アジア・オセアニア2,084億円
- サーモス332億円
この会社の要点
01立ち位置
何の会社として比べるか
日本酸素ホールディングスは4地域で産業ガスを売る持株会社で、2026年3月期の売上収益は1兆3,596億円です。 半導体に関わるのは電子材料ガス、半導体工場向けのバルクガスと空気分離装置、電材機器と保守管理で、産業別売上の18%がエレクトロニクス向けです。
2025年3月期から2027年3月期予想までの売上収益とコア営業利益
売上収益
コア営業利益
どの地域で稼いでいるか
セグメント利益
電子材料ガス
単体ガス、混合ガス、液体・固体材料を半導体・エレクトロニクス業界へ供給します。 国内では日本酸素JFPが川崎、小山、三重、北九州の4工場で特殊ガスを製造します。 三重工場は1987年に半導体材料ガスの製造を目的として設置された三重大山田工場が前身です。 2026年3月期の製品別売上で特殊ガスはサーモスを除く売上の8%、アジア・オセアニアでは25%を占めます。 三重工場では次世代金属配線材料MoO2Cl2の製造施設への投資を決めました。
- 電子材料ガス（単体・混合）
- 液体・固体の半導体製造材料
- MoO2Cl2（三重工場で製造予定）
- RASIRCの過酸化水素・ヒドラジン供給ソース
バルクガスと空気分離装置
キャリアガスや空圧操作向けの窒素、酸化プロセス向けの酸素、アルゴン、ヘリウム、水素などを半導体工場へ供給し、大口顧客にはガス発生装置からの配管供給も行います。 大規模半導体工場向けに超高純度窒素・酸素併産装置を提供し、超高純度の酸素とアルゴンを併産する窒素製造装置（NGU）を開発中です。 空気分離装置はグループの設計・製造拠点である京浜事業所で作ります。
- 超高純度窒素・酸素併産装置
- 窒素製造装置（NGU、開発中）
- バルクガス（窒素・酸素・アルゴン・水素・ヘリウム）
電材機器と現場サービス
バルクガス精製、特殊ガス精製、半導体特殊ガス供給、ポイントオブユース排ガス処理の機器を半導体工場へ納めます。 2026年3月期の製品別売上でエレクトロニクス関連の機器・工事はサーモスを除く売上の5%、日本では13%です。 顧客工場での容器交換、在庫管理、ガス設備の監視・点検、配管工事まで請け負います。
- Nanochem Purifier
- Bulk Gases Purifier
- Cylinder Cabinet
- Exhaust gas abatement system
化合物半導体製造装置
化合物半導体を作るMOCVD装置を世界で初めて開発したと会社は記載しています。 MOCVD装置とHVPE装置を製造・販売し、2026年3月期には酸化ガリウムを成膜するMOCVD装置がスウェーデンのLund大学に採用され、オハイオ州立大学へ窒化物用MOCVD装置と酸化物用HVPE装置を納めました。
- 窒化物用MOCVD装置
- 酸化物用MOCVD装置
- HVPE装置
02収益
どこで、どれくらい儲けているか
半導体向けの売上は特殊ガスと機器・工事に分かれます。 2026年3月期の製品別売上で特殊ガスは8%、エレクトロニクス関連の機器・工事は5%で、日本では機器・工事が13%を占めます。 2027年3月期第1四半期は電子材料ガスの出荷が増え、機器・工事が減りました。
売上収益1兆3,596億円 / コア営業利益2,030億円
売上収益は前期比3.9%増、コア営業利益は7.4%増、営業利益は19.3%増の1,978億円でした。 親会社の所有者に帰属する当期利益は1,238億円です。
売上収益1兆3,080億円 / コア営業利益1,891億円
コア営業利益率は14.5%から2026年3月期に14.9%へ上がりました。
売上収益3,617億円 / コア営業利益546億円
前年同期の売上収益3,147億円、コア営業利益456億円から、それぞれ14.9%、19.9%伸びました。 コア営業利益率は15.1%です。
売上収益1兆3,800億円 / コア営業利益2,080億円
売上収益は前期比1.5%増、コア営業利益は2.4%増、営業利益は8.7%増の2,150億円を見込みます。 前提為替は1米ドル150円、1ユーロ175円です。
2027年3月期第1四半期の産業別売上に占めるエレクトロニクス
売上収益の推移と計画
03強みとリスク
強みと、リスク・検討点
強みは、ガス・供給装置・現場保守を半導体工場へ一括で納められる品ぞろえと、国内で約40%のシェアを持つと会社が位置づける日本事業です。 弱点は同じ構造の裏返しで、機器・工事は工場建設の時期に振れ、ガスの原価は電力価格に左右されます。
強み
- 国内シェア約40%の基盤とエレクトロニクスの厚み
日本酸素ホールディングスは、日本の産業ガス市場で約40%のシェアを持つトップメーカーと位置づけています。 2026年3月期の日本セグメントは売上収益4,062億円で0.9%減でしたが、エレクトロニクス関連の機器・工事の売上増と価格マネジメントでセグメント利益は15.1%増の541億円になりました。 2027年3月期第1四半期の日本の産業別売上はエレクトロニクスが33%で最大です。
2026年3月期 決算短信〔IFRS〕（連結） - ガス・装置・現場サービスを一括で納める
電子材料ガス、バルクガス、精製・供給・除害の電材機器、顧客工場での容器交換や設備保守までを一つのグループで提供します。 空気分離装置の設計・製作も自社の京浜事業所で行い、大規模半導体工場向けの超高純度窒素・酸素併産装置を持ちます。
エレクトロニクス事業 取扱い製品・サービス - 4地域に分散した収益
2026年3月期のセグメント別売上は日本30%、米国27%、欧州26%、アジア・オセアニア15%で、1地域の比率は3割にとどまります。 セグメント利益率は欧州20.1%、米国14.7%、日本13.3%、アジア・オセアニア9.5%でした。 アジア・オセアニアでは電子材料ガスの出荷が回復基調にあります。
2026年3月期 決算短信〔IFRS〕（連結） - 研究開発を日本に集める体制
2026年3月期の研究開発費57億円のうち48億円、84.4%を日本セグメントが使いました。 つくば開発センターのエレクトロニクス開発部は、材料の電気特性や歩留まりを左右する不純物を微量に測る分析技術を強みに挙げています。 米国ではWF6の製造経験を生かし、低グレードのHFを半導体グレードへ変える精製を開発しています。
2026年3月期 有価証券報告書 - 投資を賄うキャッシュ創出
2026年3月期の営業キャッシュ・フローは2,725億円で15.9%増えました。 親会社所有者帰属持分比率は44.0%、調整後ネットDEレシオは0.59倍で、前中期経営計画のKPIである0.7倍以下を達成しました。
2026年3月期 決算短信〔IFRS〕（連結）
リスク・検討点
- 出荷数量が減り、増益を価格と為替が支えた
2026年3月期はグループ全体の製商品の出荷数量が前期より減りました。 売上収益の伸び3.9%のうち約229億円、コア営業利益の約44億円は為替で多く表示された分です。 数量が戻らないまま価格転嫁が止まると、利益の伸びは鈍ります。
2026年3月期 決算短信〔IFRS〕（連結） - エレクトロニクス関連の機器・工事は案件で振れる
2026年3月期の日本はエレクトロニクス関連の中大型案件の工事進捗で増益になりましたが、2027年3月期第1四半期は同じ機器・工事の減収でセグメント利益が9.7%減の120億円になりました。 米国も2026年3月期にエレクトロニクス関連の機器・工事が減収でした。 半導体工場の建設時期に利益が連動します。
2027年3月期 第1四半期決算短信〔IFRS〕（連結） - 電力コストに左右される製造原価
有価証券報告書は、主力の酸素・窒素・アルゴンの製造コストは電力コストが大きな割合を占め、原油やLNGの価格変動の影響を受けると記載しています。 人件費や輸送費も上がり、販売価格への転嫁が十分に行えない場合は業績に響きます。
2026年3月期 有価証券報告書 - 負債倍率の目標まで距離がある
2026年3月期のEBITDA純有利子負債倍率は2.37倍で、新中期経営計画の目標は1.5倍以下です。 同じ期の投資キャッシュ・フローは2,027億円の支出で41.9%増え、営業キャッシュ・フローの74.4%に当たります。 4年間で7,800億円の投資を計画しており、買収や大型設備の採算が外れると財務目標が遠のきます。
2026年3月期 有価証券報告書 - 半導体材料ガスとヘリウムの供給網
各種成分を混合して作る半導体特殊材料ガスや、産地が北米・中東に偏るヘリウムは、グローバルな供給網に依存します。 会社は輸出入規制や海上輸送の変動で顧客への安定供給に支障が出るリスクを挙げています。
2026年3月期 有価証券報告書 - 顧客の操業率がオンサイト設備の稼働を決める
大口顧客の敷地に空気分離装置を置いて配管で供給するオンサイト方式は、鉄鋼、化学、石油精製、半導体、自動車などの顧客の操業率が下がると設備の稼働率も下がり、除却損や減損につながると有価証券報告書は記載しています。
2026年3月期 有価証券報告書
04待遇
給与、初任給、休日、手当
国内事業会社の日本酸素の初任給は修士了32.5万円、大卒31万円で、年間休日は124日です。 持株会社108名の平均年間給与は1,064.1万円です。
日本酸素の新卒初任給（月給）
- 新卒の初任給
- 修士了32.5万円、大卒31万円、高専卒（本科）28.2万円で、職種によって交代勤務手当が別に付きます。 条件は 日本酸素 新卒採用 募集要項 に載ります。
- 勤務時間と休日
- 勤務時間は9:00〜17:40で、年間休日は124日（2025年）、土日の完全週休2日制です。 有給休暇は初年度12日、2年目以降20日です。
- 持株会社の給与
- 2026年3月期の有価証券報告書では、持株会社の従業員108名、平均年齢43才9ヶ月、平均勤続年数16年9ヶ月、平均年間給与1,064.1万円（約1,064万円）です。 2026年3月期 有価証券報告書 の従業員の状況に載ります。
- 研修
- 新入社員研修は3ヶ月間で、マナー研修、英語研修、支社・工場実習を含みます。 2年目から5年目まで毎年の階層別研修と、海外トレーニー研修などの選抜型研修があります。
- 採用人数
- 採用実績は2023年47名、2024年54名、2025年56名（技術系33名、事務系23名）です。
05勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
本社は東京都品川区小山にあり、空気分離装置は川崎の京浜事業所で作ります。 研究開発はつくば、山梨などの拠点が連携し、特殊ガスは日本酸素JFPの4工場で製造します。 顧客工場の構内に置かれたガスセンターも勤務地になります。
主な勤務地・拠点
- 本社
- 東京都品川区小山1-3-26持株会社と日本酸素の本社
- プラント製作
- 京浜事業所（神奈川県川崎市川崎区小島町）空気分離装置の設計・製造拠点
- 研究開発
- つくば事業所（茨城県つくば市）、山梨事業所（山梨県北杜市）、SIイノベーションセンター（横浜市）つくば開発センターにエレクトロニクス開発部
- 特殊ガス工場
- 日本酸素JFPの小山工場、川崎工場、三重工場、北九州工場三重工場でMoO2Cl2を製造予定
- 顧客構内のガスセンター
- 亀山ガスセンター（シャープ亀山工場内）、厚木ガスセンター（ソニーグループ厚木テクノロジーセンター内）など
新卒採用の職務内容
- 研究開発
- プラントエンジニアリング
- フィールドエンジニアリング
- 生産管理
- 営業
- 生産物流
- 管理
- プラント装置製作
前半4つが技術系総合職、次の3つが事務系総合職、最後が技能職（工業高校卒対象）の職務です。
06これから
会社が次に取りにいくもの
新中期経営計画Next Innovation 2030は、2030年3月期に売上収益1兆5,000億〜1兆5,750億円、コア営業利益率17.0%以上を掲げます。 エレクトロニクスでは先端材料への重点投資と新たな地域への参入が柱です。
中期経営計画の財務KPIと2026年3月期実績
- 売上収益 1兆3,596億円 目標は1兆5,000億〜1兆5,750億円
- コア営業利益 2,030億円 目標は2,500億〜2,750億円
- EBITDA 3,299億円 目標は4,000億〜4,400億円
- ROCE after Tax 7.1% 目標は8.0%以上
これからの材料
- 次世代配線材料
- 三重工場にMoO2Cl2製造施設の投資を決め、NANDフラッシュメモリのタングステン代替として2026年10月から出荷を始める見込みだと 2026年3月期 有価証券報告書 に載ります。
- 開発拠点
- 先端プロセス向けの材料とハンドリング技術をつくるエレクトロニクス先端材料開発棟を建設し、2027年3月に完成する予定です。
- 投資配分
- 4年間の投資全般7,800億円のうち成長投資の約20%をエレクトロニクス関連と安定同位体に充て、承認済みの未完成投資案件約1,500億円のうち21%がエレクトロニクス向けです。
次世代配線材料MoO2Cl2の量産
日本酸素JFPの三重工場にMoO2Cl2製造施設の設備投資を決めました。 主にNANDフラッシュメモリで使われるタングステンの代替として、2026年10月から出荷を始める見込みです。 NANDメーカーがタングステンからモリブデン系配線へ切り替える速さで、出荷量の伸びが決まります。
エレクトロニクス先端材料開発棟とimecとの共同開発
先端プロセス向けの材料とハンドリング技術をつくる「エレクトロニクス先端材料開発棟」を建設し、2027年3月に完成予定です。 imecが進める半導体業界全体の環境負荷低減の研究プログラムにも参画します。 Rasirc社とは、ジヨードシランとヒドラジンを使い450℃でシリコン窒化膜を得る低温成膜を実証しました。
新中期経営計画 Next Innovation 2030
2030年3月期に売上収益1兆5,000億〜1兆5,750億円、コア営業利益2,500億〜2,750億円、コア営業利益率17.0%以上を掲げます。 重点戦略の一つが「エレクトロニクス事業の拡大」で、トータル・ガス・サプライ・ソリューションのグローバル展開、先端材料分野への重点投資、新たな地域への参入を挙げています。 2026年3月期実績から、目標の下限でも売上で10.3%、コア営業利益で23.1%の上積みが必要です。
成長投資の約20%をエレクトロニクスと安定同位体へ
4年間の投資全般7,800億円のうち、成長投資の約20%をエレクトロニクス関連とイノベーション関連（安定同位体）に充てます。 2027年3月期第1四半期末で承認済みの未完成投資案件は約1,500億円で、顧客業種別ではエレクトロニクス向けが21%です。 半導体工場の建設計画が延びると、ガス供給設備の立ち上がりも後ろへずれます。
07入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
電子材料ガス、バルクガスと空気分離装置、電材機器と保守のうち自分の専攻と重なる領域を1つ選び、技術系と事務系のどちらで応募するかを決めます。
研究開発（技術系総合職）
日本酸素の研究開発はつくば、山梨、京浜などの拠点が連携して進め、つくば開発センターのエレクトロニクス開発部が半導体向け材料と分析を担います。 開発職は本人の専攻と会社の事業戦略に基づいて各部署・プロジェクトに配置されます。
公式採用情報プラントエンジニアリング（技術系総合職）
プラント製作部門の京浜事業所（川崎市）で空気分離プラントを構成する機器を設計・製作し、建設工事部門が国内外の工事計画から施工管理までを担います。
公式採用情報フィールドエンジニアリング / 生産管理（技術系総合職）
募集要項の技術系職務にフィールドエンジニアリングと生産管理（在籍出向）があります。 理系の活躍フィールドにはメンテナンス、工事管理、供給技術、計装電気が並びます。
- Field Engineering
- Gas Supply
- Maintenance
- Production Control
応募前の3手
- 電子材料ガス、超高純度窒素・酸素併産装置、電材機器から1つ選び、半導体工場のどこで使われるかをノートへ書く
- 2026年3月期の地域別セグメント利益と、2027年3月期第1四半期の日本のエレクトロニクス比率33%を書き出し、関わりたい地域と顧客業種を決める
- 日本酸素の募集要項の職務内容、勤務地、初任給、選考の流れを公式ページから書き出す
面接で使う技術語
- Electronic Materials
- Gas Purification
- Trace Analysis
- ALD
- MOCVD
- Air Separation Unit
- Cryogenic
- Plant Design
- Construction Management
- On-site
技術系総合職は理系の基礎が前提で、事務系総合職には理系学生も応募できます。
他社との違いを一言で
- 半導体向けの超高純度ガスと先端材料
Air Liquide
Air Liquideは窒素、酸素、アルゴン、水素、ヘリウム、CO2の超高純度ガスをバルク、パイプライン、専用オンサイトプラントで供給し、先端材料はキャニスターで少量供給すると記載しています。日本酸素ホールディングスも超高純度窒素・酸素併産装置と電子材料ガスを持ち、三重工場でMoO2Cl2の製造を始めます。
- エレクトロニクス向けガスと供給の安定
Linde
Lindeは高品質ガスとウェットケミカルの組み合わせ、供給安定へのコミットメントでエレクトロニクス顧客に価値を出すと記載しています。日本酸素ホールディングスはガスに加え、精製・供給・排ガス処理の電材機器と顧客工場での保守管理を製品ラインに並べています。
- 国内の特殊ガス・供給システム
エア・ウォーター
エア・ウォーターは米国をはじめ海外から輸入した特殊ガスを国内の特殊ガスセンターで品質管理して届け、ALD・CVDの開発向け成膜装置で受託成膜も行います。日本酸素ホールディングスは川崎、小山、北九州、三重の特殊ガス工場を持ち、MOCVD装置とHVPE装置も製造・販売します。
出典20件
- 公式 会社概要
- 公式 事業セグメント 日本
- 公式 エレクトロニクス事業
- 公式 エレクトロニクス事業 取扱い製品・サービス
- 公式 エレクトロニクス事業 イノベーション
- IR 2026年3月期 決算短信〔IFRS〕（連結） 2026年3月期
- IR 2027年3月期 第1四半期決算短信〔IFRS〕（連結） 2027年3月期第1四半期
- IR 2027年3月期 第1四半期 決算電話会議資料（決算補足資料） 2027年3月期第1四半期
ほか12件
- IR 2026年3月期 通期決算説明会資料 2026年3月期
- IR 2026年3月期 有価証券報告書 2026年3月期
- 公式 日本酸素 事業所一覧
- 公式 日本酸素JFP
- 採用 日本酸素 新卒採用 募集要項
- 採用 日本酸素 技術系の仕事
- 採用 日本酸素 事務系の仕事
- 採用 数字で知ろう。 日本酸素
- 採用 日本酸素ホールディングス 採用情報（グループ各社）
- 公式 Air Liquide Electronics
- 公式 Linde Electronics
- 公式 エア・ウォーター エレクトロニクス向けガス・特殊ケミカル品