アッシング（プラズマレジスト除去）｜前工程 › エッチング › アッシング・レジスト剥離

アッシング（プラズマレジスト除去）は、エッチングやイオン注入の間だけ下の膜を守っていたフォトレジストを、酸素プラズマで分解して気体に変え取り除く工程である。レジストを除く工程の総称であるレジスト剥離の中で、乾式の手段にあたる。薬液で溶かす湿式の剥離とは除去の仕組みが異なり、両者を組み合わせて使うこともある。