電子ビームマスク描画｜フォトマスク・レチクル › マスク描画

電子ビームマスク描画は、細く絞った電子線をマスク基板上のレジストに走らせ、パターンを直接描く工程である。マスクそのものを作る段には写す元のマスクがないので、設計データから直接描く。描く手段に電子線を選ぶのは細かさのためで、電子の波長は光より格段に短く、光では描けないほど細かいフォトマスクのパターンを描ける。描画したレジストは現像され、エッチングで遮光膜や吸収体などのパターン膜へパターンが移される。