マスク描画フォトマスク・レチクル
マスク描画は、マスクデータに従って、マスク基板上のレジストにパターンを直接描き込む工程である。マスクはウェーハ露光の原版そのものであり、写す元になる型がないので、データから直接パターンを作る必要がある。微細なパターンには電子線を走らせて描く電子ビームマスク描画が使われ、描いた後は現像とエッチングで、遮光膜やEUVマスクの吸収体などのパターン膜へパターンを移す。
分類上の位置
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フォトマスク・レチクルの下にある工程で、同じ分類にはほかに6工程がある。
- 電子ビームマスク描画：電子ビームマスク描画は、細く絞った電子線をマスク基板上のレジストに走らせ、パターンを直接描く工程である。
- マスク製造用フォトリソ装置
- レーザーマスク描画装置