マスクデータ準備・OPC（光近接効果補正）｜フォトマスク・レチクル

マスクデータ準備・OPC（光近接効果補正）は、設計レイアウトの図形に露光で生じる像のゆがみを見越した補正を加え、そのデータをマスク描画装置が扱える形式へ変換する工程である。微細なパターンでは光の回折によって線の端が縮んだり角が丸まったりし、設計どおりの形がウェーハ上に写らないため、マスク上の図形をあらかじめ変形させておく。変換後のデータがマスク描画へ渡る。