フォトマスク製造｜フォトマスク・レチクル

フォトマスク製造は、遮光膜などのパターン膜とレジストを付けたマスク基板にパターンを描画し、現像とエッチングでパターン膜を加工してマスクを仕上げる工程である。パターン膜は、バイナリマスクでは遮光膜、ハーフトーン位相シフトマスクでは位相シフト膜、EUVマスクでは多層膜反射鏡の上の吸収体になる。ウェーハ上の全チップに同じ図形を写す原版になるため、寸法と位置の精度と、欠陥の少なさが求められる。パターン形成の後は検査と洗浄を経て、ペリクルを使う場合はペリクル装着で異物から保護してから露光工程へ渡される。