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ペリクル|フォトマスク・レチクル

ペリクルは、フォトマスクを異物から守るため、パターン面から少し浮かせて張る、露光の光を通す薄膜である。パターン面に異物が付くと同じ欠陥がすべてのウェーハに転写されるが、膜の上に付いた異物は焦点から外れた位置にあるため像として写りにくい。一方で、膜を通るぶん光が減り、膜自体も露光の光で傷むため、露光波長に合わせて材料が選ばれる。マスクに取り付ける作業はペリクル装着と呼ばれる。

工程の分類›フォトマスク・レチクル› ペリクル

フォトマスク・レチクルの下にある工程で、同じ分類にはほかに6工程がある。

マスクデータ準備・OPC(光近接効果補正)、フォトマスク製造、マスク描画、マスク欠陥検査、マスク修正、フォトマスク洗浄