フォトマスク洗浄｜フォトマスク・レチクル

フォトマスク洗浄は、マスク表面に付いた粒子、有機物、残渣を取り除く工程である。マスクの汚れは露光のたびに多数のウェーハへ写るため落とす必要があるが、強すぎる洗浄は細いパターンや表面の膜を削り、透過・反射の特性や寸法を変えてしまう。そのため薬液や物理的な力の強さを調整し、汚染の除去とマスクの光学特性の保持を合わせて評価する。