マスク修正｜フォトマスク・レチクル

マスク修正は、マスク欠陥検査で見つかった欠陥を取り除いたり埋めたりして、フォトマスクを使える状態に戻す工程である。マスクを作り直すには時間と費用がかかるため、欠陥を直せればそのマスクを使い続けられる。余分な付着物は削り取り、欠けた部分には材料を局所的に堆積させるのが一般的で、電子ビームやレーザー、原子間力顕微鏡の探針などが使われる。修正後は再び検査し、ウェーハへの転写に影響しないことを確かめる。