ペリクル装着｜フォトマスク・レチクル › フォトマスク製造

ペリクル装着は、フォトマスクのパターン面を薄い保護膜と枠で覆い、異物がパターン面へ直接付くのを防ぐ工程である。マスクに付いた異物は露光のたびに全ウェーハへ転写されるが、膜の上に付いた粒子はパターン面から離れていて焦点が合わないため、像に写りにくい。露光波長と光量に耐える膜を選び、装着の前後で清浄度を確かめるもので、マスク製造の最後の段にあたる。