固相プラズマドーピング｜前工程 › イオン注入 › PLAD（プラズマドーピング）

固相プラズマドーピングは、固体のドーパント源とプラズマを組み合わせて、基板へ不純物を供給するプラズマドーピングである。ドーパントを含むガスを原料にする通常の方式とは原料の供給経路が異なり、気体原料の扱いを変えられる。一方で固体源の組成や消耗が工程に影響するため、供給量を一定に保ち、注入後の濃度と結晶の損傷を合わせて評価する。