PLAD（プラズマドーピング）｜前工程 › イオン注入

PLAD（プラズマドーピング）は、ドーパントを含むプラズマを作り、プラズマ中に置いたウェーハに負のバイアス電圧をかけて不純物を引き込むドーピング方法である。イオン注入のように質量で種類を選別する段を通さないため、装置を簡素にでき、低いエネルギーでも量を稼ぎやすい。通常のイオン注入より注入欠陥が少なく、アニール温度も下げられる。原料にガスではなく固体のドーパント源を使う方式に、固相プラズマドーピングがある。