ハロー注入｜前工程 › イオン注入

ハロー注入は、MOSトランジスタのソース・ドレインエクステンションを囲むように、チャネルと同じ導電型の高濃度領域（ハローまたはポケット）を作るイオン注入である。ゲート電極を作った後に斜めから注入するため、ゲートに対して自己整合で形成できる。ゲート長を縮めるとしきい値電圧が下がるが、チャネル全体を濃くすると全てのゲート長でしきい値が上がってしまう。ハローは短いゲートだけに効く代わりに、不純物のゆらぎによるしきい値のばらつきを招く。