PIII（プラズマ浸漬イオン注入）｜前工程 › イオン注入

PIII（プラズマ浸漬イオン注入）は、基板をプラズマの中に置き、基板に電圧をかけて周囲のイオンを引き込む注入工程である。離れた場所で作ったイオンビームを運んで当てる通常のイオン注入とは、イオンを加速する場所が違う。立体形状の表面への注入処理にも使える。その反面、線量と深さの分布の制御が課題で、プラズマの条件だけでなく基板の形や表面の帯電状態も含めて確かめる。