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半導体製造装置 真空薄膜形成装置

シンクロン

光学薄膜で育ち、売上が急拡大した成膜装置メーカー

蒸着とスパッタリングの真空成膜装置メーカーです。
2025年3月期の単体売上高は356億円で、前期から164.6%増えました。 当期純利益は8.6億円で、前期の14億円を下回りました。

シンクロンは 光学用の真空薄膜形成装置 で国内トップシェアを掲げる成膜装置メーカーです。 欧州のSilicon Austria Labs(SAL)とは ニオブ酸リチウム薄膜(TFLN)向けのスパッタ成膜装置INACO をSALのクリーンルームに導入する計画を共同で発表しています。

  • 2025年3月期 売上高 356億円 前期134億円から164.6%増
  • 2025年3月期 営業利益 24億円 営業利益率6.8%(前期7.3%)
  • 2025年3月期 当期純利益 8.6億円 前期は14億円

2025年3月期 売上高の行き先単体 · 決算公告の損益計算書

  • 売上原価284億円
  • 販売費及び一般管理費47億円
  • 営業利益24億円

この会社の要点

向いている入口 薄膜プロセス試験・装置製造

高専または大学で学んだ材料・物理・機械の知識を、膜の評価と装置づくりの両方で使いたい人。

入口を選ぶ
主なリスク 売上の伸びが利益に残っていない

2025年3月期は売上高が164.6%増えた一方、営業利益率は7.3%から6.8%へ下がりました。 営業外費用9.1億円と特別損失4.3億円もあり、当期純利益は前期を下回りました。

強みとリスク
出典 出典一覧(9件)

公式 6件 / IR 2件 / 採用 1件

01立ち位置

何の会社として比べるか

シンクロンは蒸着とスパッタリングの真空成膜装置を作り、会社は光学用の装置で国内トップシェアとしています。 2025年3月期の単体売上高は356億円で、前期の134億円から164.6%増えました。

単体 / 決算公告

売上高と利益

決算公告

売上高

億円 · 単体
  • 2024年3月期 134億円
  • 2025年3月期 356億円

営業利益と当期純利益

億円 · 単体
  • 2024年3月期 営業利益 9.8億円
  • 2025年3月期 営業利益 24億円
  • 2024年3月期 当期純利益 14億円
  • 2025年3月期 当期純利益 8.6億円

営業利益は増え、当期純利益は減りました。

従業員

鶴岡工場が全社の半分

企業・求人情報

従業員の勤務地

2026年4月30日更新の企業情報
  • 鶴岡工場 146名
  • その他(横浜本社ほか) 145名
PVD・スパッタリング・蒸着装置

真空薄膜形成装置

真空中で基板に薄膜をつくる装置で、蒸着装置とスパッタリング装置の両方式をそろえます。 会社は光学用の真空薄膜形成装置で国内トップシェアとしています。

  • 蒸着装置
  • スパッタリング装置
  • キーコンポーネンツ
ニオブ酸リチウム薄膜向けスパッタ成膜開発プラットフォーム

INACO

ニオブ酸リチウムと関連する機能材料をスパッタで成膜する開発用の装置です。 基板や用途を変えながら、新しい材料系とプロセス条件を探れる構成です。

  • INACO

02収益

どこで、どれくらい儲けているか

2025年3月期は売上高356億円、営業利益24億円、当期純利益8.6億円でした。 営業利益率は7.3%から6.8%へ下がりました。

2025年3月期 売上高

356億円

単体の決算公告です。 前期の134億円から164.6%増えました。

2025年3月期 営業利益・経常利益

営業利益24億円 / 経常利益16億円

前期は営業利益9.8億円、経常利益12億円でした。 営業外費用は9.1億円です。

2025年3月期 当期純利益

8.6億円

特別損失4.3億円と税金を差し引いた額で、前期の14億円を下回りました。

2025年3月期末 総資産・純資産

総資産445億円 / 純資産127億円

自己資本比率は28.5%です。 資本金は7,250万円です。

2025年3月期 売上高から当期純利益まで

億円 · 単体 · 決算公告
  • 売上高 356億円
  • 営業利益 24億円
  • 経常利益 16億円 営業外費用9.1億円
  • 当期純利益 8.6億円 特別損失4.3億円

営業利益率の比較

営業利益 ÷ 売上高 · 単体
  • 2024年3月期 7.3%
  • 2025年3月期 6.8%

2025年3月期末の総資産は445億円、純資産は127億円です。

03強みとリスク

強みと、リスク・検討点

強みは光学用の成膜装置で築いた地位と、蒸着・スパッタの両方式です。 INACOは、光デバイス向けの新材料TFLNで欧州の研究機関に選ばれました。

強み

  • 光学用成膜装置での地位

    会社は光学用の真空薄膜形成装置で国内トップシェアとし、世界数十か国へ装置を輸出しているとしています。

    つるおか仕事ナビ・株式会社シンクロン
  • 蒸着とスパッタの両方式

    成膜方式を1つに絞らず、蒸着装置とスパッタリング装置の両方を作ります。 会社は両方式の進化に貢献してきたとしています。

    SEMICON Japan 2025 出展者情報
  • 試験と製造が同じ仕事

    鶴岡工場の募集では、薄膜のプロセス試験・調整・測定と装置の製造が1つの職務にまとまっています。 膜の評価と装置づくりの両方に触れられます。

    つるおか仕事ナビ・株式会社シンクロン
  • 欧州の研究機関が選んだINACO

    SALは、ニオブ酸リチウム系の薄膜材料を自前で開発・管理するために、欧州で初めてとなるINACOを導入する計画です。 結晶性、屈折率、応力、表面粗さ、密着性、ウエハー面内の均一性を自ら制御できるようにするとしています。

    Silicon Austria Labs・SHINCRON共同発表

リスク・検討点

  • 売上の伸びが利益に残っていない

    2025年3月期は売上高が164.6%増えた一方、営業利益率は7.3%から6.8%へ下がりました。 営業外費用9.1億円と特別損失4.3億円もあり、当期純利益は前期を下回りました。

    第74期決算公告(gBizINFO)
  • TFLNは研究段階からの移行期

    SALは、用途に合ったニオブ酸リチウム薄膜材料を安定して得ることが、TFLN技術を実験室の実証から先へ広げるうえでの大きなボトルネックだとしています。 INACOは、材料と条件を探るための開発用プラットフォームとして設計されています。

    Silicon Austria Labs・SHINCRON共同発表
  • 鶴岡以外で働く可能性

    鶴岡工場の募集でも、横浜の本社や中国の上海工場などで働くことがあります。 転勤は当面なく、本社への異動は相談としています。

    つるおか仕事ナビ・株式会社シンクロン

04待遇

給与、初任給、休日、手当

鶴岡工場の募集の月給は、薄膜プロセス試験・装置製造が23.2万円〜25万円、工番電気設計が28万7,500円〜35万円です。 年間休日は122日です。

募集の月給

円 · 鶴岡工場の募集
  • 薄膜プロセス・製造 下限 23.2万円
  • 薄膜プロセス・製造 上限 25万円
  • 工番電気設計 下限 28万7,500円
  • 工番電気設計 上限 35万円

工番電気設計の月給は経験と能力で決まります。

雇用形態
どちらの募集も正社員で、雇用期間の定めはありません。 条件の全文は 鶴岡工場の募集 にあります。
勤務時間
フレックスタイム制で、コアタイムは11:00〜15:00です。 工番電気設計の残業は月平均30時間程度です。
手当
通勤手当、時間外手当(全額支給)、役職手当、資格手当があります。
福利厚生
退職金、確定拠出年金、慶弔見舞金、社員食堂・食事補助、条件付きの家賃補助があります。
選考
履歴書と職務経歴書で書類選考をし、その後に適性検査と面接があります。

05勤務地と職種

どこで、どんな仕事をするか

募集はどちらも鶴岡工場勤務です。 薄膜プロセス・製造は膜の試験と装置づくり、工番電気設計は受注装置ごとの電気設計で、必要な経験が違います。

主な勤務地・拠点

鶴岡工場
山形県鶴岡市宝田1−19−71募集の就業場所。 従業員の多くが庄内出身
本社
神奈川県横浜市西区みなとみらい四丁目3番5号異動は相談
上海工場
中国鶴岡工場以外の勤務先の例
つるおか仕事ナビ・株式会社シンクロン

募集にある業務

  • 薄膜プロセス試験
  • プロセス調整
  • 薄膜測定
  • 装置製造
  • 電気CAD設計
  • 装置構成の提案

鶴岡工場の募集に書かれた業務です。

応募準備

  1. 薄膜の試験・測定か、電気設計かを選ぶ
  2. 募集の経験・資格要件と自分の経験を並べる
  3. 鶴岡以外での勤務の可能性を面接で聞く
公式採用へ

06これから

会社が次に取りにいくもの

SALとの共同計画では、INACOで200 mmのTFLN材料を開発し、300 mm対応と量産への移管も見据えます。

これからの材料

材料の開発
INACOで、ニオブ酸リチウムと関連する機能材料の成膜条件を探ります。 計画の内容は 共同発表 にあります。

欧州の200 mm TFLNプロセスライン

SALは欧州で200 mm対応のTFLNプロセスラインを築く構想を持ち、シンクロンはINACOでこの構想に貢献するとしています。 INACOはオーストリアのSAL MicroFab in Villachに導入される計画です。 SALの研究用クリーンルームでの開発段階の計画です。

300 mmとCMOS系への接続

SALは、200 mmを軸に300 mmにも対応できるプラットフォーム構想とし、将来はCMOS関連を含むウエハーレベルの技術基盤との統合につなげるとしています。 300 mm対応はSALの構想です。

開発から量産への移管

シンクロンは、INACOで開発したプロセスを、再現性があり規模を広げられる量産へ移せるよう支えるとしています。 用途には高速光通信、RFフォトニクス、センシング、量子技術、コパッケージドオプティクスが挙がっています。

07入口を選ぶ

専攻から、入口を1つに絞る

光学用の成膜装置、半導体向けPVD、TFLN向けのINACOのうち、関わりたいものを決めてから職種を選びます。

研究・開発・設計職

薄膜プロセス試験・装置製造

真空薄膜形成装置の技術業務として、薄膜のプロセス試験・調整・測定と、装置の製造を担う募集です。

公式採用情報
研究・開発・設計職

工番電気設計

受注した装置ごとに、設計ルールと手順に沿って電気設計をCADで行い、顧客の要望に合う構成・機能・動作を提案する募集です。 電気設計の実務と電気設計CADの経験が必要です。

公式採用情報

応募前の3手

  1. 蒸着、スパッタリング、INACOの違いを整理する
  2. 薄膜プロセス試験・装置製造か工番電気設計かを選ぶ
  3. 売上が伸びた分野と、鶴岡以外での勤務の可能性を面接で聞く
公式採用へ

面接で使う技術語

  • 薄膜プロセス
  • 試験
  • 調整
  • 測定
  • 装置製造
  • 電気設計
  • CAD
  • 工番設計
  • 装置構成
  • 顧客提案

鶴岡工場の募集にある職種です。

他社との違いを一言で

  • 光学向けスパッタ成膜

    オプトラン

    オプトランのOWLSは、半導体光学向けに開発した水平型メタルモード・スパッタ成膜装置で、両面同時成膜と低温成膜に対応します。シンクロンは光学用の成膜装置を主軸とし、蒸着とスパッタの両方式を持ちます。

  • 半導体前工程のスパッタリング

    アルバック

    アルバックのENTRON-EX W300は、ロジック、DRAM、NAND、パッケージング向けのマルチチャンバー式スパッタリング装置です。シンクロンの半導体との接点は、光デバイス材料のTFLNを成膜するINACOです。

  • 超高真空のスパッタリング

    キヤノンアネルバ

    キヤノンアネルバは超高真空技術を得意とし、メタルゲート用や不揮発性メモリ用のスパッタリング装置を半導体製造ラインに出しています。シンクロンは光学用の真空薄膜形成装置を主軸とします。

参照資料一覧へ

出典9件

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