設備工事 空調設備・クリーンルーム
新菱冷熱工業
半導体工場の空気から分子汚染を除く空調設備会社
空調・衛生設備の工事で稼ぐ非上場の設備会社で、半導体工場ではクリーンルームと化学汚染を除くエアワッシャーを手がけます。
受注高5,025億円に増え、売上高3,414億円の1.47倍に達しました。
新菱冷熱工業は 2025年9月期の連結営業利益率 を8.5%から14.0%へ上げました。 連結受注高 は前期比52.8%増の5,025億円です。
- 2025年9月期 連結売上高 3,414億円 前期比10.7%増。 単体は2,520億円
- 2025年9月期 連結営業利益 478億円 前期比83.5%増、営業利益率14.0%
- 2025年度 連結受注高 5,025億円 前期比52.8%増。 売上高の1.47倍
2025年9月期の従業員数の内訳（連結6,037名）
- グループ会社3,745名
- 新菱冷熱工業単体2,292名
この会社の要点
01立ち位置
何の会社として比べるか
新菱冷熱工業は、空調・給排水衛生設備を中心に設計から施工までを担う非上場の設備工事会社です。 2025年9月期の連結売上高は3,414億円、受注高は5,025億円で、半導体工場ではクリーンルームと化学汚染対策の設備を手がけます。
2021年度から2025年度までの売上高と受注高
売上高
受注高
単体とグループの規模
売上高
従業員数
クリーンルーム
半導体や電子部品の工場向けに、パーティクル、分子汚染、温湿度、気流、微振動を制御するクリーンルームを構築します。 風量測定装置「WINSPEC」で検査工程を短くし、24時間稼働のファブ向けに中央監視とファシリティマネジメントのシステムも提供します。
- クリーンルーム
- 風量測定装置「WINSPEC」
- ダイナミック型氷蓄熱システム「ザ・自由雪計®」
- 総合情報システム「sc-brain」
エアワッシャー
半導体・液晶工場の外調機に組み込み、空気中の化学物質を水で除去する装置です。 電解水エアワッシャーシステム「AIR-ROCA®E」は二酸化硫黄の99%以上を除去し、ケミカルフィルタと再熱コイルを不要にして、外調機全体の消費エネルギー量を約24%、ランニングコストを30%減らします（当社従来型比）。 プリーツ型加湿材は圧力損失60Pa、飽和効率95%で、総処理風量266,000m3/hの半導体工場にも導入されています。
- 電解水エアワッシャーシステム「AIR-ROCA®E」
- エアワッシャー（省エネルギー型、滴下式）
- プリーツ型加湿材
極微量成分分析
イノベーションハブで、半導体工場で制御対象とされるフタル酸エステルなどの有機物をGC/MSで分析し、定量下限は50ng/m3です。 ウェハ加熱脱着装置はシリコンウェハに付着した有機物を0.001ng/cm2まで定量し、イオンクロマトグラフは空気中のアンモニアなど水溶性成分を10ng/m3まで測ります。
- ガスクロマトグラフ/質量分析計（GC/MS）
- ウェハ加熱脱着装置
- イオンクロマトグラフ
02収益
どこで、どれくらい儲けているか
2025年9月期は売上高が10.7%増えたのに対し、営業利益は83.5%増えました。 営業利益率は8.5%から14.0%に上がり、利益の伸びが売上の伸びを大きく上回っています。
売上高3,414億円 / 営業利益478億円
売上高は前期比10.7%増、営業利益は83.5%増で、営業利益率は14.0%です。 経常利益は495億円、親会社株主に帰属する当期純利益は347億円でした。
売上高3,084億円 / 営業利益260億円
営業利益率は8.5%でした。 2021年度の売上高2,333億円から3年で32.2%増えています。
単体売上高2,520億円 / 単体営業利益397億円
単体売上高は連結売上高の73.8%です。 連結の自己資本比率は53.1%です。
2025年9月期の連結損益
連結営業利益の推移
03強みとリスク
強みと、リスク・検討点
強みは、クリーンルームの空気から分子汚染を除く設備と、それを自社で測る分析設備の両方を持つことです。 弱点は、社長自身が2025年9月期の好業績を好況な国内市場の追い風によると説明している点と、受注高が売上高の1.47倍に膨らんだ点です。
強み
- 利益率14.0%への跳ね上がり
2025年9月期の連結営業利益は478億円で、前期の260億円から83.5%増えました。 営業利益率は8.5%から14.0%に上がっています。 単体でも営業利益397億円を出し、連結の自己資本比率は53.1%です。
2025年9月期 連結貸借対照表・連結損益計算書 - ケミカルフィルタを使わない汚染除去
「AIR-ROCA®E」は電解水で二酸化硫黄の99%以上を除去し、ケミカルフィルタの活性炭交換をなくして産業廃棄物をゼロにします。 外気中の酸性ガス濃度に応じて電解水量を変える制御システムは特許第6746739号です。 総処理風量135,000m3/hの半導体開発施設にもエアワッシャーを導入しています。
電解水エアワッシャーシステム AIR-ROCA®E - 自社で汚染を測れる研究拠点
つくばのイノベーションハブはGC/MS、ウェハ加熱脱着装置、イオンクロマトグラフを持ち、クリーンルームのアウトガスや分子汚染を自社で評価できます。 ウェハ加熱脱着装置の定量下限は0.001ng/cm2です。
極微量成分分析技術 - 工場設備の長い施工実績
1957年に富士通信機製造川崎工場で本格的な工場の設備工事を受注しました。 2025年1月に竣工した味の素ファインテクノ群馬工場（半導体向け絶縁製品工場）では、空調・衛生・用役設備を担当し、温湿度に加えて清浄度と部屋間の差圧を確立しました。
SHINRYO Report 2026 - クリーンルームパネルの製造拠点
2024年7月にインドのクリーンルームパネルメーカーGMP社をグループ化し、現地で事業を行う新菱スビダと組んでインド市場の事業基盤を広げています。 グループの海外現地法人は10社です。
SHINRYO Report 2026
リスク・検討点
- 国内建設の好況に乗った業績
社長は、好況な国内市場が2025年9月期の業績の追い風になったと見ています。 営業利益率は2024年9月期の8.5%から1年で14.0%に上がりました。 第16次3ヵ年計画では、戦略的受注で市況の変化に柔軟に対応できる体制を作る方針です。
SHINRYO Report 2026 - 受注が売上の1.47倍に膨らんだ
2025年度の連結受注高は5,025億円で、売上高3,414億円の1.47倍です。 会社は施工現場の業務をバックオフィスへ移す生産プロセス改革とBIMの活用で、生産性を上げる方針です。
SHINRYO Report 2026 - 半導体は事業の一部
事業領域は空気調和、給排水衛生、地域冷暖房、コージェネレーション、電気、総合情報システム、プラント、水族館の各設備にわたります。 クリーンルームは空気調和設備の営業種目の一つです。 新卒採用は施工管理や設計などの職種別で、勤務地は全国各地および海外です。
事業内容 - 同じ技術で競う大手サブコン
三機工業はケミカル対応や微振動対策のスーパークリーンルームを手がけます。 高砂熱学工業は、独自開発のケミカルワッシャーで設置スペースと圧力損失を従来品より大きく減らしたと説明しています。
三機工業 産業空調事業
04待遇
給与、初任給、休日、手当
新卒の初任給は修士了28.8万円、学部卒28万円で、年間休日は123日です。 2025年実績の平均年収は1,244万円、2025年度の単体の平均年齢は44.3歳、平均勤続年数は18.3年です。
新卒初任給（月給）
- 新卒の初任給
- 2026年4月の実績で博士了30万円、修士了28.8万円、学部卒28万円、高専卒26.3万円です。 昇給は年1回、賞与は年2回です。
- 平均年収
- 2025年実績の平均年収は1,244万円です。 2025年度の単体の平均年齢は44.3歳、平均勤続年数は18.3年です。 手当には時間外手当、通勤手当、施工職手当があります。
- 勤務時間と休日
- 勤務時間は8:30〜17:30です。 完全週休2日制（土・日曜）で、2025年の年間休日は123日、2024年は有給休暇の91.2%が消化されました。
- 住まいと福利厚生
- 入社後1年間は研修寮に入り、2年目から全国の独身寮に入寮できます。 転勤者向け社宅、財形貯蓄、企業年金、奨学金返還支援制度があります。
- 定着
- 新卒採用者数は2025年97名、2024年75名、2023年72名です。 新卒離職者数は2024年1名、2023年2名でした。
05勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
本社は東京都新宿区四谷にあり、研究拠点のイノベーションハブは茨城県つくば市にあります。 事業ネットワークは国内56拠点・海外14拠点の70拠点で、熊本、広島、北海道などにも支社・営業所を置きます。
主な勤務地・拠点
- 本社
- 東京都新宿区四谷1-6-1（コモレ四谷・四谷タワー5F）首都圏事業部・都市環境事業部・アジア支社も同所
- 研究拠点
- イノベーションハブ（茨城県つくば市和台41）極微量成分分析、数値流体シミュレーション、実大実験の設備
- 国内の支社・支店
- 北海道支社、東北支社、関東支店、大阪支店、中部支店、北陸支店、西部支店、熊本営業所など
- 海外
- 台湾新菱、新菱香港、新菱フィリピン、新菱ベトナム、タイ新菱、新菱インドネシア、新菱マレーシア、新菱スビダ、GMP Technical Solutionsシンガポール・カンボジア・香港に営業所
新卒採用の職種
- 施工管理
- 設計
- 自動制御システム開発
- 研究開発
- DX推進
- 営業
- 調達
- 経理・総務・人事
前半5つが総合職技術系、後半3つが総合職事務系です。 DX推進は両方で募集し、採用人数は85名（技術系70名・事務系15名）です。
選考の流れ
- 採用サイトかマイナビ・リクナビからエントリーし、会社説明会に参加する
- 履歴書の提出、履修履歴データベースの登録、SPIの受験を経て書類選考
- WEB一次面接と個人面接のフィードバックの後、最終面接を経て内々定
06これから
会社が次に取りにいくもの
会社は2025年10月から第16次3ヵ年計画を進め、生産プロセス改革、戦略受注、グローバル成長を柱にしています。 半導体に関わる次のテーマは、ケミカルフィルタを使わない新方式エアワッシャーと産業空調の省エネルギー化です。
これからの材料
- 新方式エアワッシャー
- アルカリ電解水と純水の二段階で二酸化硫黄とアンモニアを除去する方式を開発し、半導体工場のクリーンルームへの導入を目指すと 研究開発職の社員紹介 に載ります。
- 産業空調の省エネルギー化
- 生産工程の温湿度条件を厳密に管理し、高効率に運用できる空調技術を、半導体やリチウムイオン電池などの製造業に提供しています。
- 第16次3ヵ年計画
- 収益力の向上、成長戦略、経営基盤の強化の3つの経営戦略で、生産性の向上とイノベーションによる価値創造を目指す計画です。 SHINRYO Report 2026 に計画の全体が載ります。
新方式エアワッシャーを半導体工場へ
イノベーションハブの研究開発職は、アルカリ電解水で二酸化硫黄を、純水でアンモニアを除去する二段階方式のエアワッシャーを開発しました。 AIの急速な発展で増える半導体需要を背景に、半導体工場のクリーンルームへの導入を目指しています。 開発者は、この新方式を半導体工場のクリーンルームに導入していきたいと語っています。
産業空調の省エネルギー化
新菱冷熱工業は、半導体やリチウムイオン電池などの工場向けに、温湿度条件を厳密に管理し高効率に運用できる産業空調を提供しています。 ドライルーム向けの「アリフィカス®」は相対湿度1%以下を保ちながら年間消費エネルギーを従来比で最大40%減らします。
第16次3ヵ年計画
2025年10月から2028年9月までの第16次3ヵ年計画は「挑戦と創造 “Re-Create Value”」を掲げ、生産プロセス改革、戦略受注の強化、グローバル成長に向けた戦略、DX推進と人的資本の強化を柱にしています。 戦略的受注で、市況の変化に柔軟に対応できる体制を作る方針です。
インドでのクリーンルーム事業
GMP Technical Solutionsはクリーンルームパネルの製造・据付を行い、製造工場で不良率の低減と設備稼働率の最大化を目指すカイゼン活動を進めています。 新菱スビダとの連携でインドの事業基盤を広げます。
07入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
クリーンルームの施工、空調の設計、汚染対策の研究開発のうち、どこで半導体工場に関わるかを決めてから職種を選びます。
施工管理
設計図をもとに施工図を作り、建設現場の労務・品質・工程・予算・安全を管理し、資材・機材を手配します。 半導体工場のクリーンルームでは、パーティクル、分子汚染、微振動の要求を満たす施工がこの職種の担当になります。
公式採用情報研究開発
イノベーションハブで、環境制御、エネルギーマネジメント、生産技術、デジタルエンジニアリングの4つの領域を研究します。 産業環境グループの社員は、半導体工場向けの新方式エアワッシャーを開発しています。
- Air Washer
- Chemical Contamination
- GC/MS
- Ion Chromatography
応募前の3手
- クリーンルームの5つの制御要素と、AIR-ROCA®Eが除去する二酸化硫黄とアンモニアの役割をノートへ書く
- 受注高5,025億円と売上高3,414億円の差が、入社後の施工現場の量にどう響くかを書き出す
- 募集要項の職種、勤務地、初任給、選考の流れを公式ページから書き出す
面接で使う技術語
- Construction Management
- Cleanroom
- HVAC
- BIM
- Safety
- HVAC Design
- CFD
- Cleanroom
- Energy Saving
- Minienvironment
募集学科は技術系・事務系とも全学部全学科です。
他社との違いを一言で
- 産業空調とクリーンルーム
大気社
大気社は、電気・電子部品分野で微粒子の付着が品質と生産効率に影響するため微粒子の流入を防いでいると記載し、精密空調からクリーンルームへ技術を高めてきた経緯を説明しています。新菱冷熱はパーティクルに加えて分子汚染の制御を掲げ、電解水エアワッシャーで二酸化硫黄の99%以上を除去します。
- 半導体・FPD製造設備のクリーンルーム
三機工業
三機工業は半導体・FPD製造設備として、ナノテクノロジー対応、ケミカル対応、低露点対応、微振動対策に対応したスーパークリーンルームを提供すると記載しています。新菱冷熱もクリーンルームで微振動と分子汚染を制御し、ケミカル汚染の分析をつくばのイノベーションハブで自社で行います。
- クリーンルームの省エネとケミカル汚染対策
高砂熱学工業
高砂熱学工業はSWIT®吹出口による置換空調と、設置スペースと圧力損失を従来品より減らす独自のケミカルワッシャーを掲げています。新菱冷熱の「AIR-ROCA®E」はケミカルフィルタと再熱コイルを不要にし、外調機全体の消費エネルギー量を約24%減らします（当社従来型比）。
出典23件
- 公式 会社概要
- 公式 事業内容
- 公式 事業所一覧
- 公式 グループ会社
- IR 財務・業績
- IR 2025年9月期 連結貸借対照表・連結損益計算書 2025年9月期
- IR 2024年9月期 連結貸借対照表・連結損益計算書 2024年9月期
- IR 2025年9月期 貸借対照表・損益計算書（単体） 2025年9月期
ほか15件
- IR SHINRYO Report 2026 2025年9月期
- 公式 クリーンルーム
- 公式 極微量成分分析技術
- 公式 電解水エアワッシャーシステム AIR-ROCA®E
- 公式 エアワッシャー（省エネルギー型）
- 公式 イノベーションハブ
- 公式 1分でわかる新菱冷熱
- 採用 新卒採用情報
- 採用 募集要項・選考フロー
- 採用 職種紹介
- 採用 私たちの事業活動
- 採用 社員紹介 研究開発 A.M.
- 公式 大気社 産業空調設備
- 公式 三機工業 産業空調事業
- 公式 高砂熱学工業 クリーンルームにおける省エネ