Tier A 露光 / パターニング / 配線 / 量産
SPIE Photomask/EUV 2026SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography
今の状態
- 現在
- 会期終了
- 段階
- 投稿受付前
- 投稿受付中
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- 採否通知
- プログラム公開
- 開催中
- 終了
- 直近の会期
- 9月8日〜11日開催米国・モントレーMonterey, California
- 次の一手
- 次回の日程は公式サイトで発表されます。公式サイト
- 日程
- 要旨締切
- 採否通知
- Late News締切
- 最終原稿締切
- 開催
近い学会との違い
どんな学会？
SPIEとBACUSが開くフォトマスクとEUVリソグラフィの会議。マスク設計、OPC、描画、修正とEUVの光学系、計測、レジスト、High-NAを対象とし、採択論文はSPIEの論文集に収める。
- 位置づけ
- Tier A サブ分野トップ級・地域主要国際会議 Tierの基準
- 向いている人
- リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。テーマが合う研究の有力な発表先です。
- 主なテーマ
-
- photomask
- EUV mask
- inspection
- repair
- metrology
- mask business
- BACUS
- 発表者の所属
- プログラムの筆頭著者の所属（169件） 企業57%大学17%研究機関18%学会・団体9% 主な企業：ASML、Siemens EDA、Samsung Electronics、Intel、KLA
概要
Photomask/EUV は ALP より mask に絞り、EUV mask の検査・修復・計測と mask supply chain を深く確認できる。High-NA EUV 時代の mask writer、inspection、pellicle、repair の制約を年次で追跡する基準点。
発表と委員会の顔ぶれ
プログラムの筆頭著者の所属（169件）
- 企業56.8%
- 大学16.6%
- 研究機関17.8%
- 学会・団体8.9%
企業
- ASML10
- Siemens EDA7
- Samsung Electronics6
- Intel4
- KLA4
- Carl Zeiss SMT3
- Synopsys3
- Bruker2
- EUV Technology2
- FUJIFILM2
ほか43社
- IBM2
- Lam Research2
- Lasertec2
- LINTEC2
- Micron Technology2
- Mitsui Chemicals2
- NuFlare Technology2
- Park Systems2
- Veeco Instruments2
- AGC1
- America, LLC1
- Canon Inc.1
- Corning1
- D2S1
- Demcon High-Tech Systems1
- Energetiq Technology1
- Fractilia, LLC1
- Gigaphoton Inc.1
- Gudeng1
- Heidelberg Instruments1
- Hitachi High-Tech Corp.1
- HOYA1
- Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.1
- Nano-Master1
- Nanya Technology Corp.1
- New Ray Mask Technology Corp.1
- NGK Insulators, Ltd.1
- Oji Holdings Corp.1
- Orange Quantum Systems1
- Oxford Instruments1
- S&S Tech Co., Ltd.1
- SCREEN SPE Germany GmbH1
- SK hynix1
- SNPS Belgium B.V.1
- Storex Technologies Inc.1
- SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG1
- Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.1
- Tekscend Photomask1
- Tokyo Electron Kyushu Ltd.1
- Tokyo Electron Ltd.1
- Toyo Gosei Co., Ltd.1
- Toyogosei Co., Ltd.1
- Ushio Inc.1
国・地域
- 米国51
- 日本35
- 韓国23
- ベルギー18
- オランダ13
- 台湾11
- ドイツ8
- インド3
- スイス2
- オーストリア1
ほか4か国・地域
- スウェーデン1
- ルーマニア1
- 英国1
- 中国1
委員会の所属（78件）
- 企業78.2%
- 大学5.1%
- 研究機関12.8%
- 学会・団体3.8%
企業
- ASML7
- Carl Zeiss SMT5
- Synopsys4
- HOYA3
- Intel3
- Lasertec3
- Micron Technology3
- Samsung Electronics3
- Applied Materials2
- IBM2
ほか22社
- KLA2
- Meta2
- SK hynix2
- Veeco Instruments2
- ALITECS Co., Ltd.1
- America, LLC1
- Atice LLC1
- Canon Nanotechnologies1
- D2S1
- Dai Nippon Printing1
- EUV Technology1
- Gigaphoton Inc.1
- Keysight Technologies, Inc.1
- KIOXIA Corp.1
- Lam Research1
- Lavorro1
- Photronics1
- SiClarity Inc.1
- Siemens EDA1
- Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.1
- Tekscend Photomask1
- Ushio Inc.1
スポンサー・出展（36団体）
- 企業91.7%
- 学会・団体8.3%
- Shin-Etsu MicroSi, Inc.
- Bruker Corp.
- attocube systems Inc.
- Corning Incorporated
- PLANSEE SE
- Energetiq Technology, Inc.
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Park Systems Inc.
- Oxford Instruments
- HORIBA Instruments Inc.
- XYALIS
- Pozzetta, Inc.
ほか24団体
- Canatu Plc
- JENOPTIK Optical Systems, LLC
- Raith America, Inc.
- Vistec Electron Beam GmbH
- Gudeng, Inc.
- aweXome Ray Inc.
- Nordson TEST & INSPECTION
- UC Components, Inc.
- MSP Corp.
- Mitsui Chemicals America, Inc.
- Demcon High-Tech Systems
- SmarAct Inc.
- ESTION Technologies GmbH
- Heidelberg Instruments Inc.
- LINTEC Corp.
- Nano-Master, Inc.
- OHTAMA Co., Ltd.
- NTT ADVANCED TECHNOLOGY CORPORATION
- DataRay Inc.
- XRnanotech AG
- ibss Group
- Thales SESO S.A.S.
- Tibidabo Scientific Industries (USA), Inc.
- Semiconductor Digest