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日本大学千葉県・関東

ナノ材料プロセス工学研究室(小川研究室)

生産工学部 電気電子工学科

教授 小川 修一

研究内容

  • Si熱酸化反応プロセス
  • 半導体デバイス作製
  • 急速熱酸化(RTO)
  • 次世代電子デバイス用炭素材料
  • グラフェン
  • プラズマCVD
  • 放射光光電子分光法
  • DLCゲートグラフェンFET

登録装置

装置の出典:ogawalab.ee.cit.nihon-u.ac.jp