ウェーハ前工程
成膜
絶縁膜・導電膜・バリア膜などをウェーハ表面へ形成する工程。
この工程の仕事
- 気相反応や物理蒸着で薄膜を形成する
- 膜厚・組成・均一性を制御する
代表的な装置・設備
- 薄膜形成装置
- CVD装置
- PVD・スパッタ装置
- ALD装置
- ESC（静電チャック）
- RF電源
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- マイクロン・テクノロジーAdvanced Technology Japan Engineer, CVD/PVD
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