両面研磨ウェーハ・基板製造 › ラッピング・鏡面研磨 › 鏡面研磨
両面研磨は、ウェーハの表と裏を上下の定盤で挟み、同時に研磨して平行度と平坦度を整える加工である。片面だけを磨く場合は裏面を保持する必要があり、裏面の凹凸や保持による歪みが表面に写るが、両面を同じ条件で削るとそれが起きない。露光の解像度を上げるほど焦点の合う範囲が狭くなり、ウェーハの平坦度への要求も厳しくなるため、この加工が使われる。加工の流れではラッピングの後、仕上げの鏡面研磨の前に置かれる1。
分類上の位置
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鏡面研磨の下にある工程で、同じ分類にはほかの工程はない。
この工程は、ウェーハ・基板製造の「シリコンウェーハの加工プロセス」の手順の一部として出てくる。
- ポリッシング装置
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- 1フジミインコーポレーテッド シリコンウェハーの加工プロセスと製品fujimiinc.co.jp ↩