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両面研磨|ウェーハ・基板製造 › ラッピング・鏡面研磨 › 鏡面研磨

両面研磨は、ウェーハの表と裏を上下の定盤で挟み、同時に研磨して平行度と平坦度を整える加工である。片面だけを磨く場合は裏面を保持する必要があり、裏面の凹凸や保持による歪みが表面に写るが、両面を同じ条件で削るとそれが起きない。露光の解像度を上げるほど焦点の合う範囲が狭くなり、ウェーハの平坦度への要求も厳しくなるため、この加工が使われる。加工の流れではラッピングの後、仕上げの鏡面研磨の前に置かれる1。

工程の分類›ウェーハ・基板製造›ラッピング・鏡面研磨›鏡面研磨› 両面研磨

鏡面研磨の下にある工程で、同じ分類にはほかの工程はない。

この工程は、ウェーハ・基板製造の「シリコンウェーハの加工プロセス」の手順の一部として出てくる。

  • ポリッシング装置
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