コンテンツにスキップ

HMDS(ヘキサメチルジシラザン)プライム|前工程 › 洗浄・表面処理 › 表面改質(表面修飾)

HMDS(ヘキサメチルジシラザン)プライムは、HMDSを基板表面に作用させて酸化膜表面の水酸基と反応させ、表面を水をはじく疎水性へ変える前処理である。親水性の表面にはレジストが密着しにくく、現像などの途中で剥がれやすいため、塗布の前にこの処理で密着を助ける。リソグラフィの流れでは、レジストを塗る工程のすぐ前に置かれる。

工程の分類›前工程›洗浄・表面処理›表面改質(表面修飾)› HMDS(ヘキサメチルジシラザン)プライム

表面改質(表面修飾)の下にある工程で、同じ分類にはほかに1工程がある。

この工程は、リソグラフィの「フォトレジストの塗布から剥離まで(11工程)」の手順の一部として出てくる。

プラズマ表面活性化