半導体製造装置 真空・プラズマ研究開発装置
アリオス
研究者の注文に合わせて真空・プラズマ装置を一台ずつ作る会社
大学や国の研究機関の注文に合わせ、真空・プラズマ装置を一台ずつ作る会社。
従業員規模は1～50名の少人数で、提案から納入までを受け持ちます。
アリオスは 超高真空・プラズマの研究開発用装置 をオーダーメイドで作る昭島市の会社です。 納入先は宇宙航空研究開発機構や理化学研究所、多くの大学です。 会社は近年、生産用途のプラズマ処理装置やプラズマ源の依頼が増えているとしています。
- ダイヤモンドCVDの到達真空度 1×10-5Pa以下 単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-031L の標準仕様
- ERFS-501 のRF出力 0～500W (500W 連続) 周波数13.56MHz ± 1kHz
- 大学卒の基本給 249,000円 2025年4月支給実績。 高専卒230,000円、大学院修了266,000円
新卒の年間の休日と勤務日2027年卒 技術営業職の求人
- 年間休日125日
- 勤務日240日
この会社の要点
01立ち位置
何の会社として比べるか
アリオスは研究開発用の真空・プラズマ装置メーカーです。 真空技術を土台に、MBE、CVD、プラズマ源へと事業を広げてきました。
真空からMBE、CVD、プラズマへ
事業と技術の節目
研究開発用の装置とユニット
装置は基本的に一から作るため、注文に合わせたカスタマイズができます。 装置にはMBE装置、スパッタ装置、プラズマCVD実験装置、真空アニール装置、スペースチャンバーがあります。 チャンバーに取り付けるユニットとして、マイクロ波イオン源、RFラジカルビーム源、分子線セル、EB蒸着源も作っています。
- MBE装置
- 小型スパッタ装置 SS-DC･RF301
- プラズマCVD実験装置 PCVD-R100
- マイクロ波イオン源 EMIS-221C
単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置
高純度の単結晶ダイヤモンドを成長させる実験用のプラズマCVD装置です。 プラズマが室壁に触れない構造で、デバイス向けの合成実験ができます。 試料はロードロック方式で入れ、全て空冷のため電力とガスだけで運転できます。 到達真空度は1×10-5Pa以下、重量は電源部込みで約150kgです。
- DCVD-031L
RFプラズマ源 ERFS-501
プラズマ室が石英製で、無電極放電のため金属汚染の少ないプロセスに使えます。 窒素ラジカル源としても使えます。 RF出力は0～500W (500W 連続)、周波数は13.56MHz ± 1kHzです。
- ERFS-501
プラズマ測定システム
シングルとマルチポイントのラングミュアプローブで、プラズマ密度、電子温度、プラズマ電位、飽和電流、電子エネルギー分布関数を求めます。
- シングルラングミュアプローブ
- マルチポイントラングミュアプローブ
- PLAZMARK
02収益
どこで、どれくらい儲けているか
売上規模は1億円以上、従業員規模は1～50名です。 2017年からオーエスジー株式会社の連結子会社です。
03強みとリスク
強みと、リスク・検討点
強みは、注文ごとに装置を一から作る力と、既設装置を改造して仕様を引き上げる力です。 ダイヤモンドCVDでは特許と受賞があります。
強み
- 研究内容に合わせた一品ものを作る
決まった製品を売るのではなく、顧客の研究内容に合わせて装置を作るのが事業の中心です。 技術職はプロジェクト担当制で、設計、組立、検査に加えて仕様の打合せとアフターサービスまで受け持ちます。
2027年卒 技術職 - 国の研究機関と大学への納入
納入先には宇宙航空研究開発機構、情報通信研究機構、理化学研究所、物質・材料研究機構、国立天文台が並びます。 大学は北海道大学から鹿児島大学まで全国にわたります。
会社案内 - ダイヤモンドCVDで特許と受賞
2011年にダイヤモンド合成用CVD装置の特許を取り、2023年にこの装置で日本真空工業会の真空装置部門賞を受けました。 2020年にはDLC成膜技術と装置の開発で表面技術協会の技術賞も受けています。
会社案内 - 既設装置の改造で仕様を引き上げる
顧客の装置のヒーターや部品を替え、加熱温度1300℃仕様へ改造した事例があります。 海外製装置のRHEEDを、加速電圧30kVの小型品に置き換えた事例もあります。
アリオスとは（技術・事例・部署）
リスク・検討点
- 少人数の会社
従業員規模は1～50名、売上規模は1億円以上です。 技術職はオーダーメイド装置のすべての工程に関わるマルチエンジニアとして働きます。
2027年卒 技術職 - 事業の中心は研究開発向け
会社は創業以来、研究開発のための事業を中心に展開してきたとしています。 生産用途の依頼が増えたのは近年のことです。
会社案内 - 入社後しばらくは東京本社
勤務地は原則東京本社で、入社後数年間は東京本社で働きます。 東海営業所での勤務は、将来希望すれば可能です。
2027年卒 技術職
04待遇
給与、初任給、休日、手当
2025年4月の支給実績で、基本給は高専卒230,000円、大学卒249,000円、大学院修了266,000円です。 年間休日は125日です。
学歴別の基本給
05勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
勤務地は原則東京本社です。 入社後数年間は本社で働き、将来希望すれば東海営業所も選べます。
主な勤務地・拠点
- 東京本社 / 東京都昭島市
- 本社と工場がある拠点です。 2027年卒求人の原則の勤務地です。
- 東海営業所 / 愛知県豊川市
- オーエスジー株式会社内にある営業所です。 将来希望すれば勤務できます。
技術職の配属先
- 機構設計
- 筐体設計
- 回路設計
- 組込・制御設計（PLC）
- 評価・実験
- フィールドエンジニア
技術職はプロジェクト担当制で、一台の装置に通して関わります。
06これから
会社が次に取りにいくもの
今後を見る軸は、生産用途のプラズマ装置と、液中プラズマなど開発部の新技術です。
これからの材料
生産用途のプラズマ装置
会社は近年、生産用途のプラズマ処理装置やプラズマ源の依頼が増えているとし、生産現場に合わせた品質や安全管理の技術にも力を入れています。 研究開発だけでなく生産現場でも真空とプラズマの技術で貢献するというのは、会社の方針です。
液中プラズマと大気圧プラズマ
開発部はマイクロ波液中プラズマや大気圧プラズマの研究開発と、マルチフィジックスシミュレータによるプラズマ源の設計を進めています。 液中プラズマの用途として、金属ナノ粒子の合成、表面改質、有害物質の分解、殺菌が挙がっています。
ダイヤモンド半導体の実験
単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置は、各種のガスを導入するとダイヤモンド半導体の実験にも使えます。 標準仕様以外にも、要求に応じて設計します。 この装置は合成実験用です。
07入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
新卒は、装置を作る技術職と、顧客の要望から案件をまとめる技術営業職の二つです。
技術職（機械設計・電気制御設計）
オーダーメイド装置を、仕様の打合せから設計、組立、検査、アフターサービスまで担当します。 配属先には機構設計、回路設計、組込・制御設計、評価・実験があります。
公式採用情報応募前の3手
- MBE、スパッタ、ダイヤモンドCVD、プラズマ源から関心のある製品を一つ選ぶ
- 設計・組立・実験の経験を、仕様と確かめ方に分けて話せるようにする
- 公式採用ページから2028年卒向けのオープンカンパニーに申し込む
面接で使う技術語
- Mechanical Design
- Control Design
- PLC
- Vacuum
- Technical Sales
- Requirement
- Project Management
- Maintenance
中途採用は随時募集しています。
他社との違いを一言で
- プラズマCVD装置
サムコ
サムコのプラズマCVD装置は化合物半導体とシリコン半導体の絶縁膜・パッシベーション膜向けで、研究開発用から生産用、ウエハ多数枚処理装置まで並びます。アリオスのCVD装置はダイヤモンド合成の実験向けです。
- スパッタリング装置
キヤノンアネルバ
EC7430は高周波フィルタの温度補償膜やMEMSの圧電膜を作るデュアルカソード装置です。アリオスは小型スパッタ装置や、粒子の表面に成膜するドラムスパッタ装置を作ります。
- ダイヤモンド合成用マイクロ波プラズマCVD
大亜真空
大亜真空もダイヤモンド合成の研究向けに装置を作り、要望に合わせたカスタマイズに応じます。アリオスの装置は単結晶のホモエピタキシャル成長向けで、ロードロック方式を備えます。
出典12件
- 公式 会社案内
- 採用 公式採用情報
- 採用 2027年卒 技術営業職
- 採用 2027年卒 技術職
- 公式 RFプラズマ源 ERFS-501
- 公式 プラズマ測定システム
- 公式 単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置
- 公式 アリオスとは（技術・事例・部署）
ほか4件
- 公式 サムコ プラズマCVD装置
- 公式 キヤノンアネルバ EC7430
- 公式 大亜真空 マイクロ波プラズマCVD装置
- 公式 製品紹介