半導体材料 貴金属スパッタリングターゲット・熱電対
フルヤ金属
イリジウムとルテニウムを加工・回収する貴金属メーカー
イリジウムとルテニウムを加工・回収する貴金属メーカーで、半導体向けの製品はスパッタリングターゲットを作る薄膜と、熱電対を作るサーマルです。
薄膜の売上総利益率52.6%が利益を引っ張る一方、売上の35.6%は、サプライチェーン支援の商品販売と原材料在庫からの貴金属販売でした。
フルヤ金属は ルテニウムのスパッタリングターゲット をHDDと半導体向けに作る貴金属メーカーです。 2026年6月期は 薄膜セグメントの売上総利益94億円 が5つのセグメントで最も多くなりました。
- 2026年6月期 売上高 1,001億円 前期比74.5%増。 うち地金・貴金属原材料の販売が356億円
- 2026年6月期 営業利益 247億円 前期比160.0%増、営業利益率24.8%
- 2026年6月期 薄膜セグメント売上高 180億円 前期比60.0%増、売上総利益94億円で率52.6%
2026年6月期のセグメント別売上高
- ファインケミカル・リサイクル277億円
- サプライチェーン支援190億円
- 薄膜180億円
- その他（原材料在庫からの貴金属販売など）178億円
- 電子108億円
- サーマル66億円
この会社の要点
有価証券報告書は、製品の原材料は高価な貴金属が大半を占めると記載しています。 FMBIのルテニウム平均価格は2026年6月期に1グラム6,052円で前期比147.8%上がり、イリジウムも29.3%上がりました。 決算短信も市場価格の変動が売上高の押し上げ要因になったと書いており、2026年6月期の伸びには価格要因が含まれます。
強みとリスク01立ち位置
何の会社として比べるか
フルヤ金属は、イリジウムとルテニウムを中心とする白金族金属を加工・回収するメーカーです。 2026年6月期は売上高が初めて1,000億円を超え、営業利益は247億円になりました。 ターゲットを作る薄膜と熱電対を作るサーマルの売上は合わせて247億円で、薄膜の伸びの主因はHDD用ルテニウムターゲットです。
2024年6月期から2027年6月期予想までの売上高と営業利益
売上高
営業利益
どの地域の顧客へ売っているか
地域別売上高
薄膜とサーマルの2セグメント（薄膜はHDD用を含む）
半導体用スパッタリングターゲット（薄膜セグメント）
ルテニウム、イリジウム、プラチナとそれらの合金のターゲットを作り、プラズマ溶解、EB溶解、SPS焼結で高純度・高密度に仕上げます。 用途にはMRAM・ReRAMなどの不揮発性メモリとEUV向けを挙げ、EUV用ターゲット材は堅調、半導体配線材用はサンプル出荷を続けています。 薄膜セグメントの売上180億円にはHDD用ルテニウムターゲットが含まれ、データセンター投資を背景にこちらが伸びを支えました。
- Ruターゲット・Ru合金ターゲット
- Irターゲット・Ir合金ターゲット
- Pt・Pt合金ターゲット
- Pd・Rhターゲット
半導体製造用熱電対（サーマルセグメント）
拡散炉やCVD炉の温度管理に使う熱電対と石英加工品を作り、熱電対素線材料の製造から組立、温度校正までを一貫して手がけます。 2026年6月期のサーマル売上は66億円で前期比37.6%増え、半導体製造装置メーカー向け純正品の受注と交換需要の両方が伸びました。
- SiC保護管型熱電対
- L型石英保護管型熱電対
- スパイク熱電対
- ウエハ熱電対
単結晶育成用ルツボ（電子セグメント）
イリジウムと白金でルツボと育成用の器具を作ります。 イリジウムの融点は2400℃以上です。 電子セグメントの売上は108億円で前期比83.0%増え、医療用シンチレーター結晶向けと、データセンター間の光通信に使うアイソレーター結晶向けのルツボが伸びました。
- イリジウムルツボ
- 白金ルツボ
- シードホルダー
- アフターヒーター
精製・回収と貴金属化合物（ファインケミカル・リサイクル）
使用済みの貴金属製品を回収して高純度に精製し、電極向けや有機EL向けの貴金属化合物も製造します。 イリジウムとルテニウムは鉱山の年間産出量と同等以上のリサイクル能力を持つと会社は説明しています。 2026年6月期の売上は277億円で、全セグメントで最も大きい規模です。
- イリジウム・ルテニウムの回収精製
- 貴金属化合物・高純度パウダー
- 水電解触媒（PEM水電解アノード触媒）
02収益
どこで、どれくらい儲けているか
利益率が最も高いのは薄膜で、売上総利益率52.6%です。 売上が最も大きいファインケミカル・リサイクルは33.1%、地金を売るサプライチェーン支援は12.2%で、売上規模と稼ぐ力の順番が一致しません。
売上高1,001億円 / 営業利益247億円
売上高は前期比74.5%増、営業利益は160.0%増で、営業利益率は24.8%です。 経常利益は246億円、親会社株主に帰属する当期純利益は160億円でした。
売上高573億円 / 営業利益95億円
営業利益率は16.6%でした。 2026年6月期は1年で427億円の増収で、営業利益は2.6倍になりました。
売上高254億円 / 営業利益74億円
第3四半期の売上高308億円、営業利益98億円から減りましたが、営業利益率は29.4%を保ちました。 薄膜の第4四半期売上は61億円で、前年同期の26億円から2倍以上に増えています。
売上高1,010億円 / 営業利益265億円
売上高は前期比0.9%増、営業利益は6.9%増の予想です。 前提為替は1ドル155円で、貴金属価格の期中平均は、1トロイオンスあたりの米ドル建てでイリジウム6,000、ルテニウム1,400を想定しています。
2026年6月期のセグメント別売上高
薄膜セグメント売上高の推移
03強みとリスク
強みと、リスク・検討点
強みは、加工の難しいイリジウムとルテニウムを原料の確保から製品、回収精製まで社内で回せることと、粗利率52.6%の薄膜です。 弱点はその裏返しで、業績が貴金属価格と地金販売に大きく左右されます。
強み
- 薄膜が粗利の3割を稼ぐ
2026年6月期の薄膜セグメントは売上180億円、売上総利益94億円で、売上総利益率は52.6%でした。 売上は全体の18.0%ですが、全社の売上総利益302億円の31.4%を稼いでいます。 第4四半期の薄膜の売上総利益率は56.0%でした。
2026年6月期 決算説明資料 - 原料の確保から回収精製までを社内に持つ
イリジウムとルテニウムについて、鉱山の年間産出量と同等以上のリサイクル能力を持ち、純度99.999%の高純度精製技術を保有しています。 調達・加工・回収をつなぐリサイクル体制を社内に持っています。 製品に使った貴金属を顧客から回収して再び材料に戻せる点が、原料が限られる金属での供給力になっています。
精製・回収 - 熱電対を素線から校正まで一貫生産
半導体製造用熱電対は、素線材料の製造から組立、温度校正までを自社で行います。 2026年6月期のサーマル売上は66億円、売上総利益は23億円で率34.8%でした。 半導体製造装置メーカー向け純正品の受注が増え、交換需要も底堅く推移しました。
半導体製造用熱電対 - 利益で借入金を返した財務
2026年6月期の営業キャッシュ・フローは157億円で、短期借入金134億円を返済しました。 自己資本比率は54.8%で、年間配当は165円、2027年6月期は180円を予定しています。
2026年6月期 決算短信〔日本基準〕（連結）
リスク・検討点
- 貴金属価格で業績が大きく動く
有価証券報告書は、製品の原材料は高価な貴金属が大半を占めると記載しています。 FMBIのルテニウム平均価格は2026年6月期に1グラム6,052円で前期比147.8%上がり、イリジウムも29.3%上がりました。 決算短信も市場価格の変動が売上高の押し上げ要因になったと書いており、2026年6月期の伸びには価格要因が含まれます。
2026年6月期 有価証券報告書 - 売上の35.6%は地金・原材料の販売
会社が「当社の製品の受注に紐づかない主要な貴金属原材料の販売」と説明するサプライチェーン支援が190億円、原材料在庫からの貴金属販売が165億円で、合計356億円が売上の35.6%を占めます。 サプライチェーン支援の売上総利益率は12.2%です。 2027年6月期はサプライチェーン支援を160億円と見込み、その他の地金販売は計画に入れていません。
2026年6月期 決算短信〔日本基準〕（連結） - 在庫が総資産の半分を占める
2026年6月末の原材料及び貯蔵品は745億円で、総資産1,429億円の52.2%です。 供給を続けるために貴金属を持つ事業構造で、価格が下がる局面では在庫評価と売上の両方に響きます。
2026年6月期 決算短信〔日本基準〕（連結） - 原料の産地が限られる
有価証券報告書は、原材料のイリジウム・ルテニウムは産出地や生産量が限定されると記載しています。 主要産出国は南アフリカで、産出国の政治・経済情勢や需給の逼迫で流通量が減ると、調達と生産に響きます。
2026年6月期 有価証券報告書 - ルテニウムターゲットと熱電対は価格競争が厳しい
有価証券報告書は、ルテニウムターゲット、各種ターゲット、熱電対及び理化学用器具を、競合が激しく価格競争も厳しい品目に挙げています。 薄膜とサーマルの主力製品がそのまま該当します。
2026年6月期 有価証券報告書 - 電極触媒は1社への売上が大きい
ファインケミカル・リサイクルの顧客であるデノラ・ペルメレック向けの売上は103億円で、連結売上高の10.4%を占めます。 中国（香港を含む）向けも271億円で売上の27.1%です。
2026年6月期 決算短信〔日本基準〕（連結）
04待遇
給与、初任給、休日、手当
新卒の初任給は修士卒32.5万円、大卒31.3万円で、年間休日は125日です。 2026年6月期の提出会社の平均年間給与は756万7,272円、平均年齢は35.7歳、平均勤続年数は8.8年です。
新卒初任給（月給）
- 新卒の初任給
- 修士卒32.5万円、大卒と高専卒（専攻科）31.3万円、高専卒（本科）29万円です。
- 休日と勤務時間
- 年間休日は125日の完全週休2日制です。 連休にならない祝日を出勤日にする独自のカレンダーで、年末年始・GW・お盆を長期連休にしています。
- 平均年間給与
- 2026年6月期の有価証券報告書では、提出会社の従業員448名、平均年齢35.7歳、平均勤続年数8.8年、平均年間給与756万7,272円（約756.7万円）です。 有価証券報告書 の従業員の状況に載ります。
- 住まいと福利厚生
- 単身者向けの社員寮と借り上げ社宅を原則30歳まで使え、退職金制度、従業員持株会、財産形成預金があります。 子育てサポート企業のくるみん認定を受けています。
- 職種と勤務地の構成
- 社員の職種構成は技術職70%、営業職17%、管理部門13%です。 職場環境 で勤務地別の人数構成も一覧できます。
社員の勤務地の内訳
- つくば工場44%
- 土浦工場28%
- 本社24%
- 千歳工場4%
約400人の社員が国内4拠点で働いています。
05勤務地と職種
どこで、どんな仕事をするか
社員の7割強は茨城県のつくば工場と土浦工場で働きます。 つくば工場にはスパッタリングターゲットの製造棟と研究開発センターがあり、土浦工場はルテニウムとイリジウムの精製ラインを持ちます。 北海道では千歳工場に加えて新千歳工場が2026年7月に竣工しました。
主な勤務地・拠点
- 本社
- 東京都豊島区南大塚2-37-5管理本部と営業本部
- つくば工場
- 茨城県筑西市森添島1915（下館第一工業団地）つくば研究開発センターのスパッタリング装置で受託成膜も行う
- 土浦工場
- 茨城県土浦市沢辺57-4（東筑波新治工業団地）回収精製と化成品製造
- 千歳工場・新千歳工場
- 北海道千歳市新千歳工場は2026年7月31日竣工
- 九州出張所
- 熊本県熊本市中央区水前寺公園14-22
- 海外グループ会社
- 韓国フルヤメタル（ソウル）、米国フルヤメタル（ニューハンプシャー州マンチェスター）、上海フルヤメタル（上海）
新卒採用の職種
- 研究開発
- 生産技術
- 製造
- 品質保証
- 生産管理
- 国内営業
- 海外営業
- 社内SE
- 経理・人事・総務
前半5つは技術系総合職、後半4つは営業管理系総合職の主な職種です。 社内SEは両方の区分にあります。
06これから
会社が次に取りにいくもの
会社は経常利益が中期経営計画の当初目標を前倒しで超えたため、2030年6月期の数値目標を見直します。 半導体ではルテニウムターゲット、新千歳工場の石英製品と熱電対、粉末スパッタリングが成長分野で、300億円規模の成長投資を実施する方針です。
KFKビジョン2030の計画当初の目標と2026年6月期実績
- 経常利益 246億円 計画当初の2030年6月期目標は200億円
- 売上高 1,001億円 計画当初の2030年6月期目標は1,500億円
これからの材料
- ルテニウムターゲット
- EUVマスクブランクス向けに加え、2030年頃のルテニウム配線の量産需要に向けて生産・開発体制を拡充すると 2026年6月期 決算説明資料 に載ります。
- 新千歳工場
- 2027年の本格稼働で半導体向けの新規石英製品を事業化し、熱電対のグローバル供給体制の強化を検討します。 新千歳工場のご案内 で建設の経過を公開しています。
- 目標の見直し
- 2026年6月期の経常利益が当初の最終年度目標を達成したため、事業環境を踏まえて数値目標を再設定します。 戦略方針と配当方針は変えません。 中期経営計画の見直しに関するお知らせ に経緯が書かれています。
ルテニウム配線とEUVマスクブランクス
会社は高品質ルテニウムターゲットの全世界的な供給を成長分野に掲げています。 EUVマスクブランクス向けに加え、2030年頃にルテニウム配線の量産需要が立ち上がると会社は見込んでいます。 主要な装置・デバイスメーカーとの開発を進め、生産・開発体制を拡充します。 2026年6月期の薄膜の伸びの主因はHDD用ルテニウムターゲットでした。
新千歳工場と半導体向け石英製品
北海道千歳市の新千歳工場は2026年7月31日に竣工し、9月14日に竣工式を開きました。 2026年6月期の設備投資のうち、新千歳工場の建設費用は19億円でした。 2027年の本格稼働で半導体向けの新規石英製品を事業化し、熱電対のグローバル供給体制の強化も検討します。 2027年6月期のサーマルは売上75億円の予想に対し、新千歳工場の償却費増加で売上総利益は19億円、率25.3%に下がる計画です。
HDD用ターゲットから半導体分野への展開
決算短信は、HDD用ターゲットで培ったコア技術を核に、MEMSなど半導体分野に新製品を展開すると記載しています。 成長投資にはAlScターゲットの増産も含まれます。 2027年6月期の薄膜は売上205億円、売上総利益101億円を見込みます。 薄膜の売上総利益率は52.6%から49.3%へ下がる計画で、HDD用の増産に伴う先行コストを見込んでいます。
中期経営計画の目標の見直し
2026年6月期の経常利益246億円は、KFKビジョン2030が最終年度の2030年6月期の目標として当初に置いた200億円をすでに上回りました。 会社は目指す姿を変えずに数値目標を見直すとし、300億円規模の成長投資を実施する方針です。 会社は新しい数値目標を、事業環境を踏まえて改めて策定し、速やかに公表する方針です。
07入口を選ぶ
専攻から、入口を1つに絞る
スパッタリングターゲット、熱電対、ルツボ、回収精製のうち自分の専攻と重なる製品を1つ選び、技術系と営業管理系のどちらで応募するかを決めます。
生産技術
製品製造工程の設計・立ち上げと、既存工程の技術的な改善・自動化を行います。 土浦工場の生産技術はリサイクル部門で使用済み製品の分析と試験を担い、化成品製造部門では合成工程の開発・設計・立ち上げに取り組みます。
公式採用情報製造
つくば工場では貴金属をさまざまな方法で加工して製品を作り、納期と品質を担います。 土浦工場ではリサイクル部門で使用済み製品の粉砕・溶解から高純度化までの工程を、化成品部門で貴金属化合物の製造工程を担当します。
- Manufacturing
- Recycling
- Purification
- Quality
応募前の3手
- 半導体用ターゲットの材質一覧と用途（MRAM、ReRAM、EUV）から1つ選び、使われる層と求められる純度をノートへ書く
- 薄膜・サーマル・電子の2026年6月期の売上と伸び率を書き出し、価格要因と数量要因に分けて考える
- 採用情報の職種、勤務地、初任給、選考の流れを公式ページから書き出す
面接で使う技術語
- Ruthenium
- Iridium
- Sputtering Target
- Refining
- Thin Film
- Process Engineering
- Automation
- Precious Metal
- Quartz
- Thermocouple
募集学部は全学部全学科で、技術系総合職と営業管理系総合職の2区分です。
他社との違いを一言で
- 半導体用スパッタリングターゲット
ＪＸ金属
ＪＸ金属は純度6N（99.9999%以上）のCuターゲットやTiターゲットを半導体配線向けに供給し、高純度チタンを作る東邦チタニウムをグループ内に持っています。AlScターゲットでは酸素の含有量を大幅に低減したと記載しています。フルヤ金属の半導体用ターゲットはRu、Ir、Pt、Rhなどの貴金属とその合金が中心で、成長投資にAlScターゲットの増産を含めています。
- 貴金属ターゲットと蒸着材
田中貴金属工業
田中貴金属工業は溶解法で作る高純度の貴金属スパッタリングターゲットと蒸着材を、半導体と光学デバイスの薄膜形成向けに供給しています。同社はフルヤ金属の総議決権の17.30%を持つ主要株主でもあります。フルヤ金属はプラズマ溶解とEB溶解に加えてSPS焼結も使い、イリジウムとルテニウムのターゲットに力を入れています。
- 熱電対と温度センサー
チノー
チノーは接触式の温度センサとして熱電対と測温抵抗体をそろえ、シース熱電対やφ10〜22mmの太径保護管を持つソリッドパック熱電対を製品に挙げています。フルヤ金属の熱電対は拡散炉やCVD炉向けのSiC保護管型、石英保護管型、ウエハ熱電対など半導体製造向けが中心で、素線材料から作ります。
出典23件
- 公式 沿革
- 公式 拠点一覧・グループ会社
- 公式 製品・FMBI
- 公式 半導体用スパッタリングターゲット
- 公式 半導体製造用熱電対
- 公式 単結晶育成用ルツボ
- 公式 精製・回収
- IR セグメント情報
ほか15件
- IR 対処すべき課題・事業等のリスク
- 公式 新千歳工場のご案内
- IR 2026年6月期 決算短信〔日本基準〕（連結） 2026年6月期
- IR 2026年6月期 決算説明資料 2026年6月期
- IR 2026年6月期 有価証券報告書 2026年6月期
- IR 中期経営計画の見直しに関するお知らせ 2026年6月期
- 採用 新卒採用サイト
- 採用 採用情報・インターンシップ情報
- 採用 職種紹介
- 採用 職場環境
- 採用 企業紹介
- 公式 ＪＸ金属 半導体用スパッタリングターゲット
- 公式 ＪＸ金属 AlScスパッタリングターゲット
- 公式 TANAKA Sputtering Target Production Using Melting Methods
- 公式 チノー 温度センサ