PGILD（投影型ガス浸漬レーザードーピング）｜前工程 › 酸化・拡散 › 拡散

PGILD（投影型ガス浸漬レーザードーピング）は、ウェーハ表面にドーパントを含むガスを流しながらエキシマレーザーを照射し、ガスを光で分解すると同時に照射部の表層を溶かして不純物を取り込ませるドーピング方法である。レーザーの当たった部分だけを溶かすので、浅い領域を局所的にドーピングできる。イオンを加速して打ち込むイオン注入とは、不純物の供給と熱の与え方が異なり、結果は照射の均一性と表面の状態に強く左右される。