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気相ドーピング(RTVD/RVD)|前工程 › 酸化・拡散 › 拡散

気相ドーピング(RTVD/RVD)は、ウェーハをドーパントガスに一定時間さらした後でガスを止め、表面に吸着した分子を拡散源にして急速熱処理(RTP)で不純物を内部へ入れる工程である。吸着量が少ないぶん供給量が限られ、低ドーズの浅い接合を作るのに向く。ガスで原料を届けるので、広い面や立体構造にもドーパントを行き渡らせられる。ただし熱で分布が広がるため、浅さと必要な濃度の両立が課題になる。

工程の分類›前工程›酸化・拡散›拡散› 気相ドーピング(RTVD/RVD)

拡散の下にある工程で、同じ分類にはほかに2工程がある。

PGILD(投影型ガス浸漬レーザードーピング)、SPD(固相拡散)