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SPD(固相拡散)|前工程 › 酸化・拡散 › 拡散

SPD(固相拡散)は、不純物を入れたい領域の上に不純物を含む固体の層を置き、その層を拡散源として熱で下のシリコンへ不純物を広げる方法である。ポリシリコン層にイオン注入して拡散源にする方式では、イオンは上の層の中で止まるため、シリコンを直接打たずに注入による結晶の損傷を避けて浅い接合を作れる。この方式では拡散源に入れる不純物の量をイオン注入で決め、シリコン中の深さは熱処理の温度と時間で決まる。

工程の分類›前工程›酸化・拡散›拡散› SPD(固相拡散)

拡散の下にある工程で、同じ分類にはほかに2工程がある。

PGILD(投影型ガス浸漬レーザードーピング)、気相ドーピング(RTVD/RVD)