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Tier S 露光 / パターニング / 配線 / 量産

ALD/ALE 2027AVS International Conference on Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching Workshop

今の状態

現在
投稿受付の開始前
段階
  1. 投稿受付前
  2. 投稿受付中
  3. 投稿終了
  4. 採否通知
  5. プログラム公開
  6. 開催中
  7. 終了
次
11月17日投稿受付開始あと33日
次の一手
投稿の受付は11月17日に始まります。募集要項を開く
日程
  1. 投稿受付開始
  2. 要旨締切
  3. 採否通知
  4. 開催
  5. 最終原稿締切

近い学会との違い

  • AVSAplasma science、thin films、atomic scale processing、EUV lithography
  • SPIE EtchAetch、pattern transfer、ALE、plasma
  • ADMETA 2026Bmetallization、interconnect、BEOL、low-k
  • ICPTBCMP slurry、post-CMP cleaning、FEOL CMP、BEOL CMP
  • SSDMAsolid-state device、materials、new functional devices、special topic sessions

どんな学会？

AVSが2001年から米国・欧州・アジアを交互に巡って開く、原子層堆積（ALD）と原子層エッチング（ALE）の中核会議。装置企業と大学がプログラムを共同で組む。

位置づけ
Tier S 特定大分野の世界旗艦級 Tierの基準
向いている人
リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。この分野の主要な成果が毎回発表される会議です。
主なテーマ
  • selective processing
  • atomic layer cleaning
  • metrology
  • AI for manufacturing
発表者の所属
2026年 プログラムの筆頭著者の所属（198件） 主な企業：Oxford Instruments、EMD Electronics、TANAKA Precious Metal Technologies、Applied Materials、Forge Nano
投稿形式
要旨・査読/投稿審査あり
開始年
2001年
公式情報の目次14項目

会期・会場

2027年はDresden開催で、会場と宿泊が同一施設（Maritim Hotel & International Congress Center Dresden）に置かれています。日程は日曜がtutorialとwelcome reception、月曜から水曜が本会議とtradeshowという構成で、渡航日程を組むときは日曜午前から水曜夕方までを押さえる前提になります。

詳しく（公式資料8項目）
2027 会期
Sunday, June 20 – Wednesday, June 23, 2027 ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
2027 開催都市・国
Dresden, Germany ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
2027 会場
Maritim Hotel & International Congress Center Dresden（Devrientstraße 10-12, 01067 Dresden） エルベ川沿い、旧市街に近いと記載。 ALD/ALE 2027 Housing & Travel
2027 開催形式（日程構成）
「As in past conferences, the meeting will be preceded (Sunday, June 20) by one day of tutorials and perspectives and a welcome reception. Sessions will take place (Monday-Wednesday, June 21-23) along with an industry tradeshow.」 現地開催の日程構成として記載。 ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
2027 宿泊料金と予約期限
Single Classic/Superior 165€、Double Classic/Superior 191€、Single Suite 199€、Double Suite 225€。Hotel reservations deadline: May 7, 2027 朝食とプール利用を含む会議レートとして掲載。 ALD/ALE 2027 Housing & Travel
2027 空港アクセス
「Dresden Airport is located in Klotzsche, a district of Dresden 9 km north of the city centre.」。代替としてBerlin, Prague, Frankfurt, Munichからの鉄道接続が案内されている ALD/ALE 2027 Housing & Travel
2026 会期・会場
Sunday, June 28 – Wednesday, July 1, 2026、JW Marriott Water Street, Tampa, Florida 地域ローテーションの直近実績として参照できる。 ALD/ALE 2026 公式トップ（前サイクル）
2026 想定参加者数
「Anticipated attendance is 700+.」 ALD/ALE 2026 公式トップ（前サイクル）

投稿・締切

投稿は本文2,700文字以内の要旨に、任意で図表用の1ページPDFを添える形式です。1人あたりoral 1件・poster 1件までで、しかも同一要旨の使い回しは認められていません。

詳しく（公式資料8項目）

2027年サイクルは2026年11月17日に受付開始、2027年2月4日締切、3月16日通知という日程が既に公表されています。

2027 投稿受付開始
Submission Opens: November 17, 2026 ALD/ALE 2027 Abstract Submission
2027 要旨締切
Abstract Deadline: February 4, 2027 ALD/ALE 2027 Abstract Submission
2027 採否通知
Author Notifications: March 16, 2027 ALD/ALE 2027 Abstract Submission
2027 要旨の書式
「abstract 2,700 characters max. including grammar and spacing」。加えて「you may also submit a supplemental 1 page PDF file containing any graphs, charts or pictures」 文字数上限は空白・記号を含む。 ALD/ALE 2027 Abstract Submission
2027 発表本数の上限
「If you are planning to submit multiple abstracts, presenters are limited to one oral and one poster presentation. One submission must be to an oral session and one to a poster session. Must be two DIFFERENT abstracts – not the same abstract submitted as both an oral and a poster」 同一要旨をoralとposterの両方に出すことは認められていない。 ALD/ALE 2027 Abstract Submission
2027 著作権同意
投稿手順の第4ステップとして「Accept the copyright agreement.」が置かれ、copyright agreementのPDFが公式サイトに掲載されている ALD/ALE 2027 Abstract Submission
2027 その他の期日
Early Registration Deadline: May 7, 2027、Hotel Reservation Deadline: May 7, 2027、Manuscript Deadline: November 1, 2027 ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
2026 late news枠（参考）
Late news abstracts: April 9, 2026（2026年サイクル） ALD/ALE 2026 Abstract Submission（投稿トピック一覧）

査読・選考

公式サイトが明示しているのは「Author Notificationsという採否通知日が設定されていること」「ALD／ALEそれぞれにProgram Committeeが置かれていること」「JVST A投稿論文は通常のJVST論文と同じ基準で審査されること」の3点です。

詳しく（公式資料5項目）
2027 採否通知の存在
「Author Notifications: March 16, 2027」として採否通知日が設定されている 要旨締切（2月4日）から約6週間後。 ALD/ALE 2027 Abstract Submission
2027 JVST A論文の審査基準
「Papers will be reviewed using the same criteria as regular JVST articles and must meet JVST standards for both technical content and written English.」 会議要旨の審査とは別プロセス。 ALD/ALE 2027 Manuscripts
2027 JVST A論文の要件
「Present original findings, conclusions or analysis that have not been published previously」「Be free of errors and ambiguities」「Support conclusions with data and analysis」「Be written clearly」「Have high impact in its field」 ALD/ALE 2027 Manuscripts
2026 Program Committeeの規模
ALD Program Committeeに48名、ALE Program Committeeに30名が氏名・所属付きで掲載されている ALD/ALE 2026 Committee
2027 発表賞の選考プロセス
ALD Outstanding Presentation Awardは非学生・非early careerの発表者の要旨から5名のfinalistを選出し、最終受賞者はreview committeeが会議での発表に基づいて決定する 「invited speakers are not eligible」と明記されている。 ALD/ALE 2027 Awards

対象分野

対象は「原子層レベルで制御された薄膜堆積」と「原子層エッチング」で、ALD側は応用・基礎・量産・面選択性・新材料の5グループ、ALE側は単一グループの通し番号で区切られています。半導体プロセス担当が直接あたるのはAA3（ULSI FEOL/BEOL）、AA4（Memory）、AA6（3D Semiconductor Devices）、AS群（Area Selective ALD）、ALE群です。

主なトピック

  • Area Selective ALD（AS1–AS4）2026年サイクルの投稿トピック。Area-Activation、Area-Deactivation、Inherently Selective Processesの3系統に分けて投稿区分が設定されている。
  • Atomic Layer Etching（ALE1–ALE15）2026年サイクルの投稿トピック。plasma/thermal/wetの各方式に加え、Materials Selective ALE、ALD+ALE統合、Sustainabilityまでを区分している。
  • ULSI FEOL/BEOL Materials and Devices（AA3）2026年サイクルの投稿トピック。Memory Applications（AA4）、3D Semiconductor Devices（AA6）と並ぶ半導体応用の投稿区分。
  • Precursor Design and Development（AF1）2026年サイクルの投稿トピック。同年のtutorialでもADEKAの講演者が前駆体分子とALD/ASD/ALEプロセスの関係を扱っている。
  • Plasma Enhanced ALD（AF4）／Low Temperature ALD（AF6）2026年サイクルの投稿トピック。ALD Fundamentals: Growth and Characterizationグループ内の成膜手法別区分。
  • AI/ML・データ解析（AF2、AM3、ALE13）2026年サイクルの投稿トピック。ALD側はProcess Modeling: AI/ML/Ab Initio ModelingとProcess Analysis and Control、ALE側はProcess Data Analytics, Machine Learning, and AI。
  • Atomic Layer Cleaning（ALE7）2026年サイクルの投稿トピック。Surface Passivationと同一区分にまとめられている。
  • ALD for Manufacturing（AM1–AM4）2026年サイクルの投稿トピック。大型装置設計、プロセス制御、前駆体供給、Spatial/Fast ALD、Process Analysis and Controlを含む量産側の区分。
詳しく（公式資料6項目）

電池・触媒・バイオといった非半導体応用も同じ投稿トピック表に並んでいる。

2027 対象領域の公式文言
「will be dedicated to the science and technology of atomic layer controlled deposition of thin films and atomic layer etching」 ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
2026 ALD側トラック構成
ALD Applications（AA1–AA10）、ALD Fundamentals: Growth and Characterization（AF1–AF8）、ALD For Manufacturing（AM1–AM4）、Area Selective Atomic Layer Deposition（AS1–AS4）、Emerging Materials（EM1–EM9） 各グループの末尾番号はポスターセッション。 ALD/ALE 2026 Abstract Submission（投稿トピック一覧）
2026 ALE側トピック構成
ALE1 Plasma and/or Energy-Enhanced ALE / ALE2 Gas-phase and/or Thermal ALE / ALE3 Solution-based Including Wet ALE / ALE4 Materials Selective ALE, Including Area-Selective (Without Masks) / ALE5 ALE Hardware & Instrumentation / ALE6 Modeling of ALE / ALE7 Atomic Layer Cleaning (ALC) + Surface Passivation / ALE8 Integration of ALD + ALE, Also with Other Processing Methods / ALE9 Applications for ALE / ALE10 Alternative Methods to Achieve ALE or Quasi-ALE / ALE11 Metrology & Diagnostics in ALE / ALE12 Emerging Topics in ALE / ALE13 Process Data Analytics, Machine Learning, and AI for ALD and ALE Manufacturing / ALE14 Sustainability / ALE15 Atomic Layer Etching Poster Session ALD/ALE 2026 Abstract Submission（投稿トピック一覧）
2026 半導体デバイス直結のトピック
AA3: ULSI FEOL/BEOL Materials and Devices（High- and Low-k, Contact Metals, Ultrathin Interconnects and Diffusion Barriers）、AA4: Memory Applications（DRAM, RRAM, Flash, Neuromorphic, and More）、AA5: More than Moore Applications、AA6: 3D Semiconductor Devices ALD Applicationsグループ内の項目。 ALD/ALE 2026 Abstract Submission（投稿トピック一覧）
2026 面選択性（ASD）の扱い
AS1: Selective ALD by Area-Activation、AS2: Selective ALD by Area-Deactivation、AS3: Inherently Selective Processes、AS4: Area Selective ALD Poster Session Area Selective Atomic Layer Depositionが独立グループとして設定されている。 ALD/ALE 2026 Abstract Submission（投稿トピック一覧）
2026 AI/データ解析の位置づけ
AF2: Process Modeling: AI/ML/Ab Initio Modeling of Reaction Mechanisms and Precursors、AM3: Process Analysis and Control: Metrology, AI/ML for Manufacturing and Digital Twins、ALE13: Process Data Analytics, Machine Learning, and AI for ALD and ALE Manufacturing ALD側とALE側の双方に別トピックとして設定されている。 ALD/ALE 2026 Abstract Submission（投稿トピック一覧）

プログラム

構成を掴むには2026年サイクルのProgramページが実用的で、tutorialは6件、ALD invitedが12名、ALE invitedが6名という規模でした。発表時間は2027年のPresentation Guidelinesで既に確定しており、contributed 15分・invited 30分・plenary 45分（いずれもQ&A込み）です。

詳しく（公式資料7項目）
2027 発表時間
contributed presentations「15 minutes total, including the question and answer time」、invited「30 minutes total, including the question and answer time」、plenary「45 minutes total including the question and answer time」 スライドは16:9推奨、当日朝にUSBでマスターPCへアップロード。 ALD/ALE 2027 Presentation Guidelines
2027 ポスターセッションの時間帯
月曜 5:45–7:00 p.m.、火曜 5:45–7:00 p.m. 月曜分は当日10:00以降に掲示、火曜1:20 p.m.撤去。火曜分は当日15:00以降掲示、水曜1:20 p.m.撤去と記載。 ALD/ALE 2027 Presentation Guidelines
2026 tutorial（6件）
Atsushi Sakurai（ADEKA CORPORATION, Japan）「Connection between Precursor Molecules and ALD/ASD/ALE Processes」／W.M.M. (Erwin) Kessels（Eindhoven University of Technology, The Netherlands）「Current and Future Perspectives on Atomic Layer Deposition」／Thomas Tillocher（GREMI – Orleans University – CNRS, France）「Current and Future Perspectives on Atomic Layer Etching」／Han-Bo-Ram (Boram) Lee（Incheon National University, South Korea）「Current and Future Perspectives of Area-Selective Deposition」／Paul Poodt（SparkNano and Eindhoven University of Technology, The Netherlands）「Atomic Layer Deposition from Lab-to-Fab」／James Hilfiker（J. A. Woollam Co., Inc., USA）「Advances in Spectroscopic Ellipsometry for ALD and ALE Thin Film Characterization」 ALD/ALE 2026 Program
2026 ALD invited speakers（12名）
Nupur Bihari（Lam Research, USA）、Necmi Biyikli（University of Connecticut, USA）、Kyle Blakeney（Lam Research, USA）、Philipp Brüner（IONTOF Technologies GmbH, Germany）、Kazuhiro Harada（Kokusai Electric, Japan）、Kyooho Jung（Samsung, USA）、Titel Jurca（University of Central Florida, USA）、Tanja Kallio（Aalto University, Finland）、Jin-Seong Park（Hanyang University, South Korea）、Thomas Proslier（CEA Saclay, France）、Henrik Sønsteby（University of Oslo, Norway）、Ruud van Oomen（TU Delft, The Netherlands） 所在国は掲載された所属の所在地。 ALD/ALE 2026 Program
2026 ALE invited speakers（6名）
Andreas Fischer（Mattson, USA）、Woojin Jeon（Kyung Hee University, South Korea）、Neha Mahuli（Amazon AWS Pasadena, USA）、Dennis van Dorp（imec, Belgium）、Wendy Yan（IBM T.J. Watson Research Center, USA）、Geun Young Yeom（Sungkyunkwan University, South Korea） ALD/ALE 2026 Program
2027 併設イベント
「Sessions will take place (Monday-Wednesday, June 21-23) along with an industry tradeshow.」 産業向け展示が本会議と並行して行われる。 ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
2026 参加者向け付随プログラム
公式サイトのナビゲーションにCareer Center、Scavenger Hunt、Download Mobile App、View Technical Program & Scheduler、Technical Program（PDF）、Abstract Book（PDF）、View Tutorial Abstracts（PDF）、View Tutorial Notesが用意されている Tutorial NotesはTutorial Speakersの配下に置かれている。 ALD/ALE 2026 公式トップ（前サイクル）

発表と委員会の顔ぶれ

2026年 プログラムの筆頭著者の所属（198件）

プログラム

  • 企業19.7%
  • 大学49%
  • 研究機関16.2%

企業

  1. Oxford Instruments5
  2. EMD Electronics3
  3. TANAKA Precious Metal Technologies3
  4. Applied Materials2
  5. Forge Nano2
  6. Lam Research2
  7. Samsung Electronics2
  8. Schrodinger2
  9. ADEKA1
  10. Beneq1
ほか6社
  1. Chipmetrics Oy1
  2. Entegris1
  3. FUJIFILM Corporation1
  4. Incom Inc1
  5. Intel1
  6. IONTOF GmbH1

国・地域

  1. 米国43
  2. 韓国35
  3. オランダ19
  4. 日本17
  5. ベルギー14
  6. ドイツ11
  7. フィンランド9
  8. フランス9
  9. カナダ6
  10. 英国5
ほか9か国・地域
  1. チェコ4
  2. アイルランド3
  3. 中国3
  4. イスラエル2
  5. スイス2
  6. スウェーデン1
  7. デンマーク1
  8. ベトナム1
  9. 台湾1

2026年 委員会の所属（104名）

委員会名簿

  • 企業29.8%
  • 大学42.3%
  • 研究機関10.6%

企業

  1. Lam Research4
  2. Samsung Electronics4
  3. ASM3
  4. Oxford Instruments3
  5. Applied Materials2
  6. Beneq, Finland2
  7. Merck KGaA2
  8. TEL2
  9. ADEKA1
  10. Air Liquide1
ほか6社
  1. Black Semiconductor GmBH, Germany1
  2. Forge Nano1
  3. Hitachi High Technologies USA1
  4. Intel1
  5. Jiangsu Leadmicro Nano-Equipment Technology Ltd., China1
  6. SK hynix1

2026年 スポンサー・出展（69団体）

出展者一覧

企業67.5%

プラチナ
  • ADEKA
  • Angstrom Engineering
  • ASM
  • EMD Electronics
  • Entegris
  • Kurt J. Lesker Company
  • Lam Research
  • Oxford Instruments Plasma Technology
  • Tokyo Electron Limited
  • UPChem
  • Veeco Instruments
ゴールド
  • AlixLabs
ほか57団体
  • Beneq
  • EREZTECH
  • Exentec
  • Fujikin
  • HORIBA
  • Pegasus Chemicals
  • Schrodinger
  • Semilab
  • Swagelok
  • TMEIC
  • Epivalence
  • ProChem
  • Air Liquide
  • American Elements
  • Dockweiler Chemicals
  • Hitachi High-Tech
  • abcr GmbH
  • AlixLabs AB
  • Amuneal Mfg Corp
  • Annealsys / ECM Components
  • Anric Technologies, LLC
  • Ascensus Specialties LLC
  • Beneq Oy
  • Chipmetrics
  • CN1 Co.,LTD.
  • Dockweiler Chemicals GmbH
  • Epivalence Ltd
  • Film Sense
  • Fujikin Incorporated
  • HORIBA Instruments, Inc.
  • iCAM
  • IONTOF GmbH
  • ISAC Research Inc.
  • JA Woollam
  • JX Advanced Metals Corporation
  • KITZ SCT Corporation
  • KOJUNDO CHEMICAL LABORATORY CO., LTD.
  • Mass-Vac Inc.
  • Matlantis Corporation
  • Meaglow Ltd.
  • MSP – A Division of TSI
  • Nano-Master, Inc.
  • OkyayTechALD
  • Park Systems Inc.
  • Physical Electronics
  • ProChem, Inc.
  • RASIRC
  • Schrödinger
  • Semilab Trade LLC
  • SEMPA Systems GmbH
  • SENTECH Instruments GmbH
  • SK Trichem Co., Ltd.
  • Softward for Chemistry & Materials
  • SVCS Process Innovation
  • Swagelok Company
  • TMEIC Corp.
  • TOSOH CORPORATION

委員会・展示

委員会はProgram Chair／Co-Chair、International Advisory Committee、Steering Committee、そしてALD・ALEそれぞれのProgram Committeeという多層構造です。2026年のProgram Committee名簿は大学・国立研究所と、Lam Research・TEL・Intel・Samsung Electronics・SK hynix・ASM・Applied Materials・Oxford Instruments・Adeka Corporation・Air Liquideなどの企業が混在した構成でした。

詳しく（公式資料7項目）
2027 ALD Program Chair／Co-Chair
ALD Program Chair: Anjana Devi（Leibniz Institute, IFW Dresden, Germany）／Co-Chair: Jiyeon Kim（Lam Research, USA）／Co-Chair: Jonas Sundqvist（AlixLab, Sweden） ALD/ALE 2027 Committee
2027 ALE Program Chair／Co-Chair
ALE Program Chair: Rémi Dussart（Université d'Orléans, France）／Co-Chair: Dominik Metzler（Black Semiconductor GmBH, Germany） ALD/ALE 2027 Committee
2027 ALD International Advisory Committee（12名）
Annelies Delabie（IMEC, Belgium）、Anjana Devi（Leibniz Institute, IFW Dresden, Germany）、Jeffrey Elam（Argonne National Lab, USA）、Steven George（University of Colorado at Boulder, USA）、Cheol Seong Hwang（Seoul National University, South Korea）、Hyeongtag Jeon（Hanyang University, South Korea）、Erwin Kessels（Eindhoven University of Technology, The Netherlands）、Hyungjun Kim（Yonsei University, South Korea）、Sang In Lee（Synos Foundation, USA）、Markku Leskelä（University of Helsinki, Finland）、Gregory N. Parsons（North Carolina State University, USA）、Viljami Pore（ASM, Finland） ALD/ALE 2027 Committee
2027 Steering Committee
ALD Steering Committee: Steven George（University of Colorado at Boulder, USA）、Erwin Kessels（University of Eindhoven, The Netherlands）、Han-Bo-Ram (Boram) Lee（Incheon National University, South Korea）、Gregory N. Parsons（North Carolina State University, USA）／ALE Steering Committee: Heeyeop Chae（Sungkyunkwan University, South Korea）、Eric Joseph（IBM, USA）、Keren Kanarik（Lam Research, USA）、Harm Knoops（Oxford Instruments, UK）、Steve George（University of Colorado at Boulder, USA） ALD側4名、ALE側5名。 ALD/ALE 2027 Committee
2026 Program Committeeの産学構成
ALD Program Committee 48名の所属には大学・国立研究所に加え、Merck KGaA、TEL、Intel、Samsung Electronics、SK hynix、ASM、Lam Research、Applied Materials、Oxford Instruments、Adeka Corporation、Air Liquide、Veeco、Beneq、Forge Nano、SparkNanoなどの企業が含まれる スポンサー掲載とは別に、委員としての参加を示す。 ALD/ALE 2026 Committee
2026 委員の所属所在国
ALD Program Committeeの所属所在地としてUSA、South Korea、Belgium、Germany、China、The Netherlands、Japan、Finland、Sweden、UK、Ireland、France、Canada、Chile、Vietnamが記載されている ALD/ALE 2026 Committee
2026 スポンサー・出展社の掲載
Platinum（ADEKA、Angstrom Engineering、ASM、EMD Electronics、Entegris、Kurt J. Lesker Company、Lam Research、Oxford Instruments、Tokyo Electron、UPChem、Veeco Instruments）／Gold（AlixLabs、Beneq、EREZTECH、Exentec、Fujikin、HORIBA、Pegasus Chemicals、Schrödinger、Semilab、Swagelok、TMEIC）／Silver（Epivalence、ProChem）／Bronze（Air Liquide、American Elements、Dock Chemicals、Hitachi High-Tech）の4ティア。別枠のExhibitor Listに出展社名が並ぶ ALD/ALE 2026 Sponsors & Exhibitors

論文の公開

この会議には論文集としてのproceedingsが2層あります。1つは会議参加者向けのもので、口頭発表の音声録音とポスターのPDFで構成され、参加が必須と明記されています。

詳しく（公式資料8項目）

もう1つがJournal of Vacuum Science & Technology A（JVST A）の特集号で、2027年サイクルの原稿締切は2027年11月1日、掲載先は2028年のSpecial Topic Collectionです。IEEE Xploreに収録される形式ではない。

2027 論文の掲載先
Journal of Vacuum Science & Technology A（JVST A）の「2028 Special Topic Collection on Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching」 ALD/ALE 2027 Manuscripts
2027 原稿締切
Manuscript Deadline: November 1, 2027 会期（6月）から約4か月半後。 ALD/ALE 2027 Manuscripts
2027 特集号の投稿資格
会議発表分が大きな割合を占めることが想定されるとしつつ、「research articles on ALD and ALE but not presented at this conference are also welcome」と記載されている 会議で発表していない論文も特集号に投稿できる。 ALD/ALE 2027 Manuscripts
2027 会議proceedingsの構成
「All ALD/ALE oral presentations, including the question and answer period and any discussions, will be audio recorded and synchronized with your PowerPoint presentation file and compiled into conference proceedings accessible to all attendees after the meeting.」「The conference proceedings will also include PDF files of the poster presentations.」 ALD/ALE 2027 Abstract Submission
2027 proceedings参加の義務
「Participation in the conference proceedings is mandatory」 投稿者は会議proceedingsへの収録に同意する必要がある。 ALD/ALE 2027 Abstract Submission
2026 参加者への提供形態
「All presentations will be audio-recorded and provided to attendees following the conference (posters will be included as PDFs).」 ALD/ALE 2026 公式トップ（前サイクル）
2026 公開範囲（登録者向け）
参加登録に「Access to Presentations Post Conference in the AVS Technical Library」が含まれる 一般公開ではなく登録者向けの提供。 ALD/ALE 2026 Register（参加費）
2027 論文賞と公開期間
JVST A Best ALD and ALE Paper Awardは「Eligible papers will include at least one author who participated in the ALD Conference or ALE Workshop.」とされ、「winning papers will be made freely available for a period of two years」と記載されている 「Authors on the winning papers will share a $1,000 cash award per paper and each of them will be presented with a certificate.」と記載。 ALD/ALE 2027 Awards

沿革

公式サイトが歴史について明記しているのは「2001年以降、米国・欧州・アジアで交互に開催されてきた」という1文だけで、第1回の開催地や創設経緯を説明するページは置かれていません。回次の対応関係（2026年=第26回、2027年=第27回）と、直近の開催地（2026年Tampa、2027年Dresden）が公式に確認できます。

詳しく（公式資料8項目）

年次の節目を追う材料としては、2011年から2025年までの各年が並ぶALD Innovator Awardの受賞者一覧が有用です。

起点年の公式記述
「Since 2001, the ALD conference has been held alternately in the United States, Europe and Asia, allowing fruitful exchange of ideas, know-how and practices between scientists.」 「第1回が2001年」と明示する文ではなく、2001年を起点とした地域ローテーションの説明として書かれている。 ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
回次と年の対応（2027）
2027年 = ALD 27th／ALE 14th ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
回次と年の対応（2026）
2026年 = ALD 26th／ALE 13th ALD/ALE 2026 公式トップ（前サイクル）
直近の開催地（北米）
2026年: Tampa, Florida, USA（JW Marriott Water Street） ローテーションの北米回。 ALD/ALE 2026 公式トップ（前サイクル）
直近の開催地（欧州）
2027年: Dresden, Germany（Maritim Hotel & International Congress Center Dresden） ローテーションの欧州回。 ALD/ALE 2027 Housing & Travel
ALD Innovator Award 受賞者一覧（2011–2025）
2011: Roy Gordon／2012: Markku Leskela／2013: Steve George／2014: Hyeongtag Jeon／2015: Gregory Parsons／2016: Suvi Haukka／2017: Jeff Elam／2018: Hyungjun Kim／2019: W.M.M. (Erwin) Kessels／2020: Mikko Ritala／2021: Stacey F. Bent／2022: Cheol Seong Hwang／2023: Simon Elliott／2024: Annelies Delabie／2025: Christophe Detavernier 2011年から2025年まで各年の受賞者が列挙されている。 ALD/ALE 2026 Awards（過去受賞者一覧）
2026 各賞受賞者
ALD Innovator Awardee: Jin-Seong Park（Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul, Republic of Korea）／ALD Outstanding Presentation Award: Paul Ragogna（Western University, Canada）／ALD Young Investigator Award: Takashi Onaya（National Institute for Materials Science, Japan）／ALD Student Oral Presentation: Tippi Verhelle（Ghent University, Belgium）／ALE Student Oral Presentation: Erin Jacoski（University of Colorado Boulder, USA） ALD/ALE 2026 Awards（過去受賞者一覧）
ALEワークショップの併設形式
正式名称が「... International Conference on Atomic Layer Deposition ... featuring the ... International Atomic Layer Etching Workshop」という形をとり、ALEはALD会議に併設されるワークショップとして表記されている ALD側とALE側で回次が独立して数えられている。 ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）

近い学会との違い

この会議を他会議と比べるときに効く公式情報は4つあります。堆積（ALD）とエッチング（ALE）を1つのイベントで扱い、2026年の投稿トピック表には両者の統合（ALE8: Integration of ALD + ALE）が置かれていること、論文の掲載先がIEEE系ではなくJVST Aの2028 Special Topic Collectionであること、会議への投稿が2,700文字の要旨ベースでフルペーパーの提出を求めていないこと、そして半導体応用と非半導体応用が同じ投稿トピック表に並んでいることです。

詳しく（公式資料4項目）

以下の事実はいずれもALD/ALE自身のページに書かれた属性である。なお、併設のindustry tradeshowについては会期中に行われることが書かれているだけ。

堆積とエッチングの同居（2026 投稿トピック）
2026年の投稿トピック一覧はALD側（AA／AF／AM／AS／EM）とALE側（ALE1–ALE15）の双方を含み、ALE8: Integration of ALD + ALE, Also with Other Processing Methodsという統合トピックが設定されている 堆積専業・エッチング専業の会議との差分になる。 ALD/ALE 2026 Abstract Submission（投稿トピック一覧）
掲載先の系統（2027サイクル）
会議発表からの論文はJournal of Vacuum Science & Technology A（JVST A）の2028 Special Topic Collection on Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etchingに投稿する ALD/ALE 2027 Manuscripts
投稿の重さ（2027サイクル）
会議への投稿は2,700文字以内の要旨に任意の1ページPDFを添える形式である。 論文フルペーパー査読を前提とする会議との作業量の差。 ALD/ALE 2027 Abstract Submission
半導体と非半導体応用の併存（2026 投稿トピック）
2026年の投稿トピック表では、ULSI FEOL/BEOL（AA3）、Memory Applications（AA4）、3D Semiconductor Devices（AA6）と並んで、Energy Conversion: Catalysis, Fuel Cells and Solar Energy（AA1）、Batteries and Energy Storage（AA2）、Biological and Pharmaceutical Applications and Coatings（AA8）が同じ表に置かれている 半導体専門会議とは対象範囲の広さが異なる。 ALD/ALE 2026 Abstract Submission（投稿トピック一覧）

参加・活用

研究室にとっては、学生向け賞と若手賞の枠が明示されているのが実利です。ALD側にはDr. Tuomo Suntola Best Student Oral Presentation Award、ALE側には1位・2位の口頭発表賞があり、いずれも金額が公表されています。

詳しく（公式資料8項目）

企業側は、2026年サイクルの参加費の実績と、装置・材料メーカーが並ぶ協賛・出展の枠組みから出張稟議の材料を作れます。

2027 学生賞（ALD）
「ALD Student Finalists will receive a $500 award upon completing the competition.」とされ、Dr. Tuomo Suntola Best Student Oral Presentation Awardの受賞者は「$1,000 cash prize and a certificate」。ポスターは採択された学生ポスター要旨すべてが対象で、水曜のclosing remarksで複数賞を授与 ALD/ALE 2027 Awards
2027 学生賞（ALE）
口頭発表1位「$1,000.00 USD and a certificate」、2位「$500.00 USD and a certificate」。ポスターは水曜のclosing remarksで複数賞を授与 ALD/ALE 2027 Awards
2027 Young Investigator Award
ALD Conferenceで口頭発表し、博士号取得が過去10年以内（「If you received your PhD in 2017 or after」）の者が対象で、最大3名に授与される。賞金は「$1,000 cash prize and a certificate」。4月15日までに[email protected]へ所定事項をメールで連絡する必要がある。2027年の他のALD賞の受賞者は対象外 スポンサーはGO Elementと記載。投稿とは別に応募連絡が必要。 ALD/ALE 2027 Awards
2026 参加費（非会員）
Regular Non-Member: early $750.00 / late $850.00、Student Non-Member: early $650.00 / late $750.00 ALD/ALE 2026 Register（参加費）
2026 参加費（会員・部分参加）
Regular Platinum Member $700.00／Student Platinum Member $625.00／Tutorial $150.00／One Day $425.00／Exhibit Staff $675.00。Early Registration Deadline: May 1, 2026 ALD/ALE 2026 Register（参加費）
2026 登録に含まれるもの／キャンセル規定
「Access to Presentations Post Conference in the AVS Technical Library」「Access to the Mobile App and/or Online Scheduler」「Welcome Reception」「Daily Breaks」「Exhibit Hall Strolling Lunches」「Poster Receptions」を含む。学生は有効な学生証の提示が必要。キャンセルは2026年5月23日までの連絡で$150.00の手数料を差し引いて返金、「No refunds can be given for cancellations after May 23, 2026.」 ALD/ALE 2026 Register（参加費）
日本からの登壇実績（2026）
tutorialにAtsushi Sakurai（ADEKA CORPORATION, Japan）、ALD invited speakerにKazuhiro Harada（Kokusai Electric, Japan）が掲載されている ALD/ALE 2026 Program
日本からの受賞実績（2026）
ALD Young Investigator Award: Takashi Onaya（National Institute for Materials Science, Japan） ALD/ALE 2026 Awards（過去受賞者一覧）

名称・主催

詳しく（公式資料6項目）
2027 正式名称
AVS 27th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2027) featuring the 14th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2027) ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
2027 回次
ALDは27th（第27回）、ALEは14th（第14回） ALDとALEで回次が異なる。 ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
2026 回次
AVS 26th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2026) featuring the 13th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2026) ALD/ALE 2026 公式トップ（前サイクル）
主催表記
正式名称の冒頭に「AVS」が冠され、公式サイトはavs.orgのサブドメイン（ald2027.avs.org）に置かれている ページ内のロゴリンク先もhttps://www.avs.org。 ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）
2027 運営窓口
Della Miller, Event Manager, AVS（[email protected] / (530) 896-0477） ALD/ALE 2027 Abstract Submission
開催頻度の明記
公式トップページ本文に「毎年開催」等の頻度の明示はなく、「Since 2001, the ALD conference has been held alternately in the United States, Europe and Asia」という地域ローテーションの記述のみが置かれている ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates）

よくある質問

ALD/ALEはいつ、どこで開催されますか。

2027年サイクルは2027年6月20日（日）から6月23日（水）まで、ドイツ・DresdenのMaritim Hotel & International Congress Center Dresden（Devrientstraße 10-12, 01067 Dresden）で開催されます。日曜がtutorialとwelcome reception、月曜から水曜が本会議とindustry tradeshowという構成です。直前の2026年サイクルは6月28日から7月1日まで、米国Tampa（JW Marriott Water Street）で開催されました。

投稿締切はいつですか。late newsの枠はありますか。

2027年サイクルは2026年11月17日に投稿受付を開始し、要旨締切は2027年2月4日、採否通知は2027年3月16日です。原稿（JVST A）締切は2027年11月1日です。2026年サイクルでは2026年4月9日がlate news締切でしたが、この日付を2027年に当てはめることはできません。

査読はありますか。どういう審査ですか。

会議の要旨については、Author Notifications（2027年は3月16日）という採否通知日が設定されており、ALD・ALEそれぞれにProgram Committeeが置かれています（2026年サイクルではALD 48名、ALE 30名）。JVST A特集号に投稿する論文は「Papers will be reviewed using the same criteria as regular JVST articles and must meet JVST standards for both technical content and written English.」と明記されています。

採択率は公表されていますか。

参加規模について公式が示している数値は、2026年サイクルの「Anticipated attendance is 700+.」という見込み値だけです。

どういう人・組織が発表する会議ですか。

2026年サイクルのProgram Committee名簿には、大学・国立研究所に加えてLam Research、TEL、Intel、Samsung Electronics、SK hynix、ASM、Applied Materials、Oxford Instruments、Adeka Corporation、Air Liquideなどの企業所属者が並びます。invited speakerもLam Research、Samsung、Kokusai Electric、IONTOF、imec、IBM、Mattsonといった企業と、大学・国研が混在しています。ここでの企業名は委員名簿・講演者名簿に印字された所属であり、所在国も所属機関の所在地です。

発表内容はどこに掲載されますか。IEEE Xploreに載りますか。

会議proceedingsは、口頭発表の音声録音（PowerPointと同期）とポスター発表のPDFで構成され、参加登録者はAVS Technical Libraryから会議後にアクセスできます。論文としてはJournal of Vacuum Science & Technology A（JVST A）の「2028 Special Topic Collection on Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching」に投稿する形で、2027年サイクルの原稿締切は2027年11月1日です。会議で発表していないALD/ALE研究論文も特集号に投稿できると明記されています。

参加費はいくらですか。

2026年サイクルの実績はRegular Non-Memberがearly $750.00 / late $850.00、Student Non-Memberがearly $650.00 / late $750.00、Regular Platinum Memberが$700.00、Student Platinum Memberが$625.00、Tutorialが$150.00、One Dayが$425.00、Exhibit Staffが$675.00でした。キャンセルは2026年5月23日までの連絡で$150.00を差し引いて返金、それ以降は返金なしと記載されていました。

日本から参加・投稿する意味はありますか。学生向けの枠はありますか。

2026年サイクルではADEKA CORPORATION（Japan）がtutorialを、Kokusai Electric（Japan）がALD invited speakerを務め、ALD Young Investigator AwardはNational Institute for Materials Science（Japan）の受賞者が選ばれています。学生については、ALD側にDr. Tuomo Suntola Best Student Oral Presentation Award（$1,000、finalistは$500）、ALE側に口頭発表1位$1,000・2位$500の賞があり、ポスターにも水曜のclosing remarksで授与される複数の賞枠があります。投稿は2,700文字以内の要旨＋任意の1ページPDFという形式で、1人あたりoral 1件・poster 1件（別内容）までです。

公式資料

  1. ALD/ALE 2027 公式トップ（Overview / Important Dates） 公式サイト
  2. ALD/ALE 2027 Abstract Submission 募集要項
  3. ALD/ALE 2027 Committee 委員会
  4. ALD/ALE 2027 Manuscripts 論文集
  5. ALD/ALE 2027 Program プログラム
  6. ALD/ALE 2027 Awards 公式サイト
  7. ALD/ALE 2027 Housing & Travel 会場
  8. ALD/ALE 2027 Presentation Guidelines プログラム
ほか8件
  1. ALD/ALE 2026 公式トップ（前サイクル） 過去回
  2. ALD/ALE 2026 Program プログラム
  3. ALD/ALE 2026 Abstract Submission（投稿トピック一覧） 募集要項
  4. ALD/ALE 2026 Committee 委員会
  5. ALD/ALE 2026 Awards（過去受賞者一覧） 沿革
  6. ALD/ALE 2026 Register（参加費） 参加登録
  7. ALD/ALE 2026 Sponsors & Exhibitors スポンサー・展示
  8. ALD/ALE 2025 公式サイト（参照不可） 過去回