SemiMapサイト内検索

Tier A 露光 / パターニング / 配線 / 量産

SPIE Etch 2027SPIE Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning

今の状態

現在
投稿受付終了・採否通知待ち
段階
  1. 投稿受付前
  2. 投稿受付中
  3. 投稿終了
  4. 採否通知
  5. プログラム公開
  6. 開催中
  7. 終了
次
11月16日採否通知あと32日
次の一手
採否は11月16日に通知される予定です。公式サイト
日程
  1. 要旨締切
  2. 採否通知
  3. 最終原稿締切
  4. 開催

近い学会との違い

  • SPIE ALPSHigh-NA EUV、mask、resist、metrology
  • SPIE MaterialsAresist、underlayer、dry resist、stochastic defect
  • SPIE MetrologyAmetrology、inspection、process control、defect review
  • ALD/ALESselective processing、atomic layer cleaning、metrology、AI for manufacturing
  • PLASMA2017BPlasma science and engineering, plasma processing, fusion plasma, discharge ph…

どんな学会？

SPIE Advanced Lithography + Patterningを構成する6会議の一つで、ナノパターニング向けの先端エッチングとプロセスインテグレーションを主題とする。露光に続く加工工程の研究が集まる。

位置づけ
Tier A サブ分野トップ級・地域主要国際会議 Tierの基準
向いている人
リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。テーマが合う研究の有力な発表先です。
主なテーマ
  • etch
  • pattern transfer
  • ALE
  • plasma
  • process integration
  • profile control
発表者の所属
2026年 プログラムの筆頭著者の所属（46件） 企業50%大学28%研究機関22% 主な企業：Lam Research、AlixLabs、Applied Materials、Tokyo Electron、Air Liquide
投稿形式
要旨・査読/投稿審査あり
公式情報の目次14項目

会期・会場

2027年は SPIE Advanced Lithography + Patterning の一部として2月21〜25日に San Jose（California, US）で開かれます。米国外からの渡航者には招へい状の早期申請が案内されています。

詳しく（公式資料4項目）

参加登録は2026年11月に始まります。

2027 会期
2027-02-21〜25 / San Jose, California, US SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 の会期 Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 参加登録の開始
2026年11月 Abstract Submission Guidelines
2027 海外からの参加
米国外からの渡航者に招へい状の早期申請を案内 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
2027 CFP
募集中・締切 9月9日 Advanced Lithography + Patterning Conferences

投稿・締切

アブストラクト締切は2026年9月9日、著者通知は11月16日、原稿締切は2027年2月3日です。extended abstract PDF はこの conference では任意です。

詳しく（公式資料7項目）

シンポジウム共通の日程では、原稿・ポスターPDFの受付が2026年12月21日に始まり、ポスターPDFは2027年1月27日、口頭発表スライドの事前アップロードは2月19日が締切です。

2027 締切一覧
アブストラクト 2026-09-09 / 著者通知 2026-11-16 / 原稿 2027-02-03 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 extended abstract
任意提出（投稿手順 step 7、2ページ以内） Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 技術審査用アブストラクト
200〜300 words（テキストのみ） Abstract Submission Guidelines
2027 プログラム掲載用要約
50〜150 words（テキストのみ） Abstract Submission Guidelines
2027 原稿・ポスターPDFの受付開始
2026-12-21 Abstract Submission Guidelines
2027 ポスターPDF締切
2027-01-27 Abstract Submission Guidelines
2027 口頭発表スライドの事前アップロード締切
2027-02-19 Abstract Submission Guidelines

査読・選考

投稿は conference の chair と committee が審査し、technical merit と内容の適合性で評価します。commercial papers や新規の研究開発内容がない論文は発表に採択されません。

詳しく（公式資料5項目）

口頭とポスターの振り分けは chair が決めます。

2027 審査主体
conference chairs/committee による審査と承認 Abstract Submission Guidelines
2027 審査観点
technical merit と suitability of content Abstract Submission Guidelines
2027 不採択となる投稿
commercial papers、新規の研究開発内容がない論文、proprietary restrictions のある論文 Abstract Submission Guidelines
2027 口頭・ポスターの振り分け
chair の裁量で決定 Abstract Submission Guidelines
2027 extended abstract の扱い
審査目的のみに使用し、公開しない Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

対象分野

原著論文と overview 論文の両方が募集されています。公式ページは、HBM と先端 DRAM の急速な拡大が新しいパターニング・統合課題を生んでいると説明しています。

主なトピック

  • Novel Patterning processesion beam・angled・collimated の方向性プラズマエッチ、ALE、選択成長
  • Emerging Heterogeneous/3D Integration/Advanced PackagingTSV エッチ、プラズマ処理を伴うハイブリッド接合、裏面電源供給
  • Sustainable Patterning低 GWP エッチガス、省エネのプラズマプロセス、除害装置
詳しく（公式資料5項目）

募集トピックには、ion beam・angled・collimated の方向性プラズマエッチ、ALE、選択成長、TSV エッチ、プラズマ処理を伴うハイブリッド接合、裏面電源供給、低 GWP エッチガス・省エネのプラズマプロセス・除害装置などの持続可能なパターニングが挙がっています。

2027 募集論文の種類
原著論文と overview 論文 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 背景（公式の説明）
HBM と先端 DRAM の拡大が新しいパターニング・統合課題を生んでいる Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 方向性エッチと ALE
ion beam・angled・collimated の方向性エッチ、ALE、選択成長 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 3D 集積
TSV エッチ、プラズマ処理を伴うハイブリッド接合、裏面電源供給 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 持続可能なパターニング
低 GWP エッチガス、省エネのプラズマプロセス、除害装置 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

プログラム

シンポジウム全体の application tracks として、AI / ML、sustainability、stochastics、advanced packaging、EPE/overlay が挙がっています。展示の出展分野の例には、フォトレジストや EUV などの specialty materials、E-beam lithography systems があります。

詳しく（公式資料6項目）

ポスターは1人あたり1セッションで2件までです。2027年のセッションとして、Advanced Materials and Etch Patterning Integration、Computational Patterning and Process Control、EUV Patterning and Etch、Emerging Heterogeneous/3D Integration/Advanced Packaging、Etch/Integration for AI Data Centers, Optical Interconnects, and Metasurfaces、Sustainable Patterning が挙がっています。

学生論文賞の Best Student Paper Award は Meta がスポンサーで、学生の投稿はすべて自動で選考対象になります。

2027 application tracks
AI / ML、sustainability、stochastics、advanced packaging、EPE/overlay Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 展示の出展分野（例）
Photoresist・EUV 等の specialty materials、E-beam lithography systems SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
2027 ポスター発表の上限
1人あたり1セッションで2件まで Abstract Submission Guidelines
2027 セッション（前半）
Advanced Materials and Etch Patterning Integration / Computational Patterning and Process Control / EUV Patterning and Etch Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 セッション（後半）
Emerging Heterogeneous/3D Integration/Advanced Packaging / Etch/Integration for AI Data Centers, Optical Interconnects, and Metasurfaces / Sustainable Patterning Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
学生論文賞
Best Student Paper Award（Meta が賞のスポンサー、学生投稿は自動で選考対象） Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

発表と委員会の顔ぶれ

2026年 プログラムの筆頭著者の所属（46件）

プログラム

  • 企業50%
  • 大学28.3%
  • 研究機関21.7%

企業

  1. Lam Research5
  2. AlixLabs2
  3. Applied Materials2
  4. Tokyo Electron2
  5. Air Liquide1
  6. Applied Angstrom Technology1
  7. Canon1
  8. Edwards Vacuum1
  9. Hitachi1
  10. HOYA1
ほか6社
  1. IBM1
  2. KLA1
  3. SAMSUNG1
  4. Samsung Electronics1
  5. SandBox Semiconductor1
  6. SCREEN Semiconductor Solutions1

国・地域

  1. 米国15
  2. ベルギー8
  3. 韓国8
  4. 日本4
  5. スウェーデン2
  6. フランス2
  7. インド1
  8. オーストリア1
  9. オランダ1
  10. ギリシャ1
ほか3か国・地域
  1. シンガポール1
  2. ドイツ1
  3. 中国1

2026年 座長の所属（18件）

プログラム

  • 企業61.1%
  • 研究機関38.9%

企業

  1. Canon3
  2. Lam Research2
  3. Hitachi High-Tech1
  4. IBM1
  5. Intel1
  6. Samsung Electronics1
  7. Synopsys1
  8. Tokyo Electron1

スポンサー・出展（7団体）

スポンサー一覧

企業71.4%

  • Applied Materials, Inc.
  • EMD Electronics
  • Pozzetta, Inc.
  • Qnity Electronics, Inc.
  • Synopsys, Inc.
  • optics.org
  • Semiconductor Digest

委員会・展示

2027年の Conference Chair は imec の Efrain Altamirano-Sánchez、Co-Chair は Lam Research の John Hoang です。Program Committee には TEL Technology Ctr., America の Eric Liu、Hitachi High-Tech America の Jake O'Gorman、Sungkyunkwan Univ. の Heeyeop Chae、Air Liquide Electronics の Phong Nguyen らが載っています。

詳しく（公式資料8項目）
2027 Conference Chair
Efrain Altamirano-Sánchez（imec, Belgium） Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Conference Co-Chair
John Hoang（Lam Research Corp., United States） Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Program Committee（装置メーカーの例）
Eric Liu（TEL Technology Ctr., America, LLC） Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Program Committee（装置メーカーの例）
Jake O'Gorman（Hitachi High-Tech America, Inc.） Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Program Committee（大学の例）
Heeyeop Chae（Sungkyunkwan Univ., Korea） Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Program Committee（ガスメーカーの例）
Phong Nguyen（Air Liquide Electronics） Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Symposium Chair
John Robinson（Canon Nanotechnologies, Inc., United States） Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 Symposium Co-chair
Eric Panning（GenChip, United States） Advanced Lithography + Patterning Conferences

論文の公開

発表と原稿は SPIE Digital Library の Conference Proceedings に掲載され、正式公開は会期後です。著者は著作権を保持し、論文は Ei Compendex、Inspec、Scopus、Web of Science などに索引されます。

詳しく（公式資料6項目）

参加登録には SPIE Digital Library の50件分のダウンロードが含まれます。

2027 proceedings 掲載先
SPIE Digital Library の Conference Proceedings Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 公開時期
原稿・発表・ポスターは会期後に正式公開 Abstract Submission Guidelines
2027 索引データベース
ADS、Ei Compendex、CrossRef、Google Scholar、Inspec、Scopus、Web of Science Abstract Submission Guidelines
2027 著作権
著者が保持（SPIE には出版ライセンスを付与） Abstract Submission Guidelines
2027 口頭発表の収録
会場での発表（スライドと音声）を記録し proceedings に掲載 Abstract Submission Guidelines
2027 参加登録の特典
SPIE Digital Library の 50 件ダウンロード Advanced Lithography + Patterning Conferences

沿革

2027年版の巻次は XVI です。学生論文賞は前年から継続して実施されます。

詳しく（公式資料1項目）
2027 学生論文賞の継続
前年から継続 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

近い学会との違い

SPIE Advanced Lithography + Patterning は6つの conference で構成されています。Optical and EUV Nanolithography、DTCO and Computational Patterning、Metrology, Inspection, and Process Control、Novel Patterning Technologies、Advances in Patterning Materials and Processes、Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning があり、投稿者はアブストラクトの内容にもっとも近い conference を1つ選びます。

詳しく（公式資料3項目）
2027 シンポジウム内の conference（前半）
Optical and EUV Nanolithography / DTCO and Computational Patterning / Metrology, Inspection, and Process Control Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 シンポジウム内の conference（後半）
Novel Patterning Technologies / Advances in Patterning Materials and Processes / Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 投稿先の選び方
もっとも近い conference を1つ選んで投稿 Abstract Submission Guidelines

参加・活用

学生が無料で参加する方法、Student Grant（2026年11月29日締切）、旅費助成と Nick Cobb Memorial Scholarship が案内されています。18歳未満の学生著者は、認定教育機関に所属していることが条件です。

詳しく（公式資料5項目）

過去年の proceedings は SPIE Digital Library で閲覧できます。

2027 学生の参加
学生が無料で参加する方法を案内 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
2027 Student Grant 申請締切
2026-11-29 Abstract Submission Guidelines
2027 18歳未満の学生著者
認定教育機関への所属が条件 Abstract Submission Guidelines
過去の proceedings
SPIE Digital Library で過去年の proceedings を閲覧可能 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
学生向け支援
旅費助成と Nick Cobb Memorial Scholarship への応募を案内 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

名称・主催

詳しく（公式資料3項目）
2027 正式名称
Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 conference 番号
AL106 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 シンポジウム
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）

よくある質問

Advanced Etch Technology はどの会議の一部ですか？

SPIE Advanced Lithography + Patterning を構成する conference で、2027年版は Conference AL106 です。2027年のシンポジウムは2月21〜25日に San Jose で開かれます。

2027年はどんなセッションがありますか？

Advanced Materials and Etch Patterning Integration、Computational Patterning and Process Control、EUV Patterning and Etch、Emerging Heterogeneous/3D Integration/Advanced Packaging、Etch/Integration for AI Data Centers, Optical Interconnects, and Metasurfaces、Sustainable Patterning などが挙がっています。

レビュー論文も投稿できますか？

原著論文と overview 論文の両方を募集しています。

学生向けの賞はありますか？

Best Student Paper Award があり、学生の投稿はすべて自動で選考対象になります。賞のスポンサーは Meta です。

論文はどこで読めますか？

発表と原稿は SPIE Digital Library の Conference Proceedings に掲載され、会期後に正式公開されます。過去年の proceedings も SPIE Digital Library で読めます。

公式資料

  1. Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees） 募集要項
  2. Advanced Lithography + Patterning Conferences プログラム
  3. SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ） 公式サイト
  4. Abstract Submission Guidelines 募集要項
  5. 公式ページ（spiecareercenter.org）