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Tier S 露光 / パターニング / 配線 / 量産

SPIE ALP 2027SPIE Advanced Lithography + Patterning

今の状態

現在
投稿受付終了・採否通知待ち
段階
  1. 投稿受付前
  2. 投稿受付中
  3. 投稿終了
  4. 採否通知
  5. プログラム公開
  6. 開催中
  7. 終了
次
11月16日採否通知あと32日
次の一手
採否は11月16日に通知される予定です。公式サイト
日程
  1. 要旨締切
  2. 採否通知
  3. 最終原稿締切
  4. 開催

近い学会との違い

どんな学会？

SPIEが50年続ける半導体パターニングの旗艦イベント。光・EUV露光、計算パターニング、計測・検査、材料、エッチングなど6会議を5日間で開く。

位置づけ
Tier S 特定大分野の世界旗艦級 Tierの基準
向いている人
リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。この分野の主要な成果が毎回発表される会議です。
主なテーマ
  • High-NA EUV
  • mask
  • resist
  • metrology
  • advanced patterning
発表者の所属
2026年 プログラムの筆頭著者の所属（560件） 企業58%大学19%研究機関14%学会・団体10% 主な企業：Samsung Electronics、Tokyo Electron、Applied Materials、IBM、ASML
投稿形式
要旨＋論文・査読/投稿審査あり
公式情報の目次14項目

会期・会場

2027 サイクルは 2 月 21〜25 日の 5 日間で、都市は San Jose, California, US です。展示会場として San Jose McEnery Convention Center の住所が公式に示されており、展示は 2 月 23〜24 日の 2 日間です。

詳しく（公式資料6項目）
2027 会期
21 - 25 February 2027 SPIE Advanced Lithography + Patterning(イベントトップ)
2027 開催地
San Jose, California, US 同ヘッダー表記。 SPIE Advanced Lithography + Patterning(イベントトップ)
2027 展示会場
San Jose McEnery Convention Center, 150 W San Carlos Street, San Jose, California 95113 Advanced Lithography + Patterning Exhibition
2027 展示日程
Tuesday, 23 February 2027 10:00 AM - 5:00 PM / Wednesday, 24 February 2027 10:00 AM - 4:00 PM Advanced Lithography + Patterning Exhibition
2027 登録開始
"2027 registration will open in November" Registration for SPIE Advanced Lithography + Patterning
2026 サイクルの開催地
San Jose("Photo highlights from the 2026 event in San Jose") SPIE Advanced Lithography + Patterning Highlights

投稿・締切

投稿は abstract ベースで、審査用 abstract(200〜300 words)、プログラム掲載用サマリ(50〜150 words)、講演者略歴(1000 文字以内)、2 ページ以内の extended abstract PDF を揃えます。extended abstract は審査専用で公開されません。

詳しく（公式資料8項目）

採択後は manuscript の提出が義務で、AL102 では最低 2 ページと明記されています。締切は 2027 サイクルで abstract が 2026 年 9 月 9 日、manuscript が 2027 年 2 月 3 日です。

2027 abstract 締切
Abstracts due: 9 September 2026 Important dates 表。AL101・AL102・AL104・AL105 の各 conference detail ページにも同じ日付が表示されます。 Abstract Submission Guidelines
2027 採否通知
Authors notified and program posts online: 16 November 2026 同じ日にプログラムがオンライン公開されます。 Abstract Submission Guidelines
2027 manuscript / poster / slide 締切
Submission system opens for manuscripts and poster PDFs: 21 December 2026 / Poster PDFs due: 27 January 2027 / All manuscripts due: 3 February 2027 / Advance upload deadline for oral presentation slides: 19 February 2027 manuscript アップロードには contact author か speaker の登録が先に必要、slide は期限後は onsite の Speaker Check-In でのアップロードになると注記されています。 Abstract Submission Guidelines
投稿時の必要項目
Presentation title / Author(s) information / Speaker biography (1000-character max including spaces) / Abstract for technical review (200-300 words; text only) / Summary of abstract for display in the program (50-150 words; text only) / Extended abstract PDF (two pages maximum) / Keywords(任意) extended abstract には著者名と所属、本文、図表、審査に足るデータを含めることが求められます。 Abstract Submission Guidelines
extended abstract の扱い
"Extended abstracts will be used only for the purpose of review and will not be published." abstract 投稿ウィザードの step 7 で提出します。 DTCO and Computational Patterning VI: 25th Anniversary Conference, Conference Details(AL102)
投稿先の選び方
"Choose one conference that most closely matches your abstract topic. You may submit more than one abstract, but submit each only once" 同一 abstract の複数 conference への重複投稿は認められていません。 Abstract Submission Guidelines
manuscript の分量(AL102)
"Authors agree to the requirement of a manuscript submission, minimum 2-page, before the conference." AL102 の call for papers 本文。 DTCO and Computational Patterning VI: 25th Anniversary Conference, Conference Details(AL102)
締切後の投稿
"Submissions are subject to review and approval by conference chairs/committee and must be received by the deadline for priority placement. Some conferences may consider post-deadline abstracts." post-deadline を受け付けるかは conference ごとの判断で、個別ページを見るよう案内されています。 Abstract Submission Guidelines

査読・選考

審査は conference chair/editor による技術的妥当性と内容適合性の評価で、口頭かポスターかの最終配置も chair の裁量です。extended abstract には著者名と所属を含めることが求められている。

詳しく（公式資料5項目）
選考主体
"To ensure a high-quality conference, all submissions will be assessed by the conference chair/editor for technical merit and suitability of content" Abstract Submission Guidelines
口頭/ポスターの決定
"Final placement in an oral or poster session is subject to chair discretion" chair/editor と SPIE スタッフには内容不十分な論文を却下する権限があると明記。 Abstract Submission Guidelines
匿名審査の有無
extended abstract に "Include author names and affiliations" が要求されている。 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV, Conference Details(AL105)
発表後の掲載可否判断
"Conference chairs/editors or SPIE staff may require revision before approving publication and reserve the right to reject any manuscript or presentation that does not meet acceptable standards for a scientific publication" 採択=掲載確定ではなく、原稿段階で再度の判断が入ります。掲載可否の決定は最終(final)と明記。 Abstract Submission Guidelines
受賞審査の観点(AL105)
"Judging criteria include the technical originality, completeness, relevance, quality of oral presentation, and quality of proceedings manuscript." C. Grant Willson Best Paper Award の選考基準として記載。投稿審査そのものの基準ではありません。 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV, Conference Details(AL105)

対象分野

6 つの conference が縦軸、5 つの application track が横軸という二層構造です。abstract は 1 件につき 1 conference を選んで投稿し、該当すれば application track を併せて選択します。

主なトピック

  • High-NA / low-NA 露光系と光源AL101 の LITHOGRAPHY EQUIPMENT と SOURCES 区分に high NA・low NA 露光系、EUV・BEUV 光源が明記されています。
  • mask blank・pellicle・mask writingAL101 の MASKS 区分に absorber 材料、blank/patterned mask 検査、pellicle 開発、mask writing tool が列挙されています。
  • computational lithography(OPC / RET / ILT)AL102 の Computational Patterning 区分に OPC、RET、ILT、simulation-based verification が挙げられています。
  • DTCO / STCOAL102 は DTCO と STCO、3D integration、DFM/DFY を対象に含みます。
  • EUV / high-NA EUV 向けレジスト材料AL105 の Patterning Materials 区分に "Materials for EUV and high NA EUV lithography" が明記されています。
  • PFAS/PFOS フリー材料と sustainabilityAL105 に "Sustainable PFAS/PFOS free materials, roadmap for compliance with regulatory legislation" が、application track にも sustainability があります。
  • DSA / nanoimprint / selective depositionAL104 の Process-Based Lithography 区分に directed self-assembly、nanoimprint lithography、selective deposition が挙げられています。
  • stochastics(LER / LWR)application track の Stochastics は "Line Edge Roughness (LER), Line Width Roughness (LWR), photon and secondary electron stochastics, chemical and process nonuniformity" と定義されています。
ほか3件
  • EPE / overlayapplication track の EPE/Overlay は overlay、CD、Edge Placement Error の計測と根本原因解析、プロセス改善を対象としています。
  • advanced packaging 向けパターニングapplication track として advanced packaging が設定され、AL105 にも "Materials for packaging and SOC/SIP integration" が含まれます。
  • AR/VR 向けパターニングAL105 は AR/VR 応用向けのパターニングと光学制御材料を対象に含めると明記しています。
詳しく（公式資料8項目）

商業色の強い発表や新規性のない発表は明示的に対象外とされており、材料系の AL105 では化学構造の開示不足も不採択理由として明記されています。

2027 の 6 conference
Optical and EUV Nanolithography / DTCO and Computational Patterning / Metrology, Inspection, and Process Control / Novel Patterning Technologies / Advances in Patterning Materials and Processes / Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning Conferences ページの "Conference topics" 一覧。 Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 application tracks
AI / ML、sustainability、stochastics、advanced packaging、EPE/overlay の 5 つ "In the 2027 program, these topics will include AI / ML, sustainability, stochastics, advanced packaging, and EPE/overlay." と記載。conference 横断で発表を束ねる仕組みです。 Advanced Lithography + Patterning Conferences
application track の定義
"An application track is a grouping of presentations on a topic of interest across all conferences." 投稿時に該当すれば著者が選択する 各 track の定義文(AI/ML、Sustainability、Stochastics、Advanced Packaging、EPE/Overlay)も同ページに掲載。 Abstract Submission Guidelines
AL101 の対象範囲
LITHOGRAPHY EQUIPMENT / SOURCES / MASKS / PATTERNING の 4 区分。"covers EUV and Optical projection-based lithography systems, practices, and their applications in IC technology" high NA / low NA 露光系、EUV・BEUV 光源、mask blank と pellicle、SMO や stochastic control などが列挙されています。 Optical and EUV Nanolithography XL, Conference Details(AL101)
AL102 の対象範囲
Computational Patterning (EUV and DUV) / Deep Learning, Machine Learning, and AI Techniques / DTCO と STCO / DFM・DFY / Modeling, Simulation, and Computation OPC、RET、ILT、anamorphic high-NA EUV の stitching 影響、量子計算や TPU の応用まで含みます。 DTCO and Computational Patterning VI: 25th Anniversary Conference, Conference Details(AL102)
AL104 の対象範囲
"Direct Write or Maskless Lithography and Patterning Technologies"(電子・イオンビーム、resistless e-beam or ion beam direct patterning、direct deposition (inkjet, local-area ALD)、scanning probe lithography 等)と "Process Based Lithography and Patterning"(directed self-assembly、nanoimprint lithography、selective deposition、colloidal self-assembly 等)の 2 区分 MEMS/NEMS、metasurface、display、量子計算デバイスなど IC 以外の応用も対象に含まれます。 Novel Patterning Technologies 2027, Conference Details(AL104)
明示された対象外(全体)
"Commercial papers, papers with no new research/development content, and papers with proprietary restrictions will not be accepted for presentation." Abstract Submission Guidelines の "Only original material should be submitted" に続く注記。 Abstract Submission Guidelines
明示された対象外(AL105)
"Submissions which do not reveal sufficient chemical details to add value to the readers or are principally of a commercial nature may not be accepted for presentation and publication." AL105 は化学的・物理的原理と化学構造の記述を著者に求めています。 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV, Conference Details(AL105)

プログラム

本会議は 6 つの conference のセッションに加えて、plenary、panel、poster session、short course、展示で構成されます。short course の全容は 2026 年 11 月の登録開始時に出るとされています。

詳しく（公式資料7項目）

展示は 2 日間で、出展社リストは投稿前の段階から公開されています。

plenary と panel
"symposium plenary session(s) where executives, innovators and thought leaders will share grand challenges, major inflection points, industry trends and technology roadmaps" と "panel sessions" を実施 An Invitation to Participate in SPIE Advanced Lithography + Patterning
plenary の実施例(2023)
2023 年 2 月 28 日の Tuesday Morning Plenary(Convention Center, Ballroom 220A)では Vivek Singh(NVIDIA)"Accelerated computing for silicon leadership"、Bernard Kress(Google)"Pushing the limits of nano-imprint lithography for immersive displays" が登壇し、Introduction of New SPIE Fellows も行われました SPIE Advanced Lithography + Patterning Special Event: Tuesday Morning Plenary(2023)
short course
"SPIE will offer short courses at Advanced Lithography + Patterning." 対象トピックは optical and EUV lithography、patterning technologies、metrology、atomic layer etching、microlithography、photoresist processing など。"Full course program to come when registration opens in November 2026." 講師公募も行われており、"Proposals for Advanced Lithography + Patterning are due 1 September 2026." と記載。 Courses at Advanced Lithography + Patterning
2027 special events の公開状況
Special Events ページには plenary・panel・poster session・networking events の存在のみが記載されている。 Special Events at SPIE Advanced Lithography + Patterning
joint session と student session
conference 間の joint session が設けられる旨が Invitation に記載。2026 の Volume 13979 目次には "Student Session"、"Special Session: Future of EUV"、"Joint Session with 13979 and 13980" が含まれます セッション構成の実例は proceedings volume の目次で確認できます。 Proceedings Volume 13979: Optical and EUV Nanolithography XXXIX
AL105 の表彰
C. Grant Willson Best Paper Award in Patterning Materials and Processes(前年の最優秀口頭発表、$1,000 USD)、Jeffrey Byers Best Poster Award(前年の最優秀ポスター、$1000 USD)、Hiroshi Ito Student Award(前年の最優秀学生発表、$1,000 USD) いずれも SPIE Patterning Materials conference committee が候補推薦と選定を行うと記載。invited keynote は Willson Award の対象外。 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV, Conference Details(AL105)
表彰イベントの公開状況
Awards ページは "Set aside time to see the winners of several annual awards" と記すのみ。 SPIE Advanced Lithography + Patterning Awards

発表と委員会の顔ぶれ

2026年 プログラムの筆頭著者の所属（560件）

プログラム

  • 企業57.7%
  • 大学18.6%
  • 研究機関14.1%
  • 学会・団体9.6%

企業

  1. Samsung Electronics36
  2. Tokyo Electron19
  3. Applied Materials16
  4. IBM15
  5. ASML13
  6. KLA13
  7. Lam Research13
  8. Intel12
  9. Siemens EDA12
  10. Hitachi High-Tech10
ほか89社
  1. EMD Electronics7
  2. Entegris6
  3. Gigaphoton6
  4. Synopsys6
  5. DuPont Electronics5
  6. Micron Technology5
  7. Nanya Technology5
  8. SK hynix5
  9. Taiwan Semiconductor Manufacturing Company5
  10. FUJIFILM4
  11. Canon3
  12. EV Group3
  13. Hitachi3
  14. Nearfield Instruments B.V.3
  15. NVIDIA3
  16. Photo electron soul Inc.3
  17. Qnity Electronics3
  18. SCREEN Semiconductor Solutions3
  19. Texas Instruments3
  20. AMD2
  21. Bruker Technologies Ltd.2
  22. EUV Technology2
  23. Fractilia2
  24. GlobalFoundries2
  25. HOYA2
  26. Inpria2
  27. Micron Semiconductor Asia Pte Ltd2
  28. NuFlare Technology, Inc.2
  29. Tokyo Ohka Kogyo2
  30. Advanced Mask Technology Ctr. GmbH Co. KG1
  31. Air Liquide Electronics1
  32. AMAG nanometro1
  33. Applied Angstrom Technology1
  34. ASM1
  35. ASML Japan Co., Ltd.1
  36. Bienne Technology, Inc.1
  37. Brewer Science1
  38. Cadence Design Systems1
  39. Carl Zeiss SMT GmbH1
  40. Central Glass Co Ltd1
  41. Dai Nippon Printing1
  42. Dongfang Jingyuan Electron1
  43. Energetiq Technology1
  44. ESOL, Inc.1
  45. Eulitha1
  46. EUV Litho, Inc.1
  47. Gauss Labs Inc.1
  48. ICSPI Corp.1
  49. IMS Nanofabrication1
  50. Irresistible Materials1
  51. Kioxia1
  52. LINTEC Corp.1
  53. Lintec of America, Inc.1
  54. Macronix International Co. Ltd.1
  55. Mitsubishi Gas Chemical Co Inc1
  56. Mitsubishi Gas Chemical Company Inc1
  57. MOXTEK1
  58. Multiscale Instruments Inc.1
  59. Nani Lithography, Inc.1
  60. Nanometrisis1
  61. Nanometrisis PC1
  62. Nanosurf, Inc.1
  63. NGK Insulators LTD1
  64. Nissan Chemical Corp1
  65. Nova Ltd.1
  66. NTT ADVANCED TECHNOLOGY CORPORATION1
  67. Oji Holdings Corp1
  68. Panoramic Technology Inc.1
  69. Park Systems, Inc.1
  70. PDF Solutions Inc1
  71. Photonics Precision Engineering GmbH1
  72. Powerchip Semiconductor Manufacturing Corporation1
  73. Raith GmbH1
  74. Rapidus1
  75. Research Instruments Corporation1
  76. Resona Semiconductor1
  77. SandBox Semiconductor1
  78. SCIL Nanoimprint Solutions1
  79. Seagate Technology LLC1
  80. Silicon Light Machines1
  81. SNPS Belgium B.V.1
  82. STMicroelectronics1
  83. STMicroelectronics (Crolles II) SAS1
  84. Thermo Fisher Scientific Inc.1
  85. ThirdAI Automation, Inc.1
  86. Toray Research Center, Inc.1
  87. Western Digital Corp1
  88. Winbond Electronics Corporation1
  89. xLight1

国・地域

  1. 米国225
  2. 韓国78
  3. 日本76
  4. ベルギー38
  5. 台湾27
  6. オランダ23
  7. ドイツ17
  8. イスラエル15
  9. フランス14
  10. 中国13
ほか12か国・地域
  1. インド7
  2. オーストリア5
  3. ギリシャ4
  4. シンガポール4
  5. スイス3
  6. スウェーデン3
  7. エジプト2
  8. スペイン2
  9. カナダ1
  10. トルコ1
  11. ノルウェー1
  12. 英国1

2026年 委員会の所属（137件）

委員会名簿

  • 企業73.7%
  • 大学6.6%
  • 研究機関16.1%
  • 学会・団体3.6%

企業

  1. IBM8
  2. Intel8
  3. Lam Research7
  4. Canon6
  5. Samsung Electronics5
  6. Synopsys5
  7. Applied Materials4
  8. Hitachi High-Tech4
  9. KLA4
  10. Tokyo Electron4
ほか35社
  1. ASML3
  2. Kioxia3
  3. Meta3
  4. Siemens EDA3
  5. JSR2
  6. SCREEN Semiconductor Solutions2
  7. Air Liquide Electronics1
  8. AMD1
  9. Brewer Science1
  10. BRIDG1
  11. Cadence Design Systems1
  12. Dai Nippon Printing1
  13. DuPont Electronics1
  14. EMD Electronics1
  15. Entegris1
  16. EV Group1
  17. FUJIFILM1
  18. GlobalFoundries1
  19. Heidelberg Instruments Nano1
  20. IMS Nanofabrication1
  21. Inpria1
  22. Micron Technology1
  23. MOSIS1
  24. NAURA1
  25. NVIDIA1
  26. NXP Semiconductors1
  27. Onto Innovation1
  28. Panasonic Industry1
  29. SCIL Nanoimprint Solutions1
  30. Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.1
  31. SiClarity1
  32. Taiwan Semiconductor Manufacturing Company1
  33. Texas Instruments1
  34. Tokyo Ohka Kogyo1
  35. Vistec Electron Beam1

スポンサー・出展（7団体）

スポンサー一覧

  • 企業71.4%
  • 学会・団体28.6%
  • Applied Materials, Inc.
  • EMD Electronics
  • Pozzetta, Inc.
  • Qnity Electronics, Inc.
  • Synopsys, Inc.
  • optics.org
  • Semiconductor Digest

委員会・展示

conference ごとに chair・co-chair と program committee が置かれ、所属は装置・材料・デバイスメーカーと研究機関が混在します。AL101 の committee は米国所属が過半で、日本・韓国・欧州の所属が続きます。

詳しく（公式資料8項目）

展示社リストは 2027 分がすでに公開されています。

AL101 の chair 構成
Conference Chair: Claire van Lare(ASML Netherlands B.V., Netherlands)/ Conference Co-Chair: Iacopo Mochi(Paul Scherrer Institut, Switzerland) AL101 の Chairs and Committees。 Optical and EUV Nanolithography XL, Conference Details(AL101)
AL101 の program committee 規模
Program Committee として 36 名を掲載(chair・co-chair を含めて 38 名) Optical and EUV Nanolithography XL, Conference Details(AL101)
AL101 委員の所属国内訳
United States 22、Japan 5、Korea, Republic of 3、Belgium 3、Germany 3、Netherlands 1、Switzerland 1(合計 38) Optical and EUV Nanolithography XL, Conference Details(AL101)
AL101 委員のうち日本所属
Naoya Hayashi(Dai Nippon Printing Co., Ltd., Japan)、Soichi Inoue(KIOXIA Corp., Japan)、Ken-Ichiro Mori(Canon Inc., Japan)、Yoji Watanabe(Nikon Corp., Japan)、Akiyoshi Suzuki(Consultant, Japan) Optical and EUV Nanolithography XL, Conference Details(AL101)
AL104 の chair と委員の所在国
Chair: Richard A. Farrell(Meta, United States)/ Co-Chair: Laurent Pain(CEA-LETI, France)。program committee の所属は United States、Netherlands、Germany、Japan、Austria、Switzerland に分布 産業界(ASML、KLA、Intel、IBM、KIOXIA、JSR Micro、EV Group 等)と大学・公的機関(University of New Mexico、NIST、TU Ilmenau、LBNL、Syracuse University 等)が混在します。 Novel Patterning Technologies 2027, Conference Details(AL104)
2027 出展社の掲載件数
"44 results found." 会期までに増減する可能性があります。 SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 Exhibition : Exhibitor List
2027 出展社のうち日本関連の掲載例
LINTEC Corp.(Bunkyo-Ku, Tokyo, Japan)、Mitsui Chemicals America, Inc.、NTT Advanced Technology Corp.、JSR Micro, Inc.、Shin-Etsu MicroSi, Inc.、Canon U.S.A., Inc.、JEOL USA Inc.、HORIBA Instruments Inc. 所在地表記は出展社リストの記載どおり。 SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 Exhibition : Exhibitor List
分野の SPIE 協会賞
SPIE Frits Zernike Award for Microlithography(honorarium $2,000)。2026 recipient は Andreas Erdmann、過去受賞者に Akiyoshi Suzuki(2019)、Burn Lin(2004)、C. Grant Willson(2005)などが掲載 SPIE Frits Zernike Award for Microlithography

論文の公開

発表内容は Proceedings of SPIE として SPIE Digital Library に収録されます。conference ごとに volume 番号が付き、2026 サイクルの AL101 相当は Volume 13979、AL104 相当は Volume 13982 でした。

詳しく（公式資料7項目）

口頭発表の録画とポスター PDF も収録対象で、著作権は著者に残り SPIE にはライセンスを付与する形です。

掲載先
conference proceedings in the SPIE Digital Library 投稿同意事項に "They will submit a manuscript by the advertised due date for publication in the conference proceedings in the SPIE Digital Library" と明記。 Abstract Submission Guidelines
収録データベース
Astrophysical Data System (ADS)、Ei Compendex、CrossRef、Google Scholar、Inspec、Scopus、Web of Science "SPIE partners with relevant scientific databases and indexes..." の列挙。 Abstract Submission Guidelines
2026 volume の例(AL101 系)
Proceedings Volume 13979 "Optical and EUV Nanolithography XXXIX"、編者 Claire van Lare, Iacopo Mochi、Date Published: 30 April 2026、Contents: 17 Sessions, 60 Papers, 57 Presentations、Conference: SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 Proceedings Volume 13979: Optical and EUV Nanolithography XXXIX
2026 volume の例(AL104 系)
Proceedings Volume 13982 "Novel Patterning Technologies 2026"、編者 Ricardo Ruiz, Richard A. Farrell、Date Published: 22 April 2026、Contents: 13 Sessions, 38 Papers, 21 Presentations 会期(2 月)から約 2 か月後に公開されています。 Proceedings Volume 13982: Novel Patterning Technologies 2026
録画・ポスターの扱い
口頭発表者は "it is okay to record and publish on-site presentations (slides synched with voice) in the conference proceedings in the SPIE Digital Library" に同意、ポスター発表者は poster PDF の proceedings 掲載に同意 投稿同意事項。SPIE は録画とポスターの配布・マーケティング権を保持すると記載。 Abstract Submission Guidelines
著作権
"Authors must be authorized to provide a suitable publication license to SPIE; authors retain copyright of all scientific material" 著作権譲渡ではなくライセンス付与の形式です。 Abstract Submission Guidelines
参加登録に含まれる閲覧権
"Registration includes 50 SPIE Digital Library downloads" Registration ページにも "50 proceedings downloads" の記載があります。 Advanced Lithography + Patterning Conferences

沿革

公式の招待文はこのシンポジウムを 1976 年以来のものと位置づけ、2026 サイクルを 50 周年としています。1976 年の SPIE proceedings Volume 0080 は "Developments in Semiconductor Microlithography" という会議名で刊行されており、現在の名称とは異なります。

詳しく（公式資料5項目）

個々の conference にも独自の通番があり、AL101 は 1988 年開始の "Optical/Laser Microlithography" を前身として 2022 年に EUV Lithography conference と統合した経緯が明記されています。

起点年の公式記述
"SPIE Advanced Lithography + Patterning symposium has been the premier conference on lithography and patterning in the semiconductor industry since 1976. This year marks our 50th anniversary" 文中の "This year" は本文中で 2026 サイクルを指しています。"premier conference" は公式の表現をそのまま引用したものです。 An Invitation to Participate in SPIE Advanced Lithography + Patterning
1976 年の proceedings
Proceedings Volume 0080 "Developments in Semiconductor Microlithography"、編者 James W. Giffin、Date Published: 20 September 1976、Contents: 1 Sessions, 26 Papers, 0 Presentations、Conference: Developments in Semiconductor Microlithography 1976 当時の会議名は現在の名称とは異なります。収録論文には photomask、line width measurement、submicron X-ray lithography などが含まれます。 Proceedings Volume 0080: Developments in Semiconductor Microlithography(1976)
AL101 の系譜
"the proceedings from this conference that began in 1988 as 'Optical/Laser Microlithography', and merged with the EUV Lithography conference in 2022" AL101 の call for papers 冒頭。conference 単位の沿革として明記されています。 Optical and EUV Nanolithography XL, Conference Details(AL101)
conference 通番(2027)
Optical and EUV Nanolithography XL / Advances in Patterning Materials and Processes XLIV / Metrology, Inspection, and Process Control XLI / Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI / DTCO and Computational Patterning VI: 25th Anniversary Conference / Novel Patterning Technologies 2027 Novel Patterning Technologies だけはローマ数字ではなく年号表記です。DTCO は VI と 25th Anniversary が併記されています。 Browse the 2027 SPIE Advanced Lithography + Patterning call for papers
開催地ローテーション
2026 サイクル・2027 サイクルとも San Jose, California, US。 SPIE Advanced Lithography + Patterning Highlights

近い学会との違い

SPIE 内でも photomask と EUVL に特化した別イベントが独立して運営されており、開催時期・場所・conference 構成が異なります。ALP は 2 月・San Jose・6 conference、Photomask Technology + EUV Lithography は 9 月・Monterey・2 conference です。

詳しく（公式資料3項目）

mask 単体の話題はどちらでも扱われるため、投稿先は締切と会期から逆算して選ぶことになります。

SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography(2026)
Conferences: 8–11 September 2026 / Exhibition: 9–10 September 2026 / Courses: 9 September 2026、Monterey, California, US。conference は Photomask Technology conference と EUV Lithography conference の 2 つ SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography
ALP 側の mask 取り扱い
AL101 の MASKS 区分に "optical, EUV, and EUV mask substrates and blanks, including absorber materials and patterning; patterned and blank mask inspection...; pellicle development and platform integration; mask writing tools and techniques" が含まれます mask のテーマは ALP でも正面から扱われます。 Optical and EUV Nanolithography XL, Conference Details(AL101)
ALP のカバー範囲の自己記述
"SPIE Advanced Lithography + Patterning covers the entire value-chain in semiconductor lithography and patterning, including circuit design, materials, masks, lithography and etch tools, processes, computational lithography, metrology, testing and yield improvement as well as emerging fields of novel patterning, artificial intelligence..., augmented reality and virtual reality (AR/VR), and sustainability." An Invitation to Participate in SPIE Advanced Lithography + Patterning

参加・活用

学生は grant で登録費と旅費の一部を賄える設計になっており、abstract 提出が award 選考の前提になります。企業側は 2 月の会期に向けて 9 月の abstract 締切を起点にスケジュールを引く形です。

詳しく（公式資料6項目）

日本から渡航する場合、SPIE は visa 申請を 3〜4 か月前に始めるよう案内しており、招待状は SPIE アカウントからの申請制です。

学生 grant の内容
"Student grants cover the full cost of admission plus up to $500 for an onsite course." 旅費は US students が最大 $500、international students が最大 $1,000 の実費精算 領収書を保管しないと精算されないと明記。応募には proceedings への manuscript 提出が要件に含まれます。 Student Opportunities at Advanced Lithography + Patterning
2027 学生関連の締切
9 September: Submit an abstract to be considered for an award / 1 November: Nick Cobb Scholarship application / 29 November: Deadline for Student grant application / 7 December: Company deadline to sponsor a Student Grant Student Opportunities ページの "Upcoming deadlines for 2027"。 Student Opportunities at Advanced Lithography + Patterning
Nick Cobb Memorial Scholarship
大学院生 1 名に $10,000、渡航支援は Siemens EDA が負担。"The 2027 scholarship application opens 1 September 2026." advanced lithography 関連分野の大学院生が対象と記載。 Student Opportunities at Advanced Lithography + Patterning
short course の割引
"SPIE Members receive 15% off" / "SPIE Student Members receive 35% off"、Early Bird 期限内の登録でさらに 15% 追加割引 Courses at Advanced Lithography + Patterning
渡航・visa の案内
"SPIE strongly encourages travelers to apply for their visas as early as possible — at least three to four months before the visa is needed"。招待状は SPIE アカウントにサインインして Invitation Letter Request Form から申請 SPIE は大使館・領事館への個別照会は行わないと明記。出展者用の申請フォームは別に用意されています。 Visa Information(SPIE Advanced Lithography + Patterning)
18 歳未満の学生著者の要件
指導教員またはメンターによる事前承認と共著者としての記載、開催 8 週間前までの保護者同意書提出、会期中の同伴が必須 Abstract Submission Guidelines

名称・主催

詳しく（公式資料6項目）
正式名称
SPIE Advanced Lithography + Patterning SPIE Advanced Lithography + Patterning(イベントトップ)
主催
SPIE(ページフッターに "© 2026 SPIE"、招待文で "SPIE Advanced Lithography + Patterning symposium" と表記) An Invitation to Participate in SPIE Advanced Lithography + Patterning
開催頻度
毎年開催("Each year this important community comes together to share and discuss current research") Advanced Lithography + Patterning Program
構成単位
6 つの conference(AL101〜AL106) call for papers 一覧に "6 results found" と表示され、AL101 Optical and EUV Nanolithography XL / AL102 DTCO and Computational Patterning VI: 25th Anniversary Conference / AL103 Metrology, Inspection, and Process Control XLI / AL104 Novel Patterning Technologies 2027 / AL105 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV / AL106 Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XVI が並びます。 Browse the 2027 SPIE Advanced Lithography + Patterning call for papers
2027 Symposium Chairs
John Robinson, Canon Nanotechnologies, Inc. (United States) / Eric Panning, GenChip (United States) Conferences ページの "2027 Symposium Chairs" 欄。役職表記は Symposium Chair と Symposium Co-chair。 Advanced Lithography + Patterning Conferences
公式ハッシュタグ
#SPIElitho SPIE Advanced Lithography + Patterning(イベントトップ)

よくある質問

SPIE Advanced Lithography + Patterning はいつ・どこで開催されますか。

2027 サイクルは 2027 年 2 月 21〜25 日、San Jose, California, US で開催されます。展示は 2 月 23 日(10:00〜17:00)と 24 日(10:00〜16:00)で、会場住所は San Jose McEnery Convention Center, 150 W San Carlos Street, San Jose, California 95113 と公式に示されています。開催は毎年で、2026 サイクルも San Jose でした。

2027 の投稿締切と原稿締切はいつですか。

abstract は 2026 年 9 月 9 日、採否通知とプログラム公開は 2026 年 11 月 16 日、manuscript と poster PDF の投稿システム開放は 2026 年 12 月 21 日、poster PDF は 2027 年 1 月 27 日、全 manuscript は 2027 年 2 月 3 日、口頭発表スライドの事前アップロードは 2027 年 2 月 19 日が期限です。conference によっては post-deadline abstract を検討する場合があると記載されています。

査読はありますか。どのように選考されますか。

投稿は conference chairs/committee による review and approval の対象で、"all submissions will be assessed by the conference chair/editor for technical merit and suitability of content" と明記されています。口頭かポスターかの最終配置も chair の裁量です。審査用の extended abstract には著者名と所属を含めるよう指示されている。

採択率はどのくらいですか。

規模感を知りたい場合は、proceedings volume ページの "Contents: N Sessions, N Papers, N Presentations"(例:2026 の Volume 13979 は 17 Sessions, 60 Papers, 57 Presentations)で採択後の収録件数を確認する方法があります。

どのような人・組織が発表しますか。

公式の招待文は対象を "the worldwide practitioners of semiconductor technology and manufacturing with a focus on industrial applications" と説明しています。委員構成にもそれが表れており、AL101 の chair・co-chair と program committee 38 名の所属は United States 22、Japan 5、Korea, Republic of 3、Belgium 3、Germany 3、Netherlands 1、Switzerland 1 で、装置・材料・デバイス企業と研究機関が混在します。

発表内容はどこに掲載されますか。

Proceedings of SPIE として SPIE Digital Library に掲載されます。conference ごとに volume が分かれ、2026 サイクルでは Optical and EUV Nanolithography XXXIX が Volume 13979(2026 年 4 月 30 日公開)、Novel Patterning Technologies 2026 が Volume 13982(2026 年 4 月 22 日公開)でした。索引データベースとして ADS、Ei Compendex、CrossRef、Google Scholar、Inspec、Scopus、Web of Science が挙げられています。

参加費はいくらですか。

Registration ページには "2027 registration will open in November" とだけ記載されています。full registration に含まれる内容は "All presentations, plenaries, special events, poster sessions, the exhibition" と proceedings ダウンロード 50 件、火曜・水曜の昼食と示されています。short course は SPIE Member 15% 引き、SPIE Student Member 35% 引き、Early Bird 期限内はさらに 15% 引きです。

学生が費用の支援を受ける方法はありますか。

student grant は登録費全額と onsite course 分最大 $500 をカバーし、旅費は米国内の学生が最大 $500、国外の学生が最大 $1,000 まで実費精算されます(領収書の保管が条件)。応募には proceedings への manuscript 提出が要件として含まれます。2027 サイクルの応募締切は Abstract Submission Guidelines の Important dates 表で "Student Grant applications due 29 November 2026" と示されており、award 選考の対象になるには 9 月 9 日までの abstract 提出が必要です。別枠で Nick Cobb Memorial Scholarship($10,000、渡航支援は Siemens EDA 負担、申請開始 2026 年 9 月 1 日)があります。

SPIE の photomask 系イベントとの違いは何ですか。

SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography は別イベントで、2026 サイクルは 9 月 8〜11 日に Monterey, California, US で開催され、Photomask Technology conference と EUV Lithography conference の 2 conference 構成です。SPIE Advanced Lithography + Patterning は 2 月・San Jose・6 conference 構成で、mask のテーマは AL101 の MASKS 区分として本会議でも扱われます。

公式資料

  1. SPIE Advanced Lithography + Patterning(イベントトップ) 公式サイト
  2. Browse the 2027 SPIE Advanced Lithography + Patterning call for papers 募集要項
  3. Abstract Submission Guidelines 募集要項
  4. Advanced Lithography + Patterning Conferences プログラム
  5. Advanced Lithography + Patterning Program プログラム
  6. An Invitation to Participate in SPIE Advanced Lithography + Patterning 沿革
  7. Optical and EUV Nanolithography XL, Conference Details(AL101) 委員会
  8. Novel Patterning Technologies 2027, Conference Details(AL104) 委員会
ほか18件
  1. DTCO and Computational Patterning VI: 25th Anniversary Conference, Conference Details(AL102) プログラム
  2. Advances in Patterning Materials and Processes XLIV, Conference Details(AL105) プログラム
  3. Registration for SPIE Advanced Lithography + Patterning 参加登録
  4. Advanced Lithography + Patterning Exhibition 会場
  5. SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 Exhibition : Exhibitor List スポンサー・展示
  6. Courses at Advanced Lithography + Patterning プログラム
  7. Special Events at SPIE Advanced Lithography + Patterning プログラム
  8. SPIE Advanced Lithography + Patterning Awards プログラム
  9. Student Opportunities at Advanced Lithography + Patterning 参加登録
  10. SPIE Advanced Lithography + Patterning Highlights 公式サイト
  11. Visa Information(SPIE Advanced Lithography + Patterning) 公式サイト
  12. Proceedings Volume 13979: Optical and EUV Nanolithography XXXIX 論文集
  13. Proceedings Volume 13982: Novel Patterning Technologies 2026 論文集
  14. Proceedings Volume 0080: Developments in Semiconductor Microlithography(1976) 過去回
  15. SPIE Advanced Lithography + Patterning Special Event: Tuesday Morning Plenary(2023) 過去回
  16. SPIE Frits Zernike Award for Microlithography 主催学会
  17. SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography 主催学会
  18. 公式ページ（spiecareercenter.org）