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Tier A 露光 / パターニング / 配線 / 量産

SPIE Optical/EUV 2027SPIE Optical and EUV Nanolithography

今の状態

現在
投稿受付終了・採否通知待ち
段階
  1. 投稿受付前
  2. 投稿受付中
  3. 投稿終了
  4. 採否通知
  5. プログラム公開
  6. 開催中
  7. 終了
次
11月16日採否通知あと32日
次の一手
採否は11月16日に通知される予定です。公式サイト
日程
  1. 要旨締切
  2. 採否通知
  3. 最終原稿締切
  4. 開催

近い学会との違い

どんな学会？

SPIE Advanced Lithography + Patterningを構成する6会議の一つで、光とEUVによるナノリソグラフィを対象とする。露光、マスク、レジストの研究を募る。

位置づけ
Tier A サブ分野トップ級・地域主要国際会議 Tierの基準
向いている人
リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。テーマが合う研究の有力な発表先です。
主なテーマ
  • High-NA EUV
  • optical lithography
  • stochastic defects
  • imaging
  • overlay
発表者の所属
2026年 プログラムの筆頭著者の所属（84件） 企業57%大学26%研究機関16% 主な企業：ASML、Samsung Electronics、Gigaphoton、IBM、Entegris
投稿形式
要旨・査読/投稿審査あり
公式情報の目次14項目

会期・会場

2027年は SPIE Advanced Lithography + Patterning の一部として2月21〜25日に San Jose（California, US）で開かれます。米国外からの渡航者には招へい状の早期申請が案内されています。

詳しく（公式資料4項目）

参加登録は2026年11月に始まります。

2027 会期
2027-02-21〜25 / San Jose, California, US SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 の会期 Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 参加登録の開始
2026年11月 Abstract Submission Guidelines
2027 海外からの参加
米国外からの渡航者に招へい状の早期申請を案内 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
2027 CFP
募集中・締切 9月9日 Advanced Lithography + Patterning Conferences

投稿・締切

アブストラクト締切は2026年9月9日、著者通知は11月16日、原稿締切は2027年2月3日です。提出物は200〜300 words の技術審査用アブストラクトと50〜150 words の要約で、この conference では2ページ以内の extended abstract PDF が任意提出です。

詳しく（公式資料7項目）

シンポジウム共通の日程では、原稿・ポスターPDFの受付が2026年12月21日に始まり、ポスターPDFは2027年1月27日、口頭発表スライドの事前アップロードは2月19日が締切です。

2027 締切一覧
アブストラクト 2026-09-09 / 著者通知 2026-11-16 / 原稿 2027-02-03 Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 extended abstract
任意提出（投稿手順 step 7、2ページ以内） Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 技術審査用アブストラクト
200〜300 words（テキストのみ） Abstract Submission Guidelines
2027 プログラム掲載用要約
50〜150 words（テキストのみ） Abstract Submission Guidelines
2027 原稿・ポスターPDFの受付開始
2026-12-21 Abstract Submission Guidelines
2027 ポスターPDF締切
2027-01-27 Abstract Submission Guidelines
2027 口頭発表スライドの事前アップロード締切
2027-02-19 Abstract Submission Guidelines

査読・選考

投稿は conference の chair と committee が審査し、technical merit と内容の適合性で評価します。commercial papers や新規の研究開発内容がない論文は発表に採択されません。

詳しく（公式資料5項目）

口頭とポスターの振り分けは chair が決めます。

2027 審査主体
conference chairs/committee による審査と承認 Abstract Submission Guidelines
2027 審査観点
technical merit と suitability of content Abstract Submission Guidelines
2027 不採択となる投稿
commercial papers、新規の研究開発内容がない論文、proprietary restrictions のある論文 Abstract Submission Guidelines
2027 口頭・ポスターの振り分け
chair の裁量で決定 Abstract Submission Guidelines
2027 extended abstract の扱い
審査目的のみに使用し、公開しない Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

対象分野

対象は EUV と光の投影露光システム、その運用、IC 技術への応用です。募集区分は LITHOGRAPHY EQUIPMENT、SOURCES、MASKS、PATTERNING の4つです。

主なトピック

  • LITHOGRAPHY EQUIPMENTsteppers、scanners、mask-less exposure tools など
  • SOURCESoptical・EUV・BEUV 光源（効率、汚染制御、信頼性、持続可能性）
  • MASKSペリクル開発とプラットフォーム統合など
  • PATTERNINGimaging simulation と source-mask optimization (SMO) など
詳しく（公式資料6項目）

すべての分野で、環境影響の技術的な考察を含めることが推奨されています。

2027 対象
EUV・光の投影露光システム、その運用と IC 技術への応用 Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 募集区分: LITHOGRAPHY EQUIPMENT
steppers、scanners、mask-less exposure tools など Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 募集区分: SOURCES
optical・EUV・BEUV 光源（効率、汚染制御、信頼性、持続可能性） Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 募集区分: MASKS
ペリクル開発とプラットフォーム統合など Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 募集区分: PATTERNING
imaging simulation と source-mask optimization (SMO) など Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 環境負荷の記述
全分野で環境影響の技術的考察を推奨 Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

プログラム

シンポジウム全体の application tracks として、AI / ML、sustainability、stochastics、advanced packaging、EPE/overlay が挙がっています。展示の出展分野の例には、フォトレジストや EUV などの specialty materials、E-beam lithography systems があります。

詳しく（公式資料4項目）

ポスターは1人あたり1セッションで2件までです。学生論文賞として ASML Best Student Paper があり、盾と賞金が贈られます。

2027 application tracks
AI / ML、sustainability、stochastics、advanced packaging、EPE/overlay Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 展示の出展分野（例）
Photoresist・EUV 等の specialty materials、E-beam lithography systems SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
2027 ポスター発表の上限
1人あたり1セッションで2件まで Abstract Submission Guidelines
学生論文賞
ASML Best Student Paper（盾と賞金） Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

発表と委員会の顔ぶれ

2026年 プログラムの筆頭著者の所属（84件）

プログラム

  • 企業57.1%
  • 大学26.2%
  • 研究機関15.5%

企業

  1. ASML9
  2. Samsung Electronics7
  3. Gigaphoton5
  4. IBM5
  5. Entegris2
  6. EUV Technology2
  7. Siemens EDA2
  8. Taiwan Semiconductor Manufacturing Company2
  9. Advanced Mask Technology Ctr. GmbH Co. KG1
  10. Applied Materials1
ほか12社
  1. EUV Litho, Inc.1
  2. Hitachi High-Tech1
  3. HOYA1
  4. Intel Corp.1
  5. Lam Research1
  6. LINTEC Corp.1
  7. Lintec of America, Inc.1
  8. NGK Insulators LTD1
  9. Panoramic Technology Inc.1
  10. Rapidus1
  11. Texas Instruments1
  12. xLight1

国・地域

  1. 米国35
  2. 日本13
  3. 韓国10
  4. ベルギー9
  5. オランダ8
  6. 台湾4
  7. ドイツ2
  8. フランス2
  9. スイス1

2026年 委員会の所属（23件）

委員会名簿

  • 企業78.3%
  • 大学13%
  • 研究機関8.7%

企業

  1. Synopsys3
  2. Intel Corp.2
  3. Kioxia2
  4. Siemens EDA2
  5. AMD1
  6. Cadence Design Systems1
  7. GlobalFoundries1
  8. IBM1
  9. Lam Research1
  10. MOSIS1
ほか3社
  1. NVIDIA1
  2. NXP Semiconductors1
  3. Samsung Electronics1

スポンサー・出展（7団体）

スポンサー一覧

企業71.4%

  • Applied Materials, Inc.
  • EMD Electronics
  • Pozzetta, Inc.
  • Qnity Electronics, Inc.
  • Synopsys, Inc.
  • optics.org
  • Semiconductor Digest

委員会・展示

2027年の Conference Chair は ASML Netherlands の Claire van Lare、Co-Chair は Paul Scherrer Institut の Iacopo Mochi です。Program Committee の日本の所属としては Dai Nippon Printing、Canon、Nikon が載っています。

詳しく（公式資料7項目）

シンポジウム全体の chair は Canon Nanotechnologies の John Robinson です。

2027 Conference Chair
Claire van Lare（ASML Netherlands B.V., Netherlands） Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Conference Co-Chair
Iacopo Mochi（Paul Scherrer Institut, Switzerland） Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Program Committee（日本の所属の例）
Naoya Hayashi（Dai Nippon Printing Co., Ltd.） Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Program Committee（日本の所属の例）
Ken-Ichiro Mori（Canon Inc.） Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Program Committee（日本の所属の例）
Yoji Watanabe（Nikon Corp.） Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 Symposium Chair
John Robinson（Canon Nanotechnologies, Inc., United States） Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 Symposium Co-chair
Eric Panning（GenChip, United States） Advanced Lithography + Patterning Conferences

論文の公開

発表と原稿は SPIE Digital Library の Conference Proceedings に掲載され、正式公開は会期後です。著者は著作権を保持し、論文は Ei Compendex、Inspec、Scopus、Web of Science などに索引されます。

詳しく（公式資料7項目）

参加登録には SPIE Digital Library の50件分のダウンロードが含まれます。

2027 proceedings 掲載先
SPIE Digital Library の Conference Proceedings Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 公開時期
原稿・発表・ポスターは会期後に正式公開 Abstract Submission Guidelines
2027 索引データベース
ADS、Ei Compendex、CrossRef、Google Scholar、Inspec、Scopus、Web of Science Abstract Submission Guidelines
2027 著作権
著者が保持（SPIE には出版ライセンスを付与） Abstract Submission Guidelines
2027 口頭発表の収録
会場での発表（スライドと音声）を記録し proceedings に掲載 Abstract Submission Guidelines
2027 参加登録の特典
SPIE Digital Library の 50 件ダウンロード Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 原稿提出義務
全著者に proceedings 用原稿の提出を求める Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

沿革

公式ページによると、この conference は1988年に Optical/Laser Microlithography として始まり、2022年に EUV Lithography conference と統合されました。2027年版の巻次は XL です。

詳しく（公式資料1項目）
初回と名称変更
1988年に Optical/Laser Microlithography として開始、2022年に EUV Lithography conference と統合 Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

近い学会との違い

SPIE Advanced Lithography + Patterning は6つの conference で構成されています。Optical and EUV Nanolithography のほかに、DTCO and Computational Patterning、Metrology, Inspection, and Process Control、Novel Patterning Technologies、Advances in Patterning Materials and Processes、Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning があり、投稿者はアブストラクトの内容にもっとも近い conference を1つ選びます。

詳しく（公式資料3項目）
2027 シンポジウム内の conference（前半）
Optical and EUV Nanolithography / DTCO and Computational Patterning / Metrology, Inspection, and Process Control Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 シンポジウム内の conference（後半）
Novel Patterning Technologies / Advances in Patterning Materials and Processes / Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning Advanced Lithography + Patterning Conferences
2027 投稿先の選び方
もっとも近い conference を1つ選んで投稿 Abstract Submission Guidelines

参加・活用

学生が無料で参加する方法、Student Grant（2026年11月29日締切）、旅費助成と Nick Cobb Memorial Scholarship が案内されています。18歳未満の学生著者は、認定教育機関に所属していることが条件です。

詳しく（公式資料5項目）

過去年の proceedings は SPIE Digital Library で閲覧できます。

2027 学生の参加
学生が無料で参加する方法を案内 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
2027 Student Grant 申請締切
2026-11-29 Abstract Submission Guidelines
2027 18歳未満の学生著者
認定教育機関への所属が条件 Abstract Submission Guidelines
過去の proceedings
SPIE Digital Library で過去年の proceedings を閲覧可能 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
学生向け支援
旅費助成と Nick Cobb Memorial Scholarship への応募を案内 Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）

名称・主催

詳しく（公式資料3項目）
2027 正式名称
Optical and EUV Nanolithography XL Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 conference 番号
AL101 Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
2027 シンポジウム
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）

よくある質問

Optical and EUV Nanolithography はどの会議の一部ですか？

SPIE Advanced Lithography + Patterning を構成する conference の一つで、2027年版は Conference AL101 です。2027年のシンポジウムは2月21〜25日に San Jose で開かれます。

2027年版の締切はいつですか？

アブストラクトは2026年9月9日、著者通知は11月16日、原稿は2027年2月3日です。ポスターPDFは2027年1月27日が締切です。

マスクやペリクルの研究も投稿できますか？

投稿できます。募集区分の MASKS に、ペリクル開発とプラットフォーム統合などが挙がっています。

いつから続いている conference ですか？

1988年に Optical/Laser Microlithography として始まり、2022年に EUV Lithography conference と統合されたと公式ページに書かれています。

学生向けの賞はありますか？

学生の投稿は ASML Best Student Paper の対象になり、盾と賞金が贈られます。旅費助成と Nick Cobb Memorial Scholarship への応募も案内されています。

論文はどこで読めますか？

発表と原稿は SPIE Digital Library の Conference Proceedings に掲載され、会期後に正式公開されます。過去年の proceedings も SPIE Digital Library で読めます。

公式資料

  1. Optical and EUV Nanolithography XL（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees） 募集要項
  2. Advanced Lithography + Patterning Conferences プログラム
  3. SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ） 公式サイト
  4. Abstract Submission Guidelines 募集要項
  5. 公式ページ（spiecareercenter.org）