SemiMapサイト内検索

Tier A 露光 / パターニング / 配線 / 量産

PMJ 2027Photomask Japan

今の状態

現在
論文募集中
段階
  1. 投稿受付前
  2. 投稿受付中
  3. 投稿終了
  4. 採否通知
  5. プログラム公開
  6. 開催中
  7. 終了
次
11月30日要旨締切あと46日
次の一手
要旨締切は11月30日です。募集要項を開く
日程
  1. 投稿受付開始
  2. 要旨締切
  3. 最終原稿締切
  4. 開催

近い学会との違い

どんな学会？

Photomask JapanがSPIEと開くフォトマスクの国際会議で、30回を超えて続く。約700人が集まり、High-NA、量産EUV、EUVマスクの加工の招待講演が並ぶ。

位置づけ
Tier A サブ分野トップ級・地域主要国際会議 Tierの基準
向いている人
リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。テーマが合う研究の有力な発表先です。
主なテーマ
  • photomask
  • EUV mask
  • NIL mask
  • mask writer
  • inspection
  • repair
  • ILT
  • DTCO
発表者の所属
2026年 プログラムの筆頭著者の所属（94件） 企業59%大学30%研究機関12% 主な企業：Dai Nippon Printing Co., Ltd.、Nippon Control System Corp.、Tekscend Photomask Corp.、Bruker RMR、D2S, Inc.
投稿形式
要旨（1ページ）・査読/投稿審査あり
主催
Photomask Japan / SPIE
公式情報の目次14項目

会期・会場

PMJ 2027は2027年4月7日（水）から9日（金）まで、横浜のパシフィコ横浜アネックスホールで開かれます。2026年も同じアネックスホールで4月8〜10日に開かれており、2年続けて同じ会場での4月開催です。

詳しく（公式資料4項目）
2027 会期
2027-04-07〜09 Photomask Japan 2027 Symposium Information
2027 会場
Annex Hall, PACIFICO YOKOHAMA, Yokohama, Japan Photomask Japan 2027 Symposium Information
2026 会期（前回）
2026-04-08〜10 / Annex Hall, PACIFICO YOKOHAMA Photomask Japan 2026 Symposium Information
2027 サイト公開
2026-07-13 Photomask Japan 2027 HOME

投稿・締切

投稿は英語の1ページabstract（約250 words、図を含めA4で1ページ以内）をPDFで出す方式で、受付は2026年10月1日に始まり、締切は11月30日のJST 23:59（延着不可）です。投稿したabstractがそのままDigest of Papersに使われるため、別途のcamera-ready abstractは不要で、改訂版への差し替えは2027年2月15日まで受け付けます。

詳しく（公式資料8項目）

採択者はSPIE Proceedings用に4〜6ページの原稿を出し、原稿締切は2027年3月31日です。abstractの著作権はPhotomask Japanへ譲渡されます。

2027 abstract受付開始
2026-10-01 Photomask Japan 2027 2nd Announcement and Call for Papers (PDF)
2027 abstract締切
2026-11-30 JST 23:59（延着不可） Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 abstract書式
英語、約250 words、図を含めA4 1ページ以内、PDF Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 camera-ready abstract
不要（投稿abstractをDigest of Papersに使用） Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 改訂abstractの差し替え期限
2027-02-15 Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 SPIE Proceedings原稿
4〜6ページ Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 原稿締切
2027-03-31 Photomask Japan 2027 2nd Announcement and Call for Papers (PDF)
2027 著作権
abstractの著作権はPhotomask Japanへ譲渡 Photomask Japan 2027 Abstract Submission

査読・選考

投稿されたabstractはすべてPhotomask Japan Program Committeeが審査し、採否は2027年1月末までにe-mailで通知されます。学生・ポスドク向けのacademia枠では、Best Academic Poster Awardが投票で選ばれます。

詳しく（公式資料3項目）
2027 査読方式
Photomask Japan Program Committeeが全abstractを審査 Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 採否通知
2027年1月末までにe-mailで通知 Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 Best Academic Poster Award
投票で選出 Photomask Japan 2027 2nd Announcement and Call for Papers (PDF)

対象分野

シンポジウムの目的はphotomasks、NGL masks、関連技術の議論です。PMJ 2027のtopicには、EUVL・NIL・FPD maskの技術とインフラ、multi-beam EB writerを含む描画装置、EDA・MDP・Curvilinear ILT・DTCOが並びます。

主なトピック

  • EUVL / NIL / FPD maskEUVL masks、NIL masks、FPD masksそれぞれの技術とインフラがtopicに挙げられています。
  • Curvilinear ILT・DTCOEDA、MDPと並んで設計側のtopicとして掲げられています。
  • multi-beam EB writer描画装置のtopicにmulti-beam EB writerが明記されています。
  • AI for R&D and HVMAIによる研究開発と量産の効率化が投稿topicの一つです。
  • High-NA EUV2026年はimecのkeynoteでHigh-NA EUV lithographyが取り上げられました。
詳しく（公式資料7項目）

Advanced package・Chiplets、AIによるR&DとHVMの効率化、mature-node mask向けのlegacy toolもtopicです。

2026・2027 対象（シンポジウムの目的）
photomasks, NGL masks, and related technologies Photomask Japan 2027 HOME
2027 topic（EUVL / NIL / FPD）
Technologies and infrastructures for EUVL masks / NIL masks / FPD masks Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 topic（描画装置）
Photomask writing tools and technologies including multi-beam EB writer Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 topic（設計側）
EDA, MDP, Curvilinear ILT and DTCO Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 topic（実装）
Advanced package, Chiplets Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 topic（AI）
Utilizing AI technologies for the efficiency of R&D and HVM Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 topic（成熟ノード）
Legacy tools for mature-node masks Photomask Japan 2027 Abstract Submission

プログラム

プログラムはinvited paper、contributed paper、poster session、panel discussion付きのrump sessionで組まれます。2026年はkeynoteとしてInstitute of Science Tokyo、Tekscend Photomask、imecの3名が登壇し、invitedにはASMLのRick Meijerinkの講演がありました。

詳しく（公式資料7項目）

2026年はTutorial Sessionを参加者向けにオンデマンド配信しています。

プログラム構成（2026・2027サイト共通文）
invited papers / contributed papers / poster sessions / rump session with panel discussion Photomask Japan 2027 HOME
2026 keynote（Session 1）
Hitoshi Wakabayashi (Institute of Science Tokyo, Japan) Photomask Japan 2026 Keynote & Invited Speakers
2026 keynote（Session 6）
The 2nd wave of EUV Mask Manufacturing in AI era / Chan-Uk Jeon (Tekscend Photomask Corp., Japan) Photomask Japan 2026 Keynote & Invited Speakers
2026 keynote（Session 11）
High-NA EUV lithography / Vicky Philipsen (imec, Belgium) Photomask Japan 2026 Keynote & Invited Speakers
2026 invited（Session 11）
0.33 NA EUV Systems for High-Volume Manufacturing / Rick Meijerink (ASML, Netherlands) Photomask Japan 2026 Keynote & Invited Speakers
2026 tutorial
Tutorial Sessionを参加者向けにオンデマンド配信 Photomask Japan 2026 HOME
2027 Technical Exhibition
SEMI Japanとの協力で開催 Photomask Japan 2027 Symposium Information

発表と委員会の顔ぶれ

2026年 プログラムの筆頭著者の所属（94件）

プログラム

  • 企業58.5%
  • 大学29.8%
  • 研究機関11.7%

企業

  1. Dai Nippon Printing Co., Ltd.5
  2. Nippon Control System Corp.3
  3. Tekscend Photomask Corp.3
  4. Bruker RMR2
  5. D2S, Inc.2
  6. NuFlare Technology, Inc.2
  7. AGC Inc.1
  8. Applied Materials1
  9. ASML1
  10. camLine GmbH / Elisa camLine Holding GmbH1
ほか34社
  1. Canon Inc.1
  2. Carl Zeiss SMT GmbH1
  3. Cellid1
  4. Comet AG1
  5. Cowin DST1
  6. eBeam Initiative (D2S)1
  7. ESOL, Inc.1
  8. Fine Semitech Technology Corporation (FST)1
  9. Global R&D1
  10. Gudeng Precision Industry Co., Ltd.1
  11. Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH1
  12. HTL Co. Japan Ltd.1
  13. IMS nanofabrication1
  14. Infineon Technologies1
  15. KLA Corporation1
  16. Lasertec Corporation1
  17. LINTEC Corporation1
  18. Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems, Ltd.1
  19. Mitsui Chemicals, Inc.1
  20. Mycronic1
  21. Mycronic AB1
  22. NGK Corporation1
  23. Omdia1
  24. Panasonic Holdings Corporation1
  25. Photronics DNP Mask Corp.1
  26. Photronics, Inc.1
  27. S&S Tech1
  28. Samsung Display1
  29. Samsung Electronics1
  30. SCHOTT AG1
  31. Siemens Digital Industries Software1
  32. SIGMAKOKI CO., LTD.1
  33. Vanguard Automation GmbH1
  34. Veeco Japan Ltd.1

国・地域

  1. 日本49
  2. 米国9
  3. ドイツ8
  4. 韓国8
  5. ベルギー6
  6. 台湾6
  7. オランダ2
  8. スウェーデン2
  9. フランス2
  10. 中国2

2026年 委員会の所属（71件）

委員会名簿

  • 企業90.1%
  • 大学8.5%
  • 学会・団体1.4%

企業

  1. Dai Nippon Printing Co., Ltd.7
  2. HOYA Corporation6
  3. Tekscend Photomask Corp.4
  4. Kioxia Corporation3
  5. Renesas Electronics Corporation3
  6. Synopsys, Inc.3
  7. Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.3
  8. ALITECS Corporation2
  9. Canon Inc.2
  10. Hitachi High-Tech Corporation2
ほか24社
  1. JEOL Ltd.2
  2. Lasertec Corporation2
  3. Mycronic Technologies Corporation2
  4. Nikon Corporation2
  5. Sony Semiconductor Solutions Co.2
  6. Applied Materials, Inc.1
  7. ASML Japan Co., Ltd.1
  8. ASML Netherlands B.V.1
  9. ASML US1
  10. Carl Zeiss SMT GmbH1
  11. D2S, Inc.1
  12. ESOL, Inc.1
  13. Geminatio, Inc.1
  14. GlobalFoundries Inc.1
  15. Grenon Consulting1
  16. HTL Co. Japan Ltd.1
  17. IBM Research1
  18. Independent Consultant1
  19. MWM Strategic Development Solutions LLC.1
  20. NAMTEC Co., Ltd.1
  21. NuFlare Technology, Inc.1
  22. Samsung Electronics Co., Ltd.1
  23. Tower Partners Semiconductor Co., Ltd.1
  24. United Semiconductor Japan Co., Ltd.1

2026年 スポンサー・出展（72団体）

出展者一覧

  • 企業90.5%
  • 学会・団体8.1%
  • SUSS
  • Shin-Etsu Chemical
  • Corning
  • Micron
  • HTL Co. Japan Ltd.
  • Photronics
  • LAZIN
  • KLA
  • Mycronic
  • Carl Zeiss
  • D2S
  • eBeam Initiative
ほか60団体
  • Nippon Control System
  • Lasertec
  • Advantest
  • Tokyo Electron
  • EUV Tech
  • AGC
  • Holon
  • RAD Device
  • Canon
  • NAMTEC
  • HORIBA
  • Gudeng
  • NuFlare Technology
  • HOYA
  • Kioxia
  • Dai Nippon Printing
  • Sony Semiconductor Solutions
  • Nagase
  • Yokohama Convention & Visitors Bureau
  • ADVANTEST CORPORATION
  • Applied Materials
  • ASTRON
  • Bruker Japan K. K.
  • Canatu Plc
  • Canon Marketing Japan Inc.
  • Carl Zeiss Co. Ltd.
  • Dan-Takuma Co. Ltd.
  • GenISys K.K.
  • Gudeng Precision Industrial Co., LTD
  • Hakuto Co. Ltd.
  • HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
  • Heidelberg Instruments KK
  • HOLON CO. LTD.
  • HORIBA Ltd.
  • INABATA & CO. LTD.
  • Jedat Inc.
  • JEOL Ltd.
  • KLV Co. Ltd.
  • Lasertec Corporation
  • LAZIN Co. Ltd.
  • MATSUSHITA SEIKI CO. LTD.
  • Micro Engineering Inc.
  • Mycronic Technologies Corporation
  • NGK Corporation
  • Nippon Control System Corporation
  • Nordson Test and Inspection Americas Inc.
  • NuFlare Technology Inc.
  • OHTAMA CO. LTD.
  • Physix Technology Inc.
  • RI Research Instruments GmbH
  • SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
  • SOLVBEST Co. Ltd.
  • TOOL Corporation
  • TOPTICA Photonics SE
  • Vistec Electron Beam GmbH
  • Photomask Japan
  • SPIE
  • BACUS
  • EMLC
  • SEMI Japan

委員会・展示

2026年の委員会はAdvisory、Organizing、Program、Steeringの4つで、Organizing Committee ChairはUniversity of HyogoのTakeo Watanabe氏、Program Committee ChairはTSMC所属のNoriaki Nakayamada氏、Steering Committee ChairはKioxiaのSoichi Inoue氏です。2026年の参加者は680名、Technical Exhibitionの登録来場者は219名でした。

詳しく（公式資料6項目）
2026 委員会構成
Advisory / Organizing / Program / Steering Committee Photomask Japan 2026 Committees
2026 Organizing Committee Chair
Takeo Watanabe（University of Hyogo, Japan） Photomask Japan 2026 Committees
2026 Program Committee Chair
Noriaki Nakayamada（Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd., Taiwan） Photomask Japan 2026 Committees
2026 Steering Committee Chair
Soichi Inoue（Kioxia Corporation, Japan） Photomask Japan 2026 Committees
2026 参加者数
Symposium Attendees 680 Photomask Japan 2026 HOME
2026 展示来場者数
Technical Exhibition Visitors 219（登録者） Photomask Japan 2026 HOME

論文の公開

PMJでは、abstractをまとめたDigest of Papersが全参加者に配布され、2026年版は登録参加者にパスワード付きで提供され、再配布は禁止でした。2026年はinvited・oral・posterの全著者がSPIE Proceedings用原稿を出し、proceedingsはSPIE Digital Libraryに収録されます。

詳しく（公式資料6項目）

2026年のSPIE原稿の著作権は著者が保持します。

2027 Digest of Papers
abstractを掲載し全参加者に配布 Photomask Japan 2027 2nd Announcement and Call for Papers (PDF)
2026 proceedings掲載先
SPIE Digital Library Photomask Japan 2026 Author Guidelines (SPIE Proceedings Manuscript)
2026 原稿提出対象
invited・oral・posterの全著者 Photomask Japan 2026 Author Guidelines (SPIE Proceedings Manuscript)
2026 proceedings刊行時期
会期後（2026年夏頃） Photomask Japan 2026 Author Guidelines (SPIE Proceedings Manuscript)
2026 SPIE原稿の著作権
著者が保持（Permission to Publish and Distribute Agreement） Photomask Japan 2026 Author Guidelines (SPIE Proceedings Manuscript)
2026 Digest of Papersの公開範囲
登録参加者にパスワードで提供、再配布禁止 Photomask Japan 2026 Program

沿革

2026年が第32回、2027年が第33回にあたります。公式サイトにはPMJ2022〜PMJ2026の学会報告（日本語）が掲載されています。

詳しく（公式資料2項目）
2026 回次
第32回（The 32nd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology） Photomask Japan 2026 Symposium Information
過去の学会報告
PMJ2022〜PMJ2026の学会報告（日本語） Photomask Japan 2027 HOME

近い学会との違い

PMJはPhotomask JapanとSPIEが主催し、BACUS（SPIE）とEMLCが共催に入っています。

詳しく（公式資料1項目）
2027 共催団体
BACUS（SPIE）とEMLC Photomask Japan 2027 2nd Announcement and Call for Papers (PDF)

参加・活用

学生とポスドクは「Photomask and Lithography related Technology in Academia」枠で発表でき、この枠の登録費は無料です。この枠にはHOYA Academic AwardがExtra Prizeとして用意されています。

詳しく（公式資料3項目）

企業の調査担当者には、topic一覧、keynote・invitedの所属、参加・来場者数が年次比較の材料になります。

2027 academia枠の対象
大学の学生またはポスドク Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 academia枠の登録費
無料 Photomask Japan 2027 Abstract Submission
2027 HOYA Academic Award
academia枠のExtra Prize Photomask Japan 2027 2nd Announcement and Call for Papers (PDF)

名称・主催

詳しく（公式資料6項目）
2027 正式名称・回次
Photomask Japan 2027 / The 33rd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology Photomask Japan 2027 Symposium Information
2027 主催
Photomask Japan and SPIE Photomask Japan 2027 Symposium Information
2027 共催
BACUS and EMLC Photomask Japan 2027 Symposium Information
2027 公用語
English Photomask Japan 2027 Symposium Information
2027 Symposium Chair
Prof. Takeo Watanabe, University of Hyogo (Japan) Photomask Japan 2027 2nd Announcement and Call for Papers (PDF)
2026 後援
Yokohama City Photomask Japan 2026 Symposium Information

よくある質問

PMJ 2027のabstract締切はいつですか。

2026年11月30日のJST 23:59です。受付は2026年10月1日に始まり、締切後のabstractは受け付けません。

abstractは何ページで書きますか。

英語で約250 words、図を含めてA4 1ページ以内のPDFです。

論文はどこに載りますか。

abstractはDigest of Papersに載り、採択者が出す4〜6ページの原稿はSPIE ProceedingsとしてSPIE Digital Libraryに収録されます。

採否はいつ分かりますか。

Program Committeeの審査を経て、2027年1月末までにe-mailで通知されます。

学生でも発表できますか。

大学の学生とポスドクはacademia枠で発表でき、この枠の登録費は無料です。Best Academic Poster Awardは投票で選ばれます。

どのくらいの規模ですか。

2026年の参加者は680名、Technical Exhibitionの登録来場者は219名でした。

公式資料

  1. Photomask Japan 2027 HOME 公式サイト
  2. Photomask Japan 2027 Symposium Information 公式サイト
  3. Photomask Japan 2027 Abstract Submission 募集要項
  4. Photomask Japan 2027 2nd Announcement and Call for Papers (PDF) 募集要項
  5. Photomask Japan 2026 HOME 過去回
  6. Photomask Japan 2026 Symposium Information 過去回
  7. Photomask Japan 2026 Committees 委員会
  8. Photomask Japan 2026 Keynote & Invited Speakers プログラム
ほか2件
  1. Photomask Japan 2026 Program プログラム
  2. Photomask Japan 2026 Author Guidelines (SPIE Proceedings Manuscript) 論文集