Tier A 露光 / パターニング / 配線 / 量産
SPIE Materials 2027SPIE Advances in Patterning Materials and Processes
今の状態
- 現在
- 投稿受付終了・採否通知待ち
- 段階
- 投稿受付前
- 投稿受付中
- 投稿終了
- 採否通知
- プログラム公開
- 開催中
- 終了
- 次
- 11月16日採否通知あと32日
- 次の一手
- 採否は11月16日に通知される予定です。公式サイト
- 日程
- 要旨締切
- 採否通知
- 最終原稿締切
- 開催
近い学会との違い
どんな学会？
SPIE Advanced Lithography + Patterningを構成する6会議の一つ。レジストをはじめとするパターニング材料とプロセスの研究を募る。
- 位置づけ
- Tier A サブ分野トップ級・地域主要国際会議 Tierの基準
- 向いている人
- リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。テーマが合う研究の有力な発表先です。
- 主なテーマ
-
- resist
- underlayer
- dry resist
- stochastic defect
- process window
- sustainability
- 発表者の所属
- 2026年 プログラムの筆頭著者の所属（126件） 企業65%大学16%研究機関19% 主な企業：Tokyo Electron、DuPont Electronics、EMD Electronics、Samsung Electronics、IBM
公式情報の目次14項目
会期・会場
2027年は SPIE Advanced Lithography + Patterning の一部として2月21〜25日に San Jose（California, US）で開かれます。米国外からの渡航者には招へい状の早期申請が案内されています。
詳しく（公式資料4項目）
参加登録は2026年11月に始まります。
- 2027 会期
- 2027-02-21〜25 / San Jose, California, US SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 の会期 Advanced Lithography + Patterning Conferences
- 2027 参加登録の開始
- 2026年11月 Abstract Submission Guidelines
- 2027 海外からの参加
- 米国外からの渡航者に招へい状の早期申請を案内 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
- 2027 CFP
- 募集中・締切 9月9日 Advanced Lithography + Patterning Conferences
投稿・締切
アブストラクト締切は2026年9月9日、著者通知は11月16日、原稿締切は2027年2月3日です。extended abstract PDF はこの conference では任意です。
詳しく（公式資料7項目）
シンポジウム共通の日程では、原稿・ポスターPDFの受付が2026年12月21日に始まり、ポスターPDFは2027年1月27日、口頭発表スライドの事前アップロードは2月19日が締切です。
- 2027 締切一覧
- アブストラクト 2026-09-09 / 著者通知 2026-11-16 / 原稿 2027-02-03 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 extended abstract
- 任意提出（投稿手順 step 7、2ページ以内） Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 技術審査用アブストラクト
- 200〜300 words（テキストのみ） Abstract Submission Guidelines
- 2027 プログラム掲載用要約
- 50〜150 words（テキストのみ） Abstract Submission Guidelines
- 2027 原稿・ポスターPDFの受付開始
- 2026-12-21 Abstract Submission Guidelines
- 2027 ポスターPDF締切
- 2027-01-27 Abstract Submission Guidelines
- 2027 口頭発表スライドの事前アップロード締切
- 2027-02-19 Abstract Submission Guidelines
査読・選考
投稿は conference の chair と committee が審査し、technical merit と内容の適合性で評価します。著者には化学的・物理的原理と十分な化学構造の記述が求められ、化学的詳細が不十分な投稿や主に商業的な投稿は採択されないことがあります。
詳しく（公式資料6項目）
commercial papers や新規の研究開発内容がない論文は発表に採択されません。口頭とポスターの振り分けは chair が決めます。
- 2027 審査主体
- conference chairs/committee による審査と承認 Abstract Submission Guidelines
- 2027 審査観点
- technical merit と suitability of content Abstract Submission Guidelines
- 2027 不採択となる投稿
- commercial papers、新規の研究開発内容がない論文、proprietary restrictions のある論文 Abstract Submission Guidelines
- 2027 口頭・ポスターの振り分け
- chair の裁量で決定 Abstract Submission Guidelines
- 2027 化学構造の開示
- 化学的・物理的原理と十分な化学構造の記述が必須 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 不採択になりうる投稿
- 化学的詳細が不十分なもの、主に商業的なもの Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
対象分野
対象は photoresists、patterning materials、processes の化学・物理・性能です。募集トピックには、EUV と high NA EUV 用の材料、PTD・NTD のフォトレジストと現像液、溶剤・水系・ドライ現像、DSA、AR・VR 向けパターニング、PFAS/PFOS フリー材料と規制対応のロードマップ、variability・stochastics・defectivity が挙がっています。
主なトピック
- Patterning Materials, Processes, and ApplicationsEUV・high NA EUV 用の材料、PTD・NTD と溶剤・水系・ドライ現像、DSA、AR・VR 向けパターニング、PFAS/PFOS フリー材料
- Simulation and Modelingvariability、stochastics、defectivity
詳しく（公式資料7項目）
- 2027 対象
- photoresists、patterning materials、processes の化学・物理・性能 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 材料の例
- EUV と high NA EUV 用の材料 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 現像技術
- PTD・NTD、溶剤・水系・ドライ現像 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 DSA
- Directed self-assembling materials Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 PFAS/PFOS
- PFAS/PFOS フリー材料と規制対応のロードマップ Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 AR/VR
- AR・VR 向けパターニングを含む Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 シミュレーション
- variability、stochastics、defectivity Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
プログラム
シンポジウム全体の application tracks として、AI / ML、sustainability、stochastics、advanced packaging、EPE/overlay が挙がっています。展示の出展分野の例には、フォトレジストや EUV などの specialty materials、E-beam lithography systems があります。
詳しく（公式資料6項目）
ポスターは1人あたり1セッションで2件までです。この conference の賞は、C. Grant Willson Best Paper Award（前年の口頭発表から選考）、Jeffrey Byers Best Poster Award、Hiroshi Ito Student Award（主著者かつ発表者が学生またはポスドク）です。
- 2027 application tracks
- AI / ML、sustainability、stochastics、advanced packaging、EPE/overlay Advanced Lithography + Patterning Conferences
- 2027 展示の出展分野（例）
- Photoresist・EUV 等の specialty materials、E-beam lithography systems SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
- 2027 ポスター発表の上限
- 1人あたり1セッションで2件まで Abstract Submission Guidelines
- 最優秀論文賞
- C. Grant Willson Best Paper Award（前年の口頭発表から選考） Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 最優秀ポスター賞
- Jeffrey Byers Best Poster Award Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 学生賞
- Hiroshi Ito Student Award（学生またはポスドクが対象） Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
発表と委員会の顔ぶれ
2026年 プログラムの筆頭著者の所属（126件）
- 企業65.1%
- 大学15.9%
- 研究機関19%
企業
- Tokyo Electron13
- DuPont Electronics7
- EMD Electronics7
- Samsung Electronics6
- IBM5
- ASML4
- Brewer Science4
- Entegris4
- FUJIFILM4
- Toyo Gosei4
ほか16社
- Geminatio3
- Inpria3
- Qnity Electronics3
- Pall2
- Applied Materials1
- Canon Nanotechnologies1
- Eastman Chemical1
- EV Group E. Thallner GmbH1
- Hangzhou Cobetter Filtration Equipment1
- Irresistible Materials1
- JSR1
- KLA1
- Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.1
- Nissan Chemical Corp.1
- SCREEN Semiconductor Solutions1
- Siemens EDA1
国・地域
- 米国65
- 日本32
- 韓国10
- ベルギー6
- オランダ3
- 中国2
- イタリア1
- インド1
- オーストリア1
- カナダ1
ほか4か国・地域
- スイス1
- ドイツ1
- 英国1
- 台湾1
2026年 委員会の所属（22件）
- 企業81.8%
- 研究機関18.2%
企業
- IBM3
- Lam Research3
- Intel2
- Air Liquide Electronics1
- Canon Nanotechnologies1
- Hitachi High-Tech1
- KLA1
- Meta1
- NAURA1
- Samsung Electronics1
ほか3社
- Siemens EDA1
- Synopsys1
- Tokyo Electron1
スポンサー・出展（7団体）
企業71.4%
- Applied Materials, Inc.
- EMD Electronics
- Pozzetta, Inc.
- Qnity Electronics, Inc.
- Synopsys, Inc.
- optics.org
- Semiconductor Digest
委員会・展示
2027年の Conference Chair は FUJIFILM Electronic Materials U.S.A. の Ryan Callahan、Co-Chair は Lam Research の Anuja De Silva です。Program Committee の日本の所属としては Shin-Etsu Chemical、Tokyo Ohka Kogyo、SCREEN Semiconductor Solutions、Nihon Entegris などが載っています。
詳しく（公式資料8項目）
シンポジウム全体の chair は Canon Nanotechnologies の John Robinson です。
- 2027 Conference Chair
- Ryan Callahan（FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc., United States） Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 Conference Co-Chair
- Anuja De Silva（Lam Research Corp., United States） Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 Program Committee（日本の所属の例）
- Yoshio Kawai（Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.） Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 Program Committee（日本の所属の例）
- Tomohiro Oikawa（Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.） Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 Program Committee（日本の所属の例）
- Masahiko Harumoto（SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.） Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 Program Committee（日本の所属の例）
- Tetsu Kohyama（Nihon Entegris G.K.） Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 Symposium Chair
- John Robinson（Canon Nanotechnologies, Inc., United States） Advanced Lithography + Patterning Conferences
- 2027 Symposium Co-chair
- Eric Panning（GenChip, United States） Advanced Lithography + Patterning Conferences
論文の公開
発表と原稿は SPIE Digital Library の Conference Proceedings に掲載され、正式公開は会期後です。著者は著作権を保持し、論文は Ei Compendex、Inspec、Scopus、Web of Science などに索引されます。
詳しく（公式資料6項目）
参加登録には SPIE Digital Library の50件分のダウンロードが含まれます。
- 2027 proceedings 掲載先
- SPIE Digital Library の Conference Proceedings Advanced Lithography + Patterning Conferences
- 2027 公開時期
- 原稿・発表・ポスターは会期後に正式公開 Abstract Submission Guidelines
- 2027 索引データベース
- ADS、Ei Compendex、CrossRef、Google Scholar、Inspec、Scopus、Web of Science Abstract Submission Guidelines
- 2027 著作権
- 著者が保持（SPIE には出版ライセンスを付与） Abstract Submission Guidelines
- 2027 口頭発表の収録
- 会場での発表（スライドと音声）を記録し proceedings に掲載 Abstract Submission Guidelines
- 2027 参加登録の特典
- SPIE Digital Library の 50 件ダウンロード Advanced Lithography + Patterning Conferences
沿革
2027年版の巻次は XLIV です。
近い学会との違い
SPIE Advanced Lithography + Patterning は6つの conference で構成されています。Optical and EUV Nanolithography、DTCO and Computational Patterning、Metrology, Inspection, and Process Control、Novel Patterning Technologies、Advances in Patterning Materials and Processes、Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning があり、投稿者はアブストラクトの内容にもっとも近い conference を1つ選びます。
詳しく（公式資料3項目）
- 2027 シンポジウム内の conference（前半）
- Optical and EUV Nanolithography / DTCO and Computational Patterning / Metrology, Inspection, and Process Control Advanced Lithography + Patterning Conferences
- 2027 シンポジウム内の conference（後半）
- Novel Patterning Technologies / Advances in Patterning Materials and Processes / Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning Advanced Lithography + Patterning Conferences
- 2027 投稿先の選び方
- もっとも近い conference を1つ選んで投稿 Abstract Submission Guidelines
参加・活用
学生が無料で参加する方法、Student Grant（2026年11月29日締切）、旅費助成と Nick Cobb Memorial Scholarship が案内されています。18歳未満の学生著者は、認定教育機関に所属していることが条件です。
詳しく（公式資料5項目）
過去年の proceedings は SPIE Digital Library で閲覧できます。
- 2027 学生の参加
- 学生が無料で参加する方法を案内 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
- 2027 Student Grant 申請締切
- 2026-11-29 Abstract Submission Guidelines
- 2027 18歳未満の学生著者
- 認定教育機関への所属が条件 Abstract Submission Guidelines
- 過去の proceedings
- SPIE Digital Library で過去年の proceedings を閲覧可能 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
- 学生向け支援
- 旅費助成と Nick Cobb Memorial Scholarship への応募を案内 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
名称・主催
詳しく（公式資料4項目）
- 2027 正式名称
- Advances in Patterning Materials and Processes XLIV Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 conference 番号
- AL105 Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 参加者層（公式の説明）
- 研究機関、材料・装置ベンダー、エンドユーザー Advances in Patterning Materials and Processes XLIV（Conference Details: Call for Papers / Chairs and Committees）
- 2027 シンポジウム
- SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 SPIE Advanced Lithography + Patterning（イベントトップ）
よくある質問
Advances in Patterning Materials and Processes はどの会議の一部ですか？
SPIE Advanced Lithography + Patterning を構成する conference で、2027年版は Conference AL105 です。2027年のシンポジウムは2月21〜25日に San Jose で開かれます。
材料の化学構造はどこまで書く必要がありますか？
化学的・物理的原理と十分な化学構造の記述が必須です。読者に価値を与える化学的詳細を欠く投稿や主に商業的な投稿は採択されないことがあります。
PFAS 規制に関する研究も対象ですか？
対象です。PFAS/PFOS フリー材料と規制対応のロードマップが募集トピックに挙がっています。
どんな賞がありますか？
C. Grant Willson Best Paper Award、Jeffrey Byers Best Poster Award、Hiroshi Ito Student Award の3つです。Willson 賞は前年の口頭発表、Byers 賞は前年のポスターが対象です。
論文はどこで読めますか？
発表と原稿は SPIE Digital Library の Conference Proceedings に掲載され、会期後に正式公開されます。過去年の proceedings も SPIE Digital Library で読めます。