SemiMapサイト内検索

Tier A 露光 / パターニング / 配線 / 量産

MNE 2027International Conference on Micro and Nano Engineering

今の状態

現在
開催予定
段階
  1. 開催前
  2. 開催中
  3. 終了
次
2027年9月20日〜23日開催開幕まであと340日オランダ・ロッテルダム
次の一手
投稿の日程と参加登録の案内は公式サイトにあります。公式サイト
日程
  1. 開催

近い学会との違い

  • EIPBNAe-beam、ion beam、optical lithography、nanoimprint
  • SPIE ALPSHigh-NA EUV、mask、resist、metrology
  • SPIE EtchAetch、pattern transfer、ALE、plasma
  • IEEE MEMSSsensors、actuators、microfabrication、integration
  • IEEE-NANOAnanoelectronics、nanofabrication、spintronics、nanomaterials

どんな学会？

1975年に始まったマイクロ・ナノ加工の国際会議で、欧州各国で開く。国際プログラム委員会が口頭とポスターの発表を選び、600〜700人規模が集まる。

位置づけ
Tier A サブ分野トップ級・地域主要国際会議 Tierの基準
向いている人
トランジスタ構造、プロセスインテグレーション、新材料の研究開発者、リソグラフィ、配線、量産プロセスの技術者。テーマが合う研究の有力な発表先です。
主なテーマ
  • micro/nano fabrication
  • nanostructures
  • devices
  • lithography
  • MEMS
  • photonics
  • process tools
発表者の所属
2025年 プログラムの筆頭著者の所属（353件） 企業8%大学66%研究機関24%公的機関0% 主な企業：PROFACTOR GmbH、Litho Tech Japan Corporation、micro resist technology GmbH、ATLANT 3D、EV Group
主催
International Micro and Nano Engineering Society / Swiss MNT Network
開始年
1975年
公式情報の目次14項目

会期・会場

MNE 2026は2026年9月21日（月）夕方のwelcome receptionとtutorialで始まり、技術セッションは22〜24日でした。会場はInterlakenのCongress Kursaalで、現地開催です。

詳しく（公式資料5項目）

会期は終了しており、公式サイトは次回をRotterdamのMNE 2027と告知しています。

2026 会期・都市
2026-09-21〜24 / Interlaken, Switzerland MNE 2026 Call for Papers
2026 会場・形式
Congress Kursaal Interlaken、in-person MNE 2026 公式トップ
2026 技術セッション日程
2026-09-22〜24（21日はreceptionとtutorial） MNE 2026 公式トップ
2026 想定参加者
600〜700人（主催者見込み） MNE 2026 公式トップ
2027 会期・都市
2027-09-20〜23 / Rotterdam, The Netherlands（第53回） MNE 2027 公式サイト

投稿・締切

投稿はEx Ordoのみで受け付け、200語以内の短い要約と2ページ（A4）のPDF abstractを提出します。2026年のabstract締切は5月12日（延長後）、採否通知は6月15日でした。

詳しく（公式資料8項目）

登録著者1人あたり発表できるabstractは2件までで、発表者が会議1か月前までに登録しないと採択abstractはプログラムから外されます。フルペーパーに相当する原稿は会議後にElsevier特集号へ投稿する流れで、2026年の原稿受付は11月1日に始まります。

投稿システム
Ex Ordo（メール投稿不可） MNE 2026 Submission Guidelines
abstract形式
200語以内の要約＋2ページPDF abstract MNE 2026 Submission Guidelines
abstract書式
A4 2ページ、1ページ目は本文のみ、2ページ目に参考文献・図表 MNE 2026 Submission Guidelines
2026 abstract締切（延長後）
2026-05-12 23:59 CEST MNE 2026 Call for Papers
2026 採否通知
2026-06-15 MNE 2026 Call for Papers
発表件数の上限
登録著者1人につきabstract 2件まで MNE 2026 Submission Guidelines
2026 発表者登録期限
2026-08-21（未登録なら採択abstractをプログラムから削除） MNE 2026 Submission Guidelines
2026 manuscript締切（Important Dates）
2026-11-01 MNE 2026 Important Dates

査読・選考

abstractは締切後にInternational Program Committeeが審査し、委員会の推薦にもとづいて口頭またはポスターに割り当てられます。公式ページは口頭とポスターを科学的に同等と位置付けています。

詳しく（公式資料4項目）

投稿時には口頭・ポスター・どちらでも可の希望を指定します。

審査主体
International Program Committee MNE 2026 Submission Guidelines
発表形式の決定
International Programme Committeeの推薦で口頭/ポスターを割当 MNE 2026 公式トップ
口頭とポスターの扱い
科学的に同等 MNE 2026 Submission Guidelines
希望発表形式
oral / poster / either から選択 MNE 2026 Submission Guidelines

対象分野

MNE本体はT1 Methods & Processes、T2 Structures & Devices、T3 Bio、T4 Sustainabilityの4トラックで構成され、2026年は併催のSwiss NanoConvention（SNC）とEuropean Nano Labs（ENL）symposiumが加わりました。T1はEBL・DUV・EUV・レーザーのリソグラフィ、エッチング、lift-off、電解めっき、ALEなどのパターン転写、検査・計測・プロセス制御を扱い、T2は集積回路技術、パッケージングと信頼性など、新規構造・デバイスの設計・集積・評価を受け持ちます。

主なトピック

  • EUV / EBL lithographyT1はEBL・DUV・EUV・レーザーのリソグラフィを募集し、2026年はASMLがEUVのplenaryを担当しました。
  • Nanoimprint lithography2026年はCanon Nanotechnologiesがナノインプリントの高volume製造をテーマにplenaryを行いました。
  • Directed self-assembly2026年はIMB-CNMが半導体デバイス作製向けDSAのinvited講演を行いました。
  • Sustainable semiconductor manufacturing2026年は終日tutorialがSustainable semiconductor manufacturing & life cycle assessmentでした。
詳しく（公式資料7項目）

T2はbiology/environmentを除くとトラック説明に書かれています。

2026 MNEトラック
Track 1 Methods and Processes / Track 2 Structures and Devices / Track 3 Bio / Track 4 Sustainability MNE 2026 Call for Papers
2026 T1 リソグラフィ
EBL、DUV、EUV、レーザーによる2D・3Dリソグラフィ MNE 2026 Scientific Tracks
2026 T1 パターン転写
エッチング、lift-off、電解めっき、ALE MNE 2026 Scientific Tracks
2026 T1 計測・プロセス制御
Inspection, metrology, process control and manufacturability testing MNE 2026 Scientific Tracks
2026 T2 の範囲
新規構造・デバイスの設計・集積・評価（biology/environmentを除く） MNE 2026 Scientific Tracks
2026 T2 半導体関連
Integrated Circuit Technologies、Packaging technology and reliability MNE 2026 Scientific Tracks
2026 併催
Swiss NanoConvention（SNC）とEuropean Nano Labs（ENL）symposium MNE 2026 Program Overview

プログラム

2026年のplenaryには、ASMLによるEUVリソグラフィ、Canon Nanotechnologiesによるナノインプリントの高volume製造、BoschによるMEMS小型化の講演が並びました。invited講演にはIMB-CNMのdirected self-assemblyが入っています。

詳しく（公式資料7項目）

tutorialは半日2本と終日1本で、終日のtutorialは半導体製造の持続可能性とlife cycle assessmentがテーマです。展示はKursaal Concert Hallで会期と並行して開かれ、出展枠は満枠でした。

Hitachi Energy Lenzburgの工場見学も組まれました。

2026 Plenary（ASML）
Jos Benschop: High resolution lithography using EUV – status and prospects MNE 2026 Plenary & Invited Speakers
2026 Plenary（Canon Nanotechnologies）
J. Alexander Liddle: Nanoimprint lithography for high volume fabrication MNE 2026 Plenary & Invited Speakers
2026 Plenary（Bosch）
Heiko Stahl: MEMS miniaturization over the last 40 years at Bosch MNE 2026 Plenary & Invited Speakers
2026 Invited（IMB-CNM）
Francesc Pérez-Murano: directed self-assembly for semiconductor device fabrication MNE 2026 Plenary & Invited Speakers
2026 Tutorial
半日2本＋終日1本（T3: Sustainable semiconductor manufacturing & life cycle assessment） MNE 2026 Tutorial Program
2026 展示
Kursaal Concert Hallで会期と並行して開催、満枠 MNE 2026 Exhibition
2026 工場見学
Factory Visit: Hitachi Energy Lenzburg MNE 2026 公式トップ

発表と委員会の顔ぶれ

2025年 プログラムの筆頭著者の所属（353件）

プログラム

  • 企業8.2%
  • 大学66%
  • 研究機関24.1%
  • 公的機関0.3%
  • 学会・団体0.3%

企業

  1. PROFACTOR GmbH4
  2. Litho Tech Japan Corporation2
  3. micro resist technology GmbH2
  4. ATLANT 3D1
  5. EV Group1
  6. FabuBlox Inc.1
  7. Heidelberg Instruments1
  8. HETEROMERGE Gmbh1
  9. Hitachi1
  10. Hummink1
ほか14社
  1. Imina Technologies1
  2. Ionoptika Ltd1
  3. IQS nano s.r.o1
  4. PragmatIC Semiconductor1
  5. QphoX1
  6. Raith Laser Systems B.V.1
  7. Samsung Electronics1
  8. SCREEN SPE1
  9. Screen SPE Germany GmbH1
  10. STMicroelectronics1
  11. STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles Cedex, France1
  12. UpNano GmbH1
  13. Wooptix1
  14. Zyvex Labs1

国・地域

  1. 英国60
  2. ドイツ42
  3. 日本37
  4. 韓国34
  5. フランス22
  6. 中国18
  7. スペイン17
  8. イタリア16
  9. オランダ16
  10. スイス14
ほか20か国・地域
  1. 台湾12
  2. インド9
  3. オーストリア9
  4. ギリシャ7
  5. デンマーク6
  6. 米国6
  7. トルコ5
  8. スウェーデン3
  9. フィンランド3
  10. ベルギー3
  11. メキシコ3
  12. イラン2
  13. ポーランド2
  14. イスラエル1
  15. カザフスタン1
  16. カナダ1
  17. チェコ1
  18. ポルトガル1
  19. マレーシア1
  20. 香港1

2025年 委員会の所属（6件）

委員会名簿

大学100%

2025年 スポンサー・出展（36団体）

出展者一覧

  • 企業80.6%
  • 大学5.6%
  • 研究機関8.3%
  • 学会・団体2.8%
プラチナ
  • RAITH
  • JEOL
  • Heidelberg Instruments Mikrotechnik
  • University of Southampton
ゴールド
  • STS-Elionix
  • Allresist
  • Elsevier
シルバー
  • Nanoscribe
  • SmarAct
  • GenISys
  • AMO
  • Vistec Electron Beam
ほか24団体
  • EV Group
  • Beamfox
  • amcoss
  • Micro Resist Technology
  • IQS Nano
  • Oxford Instruments
  • scia Systems
  • TOK
  • Mad City Labs
  • UpNano
  • Polyteknik
  • PlanOptik
  • Microlight3D
  • SIJ Technology
  • Korvus Technology
  • ForLab
  • Heteromerge
  • TeamNANO
  • Zyvex Labs
  • FabuBlox
  • Carbon GPT
  • National Oceanography Centre
  • Imperial College London
  • International Micro and Nano Engineering Society

委員会・展示

2026年のConference ChairはPSIのYasin EkinciとEPFLのNako Nakatsuka、Program ChairはPSIのHelmut SchiftとEmpaのMichel Calameでした。ENLのchairにはポルトガルのINESC-MNとフランスのCNRSの研究者が入っています。

詳しく（公式資料7項目）

2026年の展示ではRaith GmbH（Gold Sponsor）、Heidelberg Instruments Mikrotechnik、Nanoscribe、Vistec Electron Beamなどが出展しました。

2026 Conference Chair
Yasin Ekinci（PSI）、Nako Nakatsuka（EPFL） MNE 2026 Organisation
2026 Program Chair
Helmut Schift（PSI）、Michel Calame（Empa） MNE 2026 Program Overview
2026 ENL Chair
Susana Cardoso de Freitas（INESC-MN, Portugal）、Jean-Louis Leclercq（CNRS, France） MNE 2026 Organisation
2026 出展（Gold Sponsor）
Raith GmbH（ブースC） MNE 2026 Exhibition
2026 出展（Bronze Sponsor）
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH（ブース4） MNE 2026 Exhibition
2026 出展（電子線描画）
Vistec Electron Beam（ブース13）、Nanoscribe GmbH（ブース2） MNE 2026 Exhibition
iMNEs President
Urs Staufer（TU Delft） About iMNEs

論文の公開

採択abstractは登録参加者とiMNEs会員がパスワード保護のページや会議アプリで閲覧できます。論文としての出版先はElsevierのMicro and Nano Engineering誌で、2026年は3つの特集号が組まれました。

詳しく（公式資料5項目）

特集号はScienceDirectでのopen accessで、掲載料（APC）はかかりません。

abstractの公開範囲
登録参加者とiMNEs会員向けのパスワード保護ページ・会議アプリ MNE 2026 Paper Submission
2026 特集号
Elsevier Micro and Nano Engineering誌の特集号3件 Elsevier MNE 2026 Special Issues
2026 特集号の掲載料
ScienceDirectでopen access、APCなし Elsevier MNE 2026 Special Issues
2026 特集号の受付期間
2026-11-01受付開始、2027-03-31締切（Editorial Manager） Elsevier MNE 2026 Special Issues
iMNEsの公式誌
Elsevier「Micro and Nano Engineering」「Microelectronic Engineering」 iMNEs Publications

沿革

MNEの源流は、University of CambridgeのHaroon Ahmed教授が1975年に創設し同地で第1回を開いたMicroelectronic Engineering Conference（ME）です。1994年のDavos大会でナノテクノロジーを含める形でMicro and Nano Engineering Conferenceに改称し、2017年にはInternational Steering Committeeがブランドを保有する法人の設立を決めました。

詳しく（公式資料6項目）

直近の開催地はTurin（2021）、Leuven（2022）、Berlin（2023）、Montpellier（2024）、Southampton（2025）、Interlaken（2026）で、欧州各国を巡回しています。スイスでの前回開催はLausanne 2014で、約900人が参加しました。

初回
1975年、Cambridge（Microelectronic Engineering Conference ME） About iMNEs
名称変更
1994年Davos大会でMicro and Nano Engineering Conferenceに改称 About iMNEs
運営法人化
2017年、ブランドを保有する法人の設立を決定 About iMNEs
直近の開催地
Turin 2021、Leuven 2022、Berlin 2023、Montpellier 2024、Southampton 2025 MNE 2026 公式トップ
2025 回次
第51回（Southampton, 2025-09-15〜18） iMNEs トップ
スイスでの前回開催
Lausanne 2014、約900人 MNE 2026 Exhibition

近い学会との違い

iMNEsは米国のEIPBNと日本のMNCをMNEのsister conferencesとしており、MNEは欧州を拠点に開かれます。iMNEsの出版ページは、MEE/MNEがマイクロエレクトロニクスからナノテクノロジーとマイクロシステムへ範囲を広げたと書いています。

詳しく（公式資料3項目）
sister conferences
EIPBN（米国）、MNC（日本） About iMNEs
地理的な重心
地理的な欧州でのMicro and Nano Engineering振興 iMNEs Publications
範囲の変遷
マイクロエレクトロニクスからナノテクノロジー・マイクロシステムへ拡大 iMNEs Publications

参加・活用

学生向けにはtutorialの学生料金があり、2026年はearlybirdでCHF 110でした。Swiss MNT Network PhD AwardやYoung Investigator Award、Micrograph & Nanograph Contestなどの表彰も用意されています。

詳しく（公式資料3項目）

展示はcoffee breakやポスターセッション、交流の時間に回れる配置と、公式ページで説明されています。

2026 tutorial学生料金
CHF 110（earlybird）/ 135（regular） MNE 2026 Tutorial Program
2026 表彰・コンテスト
Swiss MNT Network PhD Award、Young Investigator Award、Micrograph & Nanograph Contest など MNE 2026 公式トップ
2026 展示の配置
coffee break・ポスター・交流の時間に回れる配置 MNE 2026 Exhibition

名称・主催

詳しく（公式資料6項目）
正式名称・回次（2026）
The 52nd International Conference on Micro and Nano Engineering MNE 2026 公式トップ
運営団体
international Micro and Nano Engineering society（iMNEs）、オランダ登記の非営利団体 About iMNEs
iMNEsの主活動
年1回のMNE開催 About iMNEs
開催頻度
毎年9月、欧州の国で開催 MNE 2026 公式トップ
2026 主催・組織機関
Swiss MNT Network主催、PSIが主たる組織機関、EPFLと協力 MNE 2026 Organisation
2026 組織パートナー
PSI、EPFL、Empa、FSRM MNE 2026 Organisation

よくある質問

MNEはどこが運営していますか？

オランダ登記の非営利団体international Micro and Nano Engineering society（iMNEs）が運営します。2026年はSwiss MNT Networkが主催し、PSIが主たる組織機関でした。

次回のMNEはいつ、どこですか？

第53回MNE 2027は2027年9月20〜23日にオランダのRotterdamで開かれます。

投稿はフルペーパーですか？

会議への投稿は200語以内の要約と2ページのPDF abstractで、Ex Ordoから提出します。論文はElsevierのMicro and Nano Engineering誌の特集号へ別途投稿します。

特集号の掲載料はかかりますか？

MNE 2026の特集号はScienceDirectでのopen accessで、article processing chargesはかかりません。

MNEはいつから続いていますか？

1975年にCambridgeで始まったMicroelectronic Engineering Conferenceが源流で、1994年に現在の名称へ改称しました。2026年が第52回です。

近い会議はありますか？

iMNEsは米国のEIPBNと日本のMNCをMNEのsister conferencesとしています。

公式資料

  1. MNE 2026 公式トップ 公式サイト
  2. MNE 2026 Call for Papers 募集要項
  3. MNE 2026 Important Dates 募集要項
  4. MNE 2026 Scientific Tracks 募集要項
  5. MNE 2026 Submission Guidelines 募集要項
  6. MNE 2026 Paper Submission 募集要項
  7. MNE 2026 Program Overview プログラム
  8. MNE 2026 Plenary & Invited Speakers プログラム
ほか8件
  1. MNE 2026 Tutorial Program プログラム
  2. MNE 2026 Exhibition スポンサー・展示
  3. MNE 2026 Organisation 委員会
  4. Elsevier MNE 2026 Special Issues 論文集
  5. MNE 2027 公式サイト 公式サイト
  6. iMNEs トップ 主催学会
  7. About iMNEs 沿革
  8. iMNEs Publications 主催学会