ドライ酸化｜前工程 › 酸化・拡散 › 熱酸化

ドライ酸化は、酸素ガスだけを流した高温の炉でシリコン表面を酸化させ、酸化シリコンの膜を育てる熱酸化である。水蒸気を使うウェット酸化より成長が遅いため厚い膜には時間がかかるが、そのぶん薄い膜の厚さを合わせやすい。できる膜はち密で品質が高く、ゲート絶縁膜のような薄く高品質な膜を作る工程に使われる。