ウェット酸化前工程 › 酸化・拡散 › 熱酸化
ウェット酸化は、水蒸気を酸化種にして高温の炉でシリコン表面を酸化させ、酸化シリコンの膜を育てる熱酸化である。水分酸化やパイロジェニック酸化とも呼ばれる。酸素ガスだけを使うドライ酸化に比べて膜の成長が速いので、素子分離に使う厚い酸化膜も短い時間で得られる。一方で膜中に水酸基が多く残り、絶縁破壊電界はドライ酸化の膜より低い。
分類上の位置
Section titled “分類上の位置”熱酸化の下にある工程で、同じ分類にはほかに2工程がある。
ウェット酸化は、水蒸気を酸化種にして高温の炉でシリコン表面を酸化させ、酸化シリコンの膜を育てる熱酸化である。水分酸化やパイロジェニック酸化とも呼ばれる。酸素ガスだけを使うドライ酸化に比べて膜の成長が速いので、素子分離に使う厚い酸化膜も短い時間で得られる。一方で膜中に水酸基が多く残り、絶縁破壊電界はドライ酸化の膜より低い。
熱酸化の下にある工程で、同じ分類にはほかに2工程がある。