真空蒸着｜前工程 › 成膜 › PVD（物理気相成長）・スパッタ

真空蒸着は、材料を加熱や電子ビームで蒸発させ、真空中を飛んだ原子や分子を基板に付着させて膜を作るPVDの一方式である。蒸発した粒子はほぼ直進するため方向性の強い膜になり、レジストの上に積んだ膜をレジストごと剥がすリフトオフに適している。反面、深い穴や側壁を全面に覆う用途には向かず、残したい膜の位置に応じてスパッタやCVDと使い分ける。