イオンビーム成膜（IBD）｜前工程 › 成膜 › PVD（物理気相成長）・スパッタ

イオンビーム成膜（IBD）は、イオン源で作ったイオンビームをターゲットに当てて原子を弾き出し、離れた位置の基板へ積もらせるPVDの一方式である。プラズマをイオン源の中に閉じ込め、基板側の圧力を低く保てるため、緻密で不純物の少ない膜を得やすい。成膜速度はマグネトロンスパッタより遅いが、膜厚と界面の精度が求められる光学多層膜や磁気ヘッドなどの用途で使われる。