KrF露光（フッ化クリプトンエキシマ露光）｜前工程 › リソグラフィ › 露光 › DUV露光（深紫外線露光）

KrF露光（フッ化クリプトンエキシマ露光）は、フッ化クリプトンのエキシマレーザが発する深紫外線を光源にして、マスクのパターンをレジストへ転写する露光である。ArF露光より波長が長く解像力では劣るが、そこまで細かい寸法を要しない層を低いコストで露光する用途に使われる。DUV露光の一種で、専用の化学増幅型レジストと組み合わせて用いる。